説明

株式会社ゼビオスにより出願された特許

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【課題】基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板の上面と下面の両方又は下面のみに、水による洗浄処理、薬液による化学的処理、水によるリンス処理又は空気、窒素ガスといった気体による乾燥処理のいずれかの処理を行う、複数の基板処理ユニット7、8、9を備えてなる基板処理装置が、基板1の下面に向かって水、薬液、空気、窒素ガスといった流体を噴出して、基板1を浮上させ、基板1の下面に非接触でその位置を保持する、複数配置された基板浮上ユニット10と、基板1の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して、基板1を移動させる複数配置された搬送ローラー12を有する基板搬送ユニットと、を備えている。 (もっと読む)


【課題】粉体の供給を簡単な構造で実現する。
【解決手段】粉体供給装置12は、粉体YA1を収容すると共に、粉体YA1を供給先である粉体散布装置11に供給する供給口28aを有する耐圧容器20と、この耐圧容器20内に間欠的な圧力を加える第1の送気手段22と、耐圧容器20内に連続的な圧力を加える第2の送気手段23と、第1および第2の送気手段22,23を制御して耐圧容器20内に間欠的な圧力および連続的な圧力を同時に加え、粉体YA1を耐圧容器20内で浮遊させる制御ユニット24と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】リップルのない高圧流水発生によってより均一で高度な洗浄要求に応えることが可能な水圧制御方法を提供すること。
【解決手段】昇圧ポンプA1と該昇圧ポンプA1を駆動するモータA2、及び出力水圧をモニタリングする水圧センサA4などで構成した高圧水発生機構を用いて、水を使用する洗浄装置などに利用する高水圧流水を発生させる方式に於いて、出力すべき設定圧力と出力水圧センサ値とを比較し、比較結果をローパス出力とハイパス出力に分別し、かつそれぞれの出力にゲインをかけ、両出力を駆動モータA2にフィードバックするとともに、前記ゲインをかけた出力で流量制御機構D1を動作させ流量制御機構D1から排水するダミー水流量を調整し、これにより希望する高水圧流水を自由に出力可能にするとともに、水の使用効率を最大限にすることを可能とした。 (もっと読む)


【課題】従来のようなスペーサの体積や重量秤量方式と異なり、新たに帯電量検出フィードバック方式を採用することによって、今後のより一層厳しい要求に応えることが可能な粉体散布装置を提供すること。
【解決手段】秤量ユニットAと、散布チャンバBと、スペーサ圧送配管A5等を有する粉体散布装置に於いて、スペーサを圧送するスペーサ圧送配管A5に散布スペーサ帯電量検出センサA3を設け、該センサA3により配管帯電量、すなわちスペーサ送出量を検出、モニタリングし、送出スペーサ量をフィードバック制御可能としたことを特徴としている。このように、本発明では、散布前にスペーサ散布量を重量や体積などを物理的方式で秤量した後に散布する、あるいは秤量しながら散布する従来方式と異なり、散布スペーサを電気信号としてとらえて制御することとしているため、安定したスペーサの散布が可能である。 (もっと読む)


【課題】1〜10MPa位までの高圧の液体や気体を高速かつ正確にパルス吐出できるとともに、従来の技術と比べて、より少ない純水使用量で洗浄能力を向上させることが可能な高圧高速制御噴射ガンを提供すること。
【解決手段】噴射ノズル(B3)に直結する開閉機構を持つシャッタ機構(B6)と、該シャッタ機構(B6)を直接開閉駆動するソレノイドなどの駆動源(D3、D9)とを一体化し、1〜10MPa位までの液体や気体の高圧力媒体を高速に噴射する可能としたことを特徴とし、これにより1〜10MPa位までの高圧の液体や気体を高速かつ正確にパルス吐出可能にするとともに従来の技術と比べてより少ない純水使用量で洗浄能力を向上させ、更に、シャッタ開閉確認センサ(S3)、漏水センサ(S1)、温度センサ(S2)などを内蔵し高圧高速制御機構の動作及び内部の異常を検知することを可能とした。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽内部のメンテナンス等の際に洗浄用薬品等が作業者や周辺環境に悪影響を与えること及び扉が邪魔になることを防止可能にするとともに、開閉容易であるとともに壊れにくい扉を備えた洗浄槽を提供する。
【解決手段】ワークの洗浄に用いる洗浄槽であって、洗浄槽本体(2)と、該洗浄槽本体(2)の任意の箇所に形成された開口部(204)と、該開口部(204)を開閉するための扉(3)とにより構成され、前記扉(3)は、前記開口部(204)を開閉可能な耐薬品性ビニールシート(4)と、該シート(4)に一定の間隔を置いて略平行に装備された、両端にベアリング(6)が装着された複数本のシャフト(5)と、該シャフト(5)間において前記シート(4)に装着された長板状の一対の芯材(7)を備え、一端側のシャフト(5)を他端側へ移動することで、シート(4)をアコーディオン式に開閉自在とした。 (もっと読む)


