【課題】フラッシュメモリの高誘電率材料を均一にコーティングするのに有用な金属前駆体を提供する。
【解決手段】チタネート薄膜の原子層堆積（ＡＬＤ）及び化学蒸着（ＣＶＤ）に有用なバリウム、ストロンチウム、タンタル及びランタン前駆体組成物。前駆体は、式Ｍ（Ｃｐ）_２で表され、式中、Ｍはストロンチウム、バリウム、タンタル又はランタンであり、Ｃｐは、特定のシクロペンタジエニルであり、官能基を有するペンダントリガンドが、金属中心Ｍにさらに配位する。 （もっと読む）

【課題】 銅または銅合金とニッケルを同時に有する電子基板から銅または銅合金をエッチングする工程において、使用時の泡立ちが少なく、銅または銅合金のエッチングを高選択的に行うことができるエッチング液を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金とニッケルを同時に有する電子基板から銅または銅合金を選択的にエッチングする工程用のエッチング液であって、鎖状アルカノールアミン（Ａ）、酸基を分子内に有するキレート剤（Ｂ）、および過酸化水素（Ｃ）を必須成分とする銅または銅合金用エッチング液を使用する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ電子デバイスの製造に使用されるイオン注入装置の真空室やビームラインの構成部品からの残留物を洗浄する。
【解決手段】残留物を有効に除去するため、構成部品は、残留物を少なくとも部分的に除去するのに十分な時間の間かつ十分な条件下で、気相反応性のハロゲン化物組成物と接触させられる。気相反応性のハロゲン化物組成物は、残留物と選択的に反応し、一方で、真空室のイオン源領域の構成部品と反応しないように選択される。 （もっと読む）

【課題】ガスと蒸発材料との接触を促進する方法及び装置を提供する。
【解決手段】蒸発器（１１０)から蒸発器（１１０)に結合された処理設備（１２０)に所望のガスを送出するシステム（１００)を含む、ガスと蒸発材料との接触を強化する装置及び方法。蒸発器（１１０)が、材料を蒸発させ、蒸発器（１１０)に結合されたガス源（１３０)からガスを受けとり、受けとられたガスと蒸発材料との接触から生じたガスを処理設備（１２０)に送出するのを助ける。蒸発器（１１０)が、受けとられたガスと蒸発材料との接触を促進するのを助けるために、蒸発すべき材料の露出表面積を増加させるのを助けるよう、蒸発すべき材料を支える。蒸発器（１１０)が、受けとられたガスと蒸発材料との接触を促進することにより、比較的より高い流量で、得られたガスを処理設備（１２０)に送出するのに使用されることがある。 （もっと読む）

【課題】流体を低圧用途に分配するための低圧の吸着体ベースの流体貯留および分配容器を使用する際における流体利用率を最大にする改良された方法の提供。
【解決手段】容器内にナノ多孔質炭素吸着体２０を保持する流体貯留および分配装置１０で、１つの実施態様は脱硫用途、別の実施態様は塩素ガスなどの貯留である。配置構成では複数の多孔質炭素物品が移動しないように拘束するために位置安定化構造が用いられる。制御された方法で酸素と反応するシランを貯留するために炭素吸着体を使用する赤外線放射デバイスについて、吸着体の抵抗および／または誘導加熱によって炭素吸着体が残留流体を脱着する配置構成は、炭素吸着体を膨張剤と接触させ、続いて炭素吸着体を加圧したガス状浸透剤と接触させて、膨張剤および浸透剤を除去することにより、多孔質炭素吸着体の充填能力を増加させる方法。 （もっと読む）

【課題】原価、使用の容易性ならびに性能特徴に著しい利点を提供する高効率吸着材料を利用する流体貯蔵ならびに計量分配システムを提供する。
【解決手段】吸着性流体の吸着親和性を有する固相物理的吸着媒体を保持するよう、また吸着性流体を選択的に流入ならびに流出させるよう構成、配置された貯蔵ならびに計量分配用容器からなる。この流体の吸着親和性を備える固相物理的吸着媒体は、内部気体圧力で前記貯蔵ならびに計量分配用容器に配置し、そして流体を前記固相物理的吸着媒体上に物理的に吸着させる。計量分配アセンブリーは前記貯蔵ならびに計量分配用容器と気体流れ連通して連結される。この計量分配アセンブリーは、前記貯蔵ならびに計量分配用容器の外部に、内圧以下の圧力を供給して、前記固相物理的吸着媒体からの流体の脱着と、脱着流体の前記計量分配アセンブリーを通る流体に流れを起こさせる。 （もっと読む）

【課題】徴候型電子デバイス製品の製造に使用される高純度液体試薬及び化学機械的研磨組成等の化学試薬及び組成を保存し、分配するために、分配作業中に閉じ込められた液体が涸渇するか、涸渇に近づいている場合、空の状態又はほぼ空の状態を検出する機能を有する流体供給システムを提供する。
【解決手段】ディスペンサから分配された材料を使用する下流のツールへの材料を流すために、供給パッケージとサーボ油圧分配ポンプの中間で分配された材料を監視するか、周期的なスケジュールで補給されているディスペンサ内で、ディスペンサ室の補給時間を監視する圧力変換器を含む、空検出構成を使用する流体送出システムである。 （もっと読む）

【課題】多種類の半導体ガスの貯蔵、供給装置を低圧で小型化する。
【解決手段】直方体形状の流体貯蔵・計量分配容器５０，５２を含む流体貯蔵・計量分配装置及び、こうした流体貯蔵・計量分配装置および／または使用時換気ガス清浄器６１を、換気されたガスキャビネット２０内に含む一体型ガスキャビネットアセンブリを開示する。たとえば、ガスキャビネット２０から供給された処理ガスが、有毒又は有害な特性のものである場合、ガスキャビネット２０は、物理的吸着剤及び化学吸着媒体の使用によって、運転の安全面で強化されることが可能である。 （もっと読む）

【課題】
流体貯蔵・計量分配装置であって、内部容積を有する流体貯蔵・計量分配容器として内部容積は流体を吸着して保持する物理的吸着剤を含みかつ容器から計量分配するために流体は該吸着剤から脱着可能である容器と、脱着された流体を容器から計量分配するため容器に結合された計量分配アセンブリと、を含んでいる。
【解決手段】
物理的吸着剤はモノリス炭素質物理的吸着剤を含み、該モノリス炭素質物理的吸着剤は、（ａ）アルシンガスについて２５℃、圧力６５０トルで測定した充填密度がアルシン４００ｇ／吸着剤１Ｌより高い充填密度であり、（ｂ）吸着剤の気孔率全体の少なくとも３０％は、約０．３〜約０．７２ｎｍの範囲のサイズのスリット形状の気孔を含み、並びに気孔率全体の少なくとも２０％は、直径２ｎｍ未満のミクロ細孔を含んでおり、（ｃ）１０００℃未満の温度で、熱分解及び随意的活性化により形成されており、約０．８０〜約２．０ｇ／ｃｍ^３のかさ密度を有する、という特性のうち少なくとも１つを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 銅または銅合金とニッケルを同時に有する電子基板から銅または銅合金をエッチングする工程において、銅または銅合金のエッチングを高選択的に行うことができるエッチング液を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金とニッケルを同時に有する電子基板から銅または銅合金を選択的にエッチングする工程用のエッチング液であって、酸基を分子内に有するキレート剤（Ａ）、過酸化水素（Ｂ）、およびオキシエチレン鎖を分子内に有する界面活性剤（Ｃ）を必須成分とする銅または銅合金用エッチング液。 （もっと読む）