【課題】洗浄エリアにおける洗浄液、洗浄ガスが非洗浄エリアへ漏れ出すことを確実に防止可能としたワーク搬送装置を提供すること。
【解決手段】ワークの洗浄に際してワークを搬送するためのワーク搬送装置であって、隔壁3と蓋によって外部から隔離された処理槽内に配設される、それぞれにローラーを備えたローラー搬送軸5と、該ローラー搬送軸5の先端部に装着された被動側マグネット11と、前記処理槽の外側において、前記隔壁3に形成した貫通孔14を閉鎖した薄膜13を介して、前記被動側マグネット11に対向する配置で配設された駆動側マグネット15と、該駆動側マグネット15に連結した駆動軸20と、ウォームギヤ21を介して駆動軸20に連結された伝達軸と、伝達軸が連結されたモーターと、を備えた。 (もっと読む)


【課題】従来のようなスペーサの体積や重量秤量方式と異なり、新たに帯電量検出フィードバック方式を採用することによって、今後のより一層厳しい要求に応えることが可能な乾式スペーサ散布方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 秤量チャンバ、スペーサ圧送配管を有する乾式スペーサ散布装置に於いて、散布スペーサの帯電量をモニタリングする散布スペーサ帯電量検出センサを設け、散布開始と同時に前記センサにより帯電量をモニタリングし、フィードバックされたモニタ値が設定散布帯電量に達するまでスペーサの散布を継続し、モニタ値が設定散布帯電量に達したときに散布を終了することを可能にしたことを特徴としている。このように、本発明は散布スペーサを電気信号として取られて散布量を制御可能としているため、従来のようなスペーサの体積や重量秤量方式と異なり、安定したスペーサの散布が可能である。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物上に洗浄液の被膜が形成されることを防止するとともに、被洗浄物上への洗浄液及び異物の逆流をも防止可能とした洗浄方法を提供すること。
【解決手段】被洗浄物に対して連続して洗浄液を吹き付ける洗浄方法において、流速14〜17m/secにおいて高圧の洗浄液を連続して被洗浄物に吹き付けるとともに、この連続して吹き付けている洗浄液を20〜50c/secの周期で流速100〜120m/secまで上昇させ、洗浄液に強弱を加えることを特徴としている。従って、本発明では、洗浄液に強弱を加えることによって被洗浄液に吹き付けられた洗浄液を吹き飛ばすために被洗浄物上に洗浄液の被膜が形成されることがなく、また、非洗浄物に対して連続して洗浄液を吹き付けているために被洗浄物に打ち当てられた洗浄液を常に除去した異物等とともに被洗浄物上から流すことができ被洗浄物上への逆流を防止可能である。 (もっと読む)


【課題】洗浄装置を大きくすることなく、ウエハ、ガラス、金属等に付着した有機物や異物を確実に除去することを可能にする。
【解決手段】液体を加熱して水蒸気を生成するための第1の加熱手段(3)と該第1の加熱手段(3)により生成された水蒸気を更に加熱することにより亜臨界の放射性ガスを製造するための第2の加熱手段(4)とを具備した放射性ガス生成手段(2)と、該放射性ガス生成手段(2)により製造された放射性ガスを被洗浄物上に噴射するためのガス噴射手段(5)と、被洗浄物上に洗浄水の被膜を形成するための洗浄液供給手段(6)とを備え、放射性ガス生成手段(2)により亜臨界の放射性ガスを生成するとともに、搬送手段により搬送されてきた被洗浄物上に洗浄水の被膜を形成し、この洗浄水の被膜上から前記被洗浄物に前記放射性ガスを吹き付けることを特徴とする。 (もっと読む)


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