説明

財団法人大阪産業振興機構により出願された特許

101 - 110 / 168


【課題】本発明は、クロムを含まない溶液を用いて簡便かつ安価に陽極酸化アルミニウムを作製する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するため、本発明は、アルミニウム金属又はアルミニウム合金製品の表面に規則化ナノホール構造を作成するにあたり、
(1)アルミニウム金属又はアルミニウム合金製品の表面を陽極酸化して多孔質酸化アルミニウム層を形成する工程と、
(2)上記多孔質の酸化アルミニウム層をリン酸溶液中に浸漬し、選択的にエッチングして除去する工程と、
(3)上記多孔質の酸化アルミニウム層を除去した表面を再度陽極酸化してアルミニウム金属又はアルミニウム合金製品の表面に規則化ナノホール構造とする方法であって、
上記リン酸溶液がCr成分を含まず、リン酸溶液への浸漬により不動態被膜を形成することができる金属塩または金属酸化物を含むことを特徴とする方法にある。 (もっと読む)


【課題】優れた細胞接着性及び細胞伸展性を有し、3次元形状を有するペプチド材料を提供すること。
【解決手段】ペプチドファイバーの集合体であって、ペプチドファイバーが、βシート部分と細胞接着性部分を有し、βシート部分が、10〜50個のアミノ酸からなるβシート形成性ペプチド鎖が並んだ構造であり、細胞接着性部分が特定のアミノ酸配列を含んでおり、前記βシート形成性ペプチド鎖のN末端又はC末端と、前記特定のアミノ酸配列のN末端及びC末端から選ばれる少なくとも1端とが、直接或いはスペーサーを介して共有結合しており、式1:含水率(%)=(含水質量−絶対乾燥質量)/含水質量 × 100で求められる集合体の含水率が80%以上である集合体。 (もっと読む)


【課題】複雑な反応装置を必要とすることなく、副生成物が生じることのない、乾燥ハロゲン化水素の製造方法を提供する。
【解決手段】光の照射下、分子状ハロゲンを水素含有化合物と接触させることによってハロゲン化水素を生成することを特徴とする、乾燥ハロゲン化水素の製造方法、および、分子状ハロゲンを水素含有化合物と接触させた状態で、光を照射した後に、基質を反応系に加えることによって、基質とハロゲン化水素が反応することを特徴とする、基質にハロゲン化水素を反応させる方法。反応系にパーフルオロアルカンが存在することが望ましい。 (もっと読む)


【課題】 板状体同士を強粘着シートによって面接着した複合板状体において、簡易な設備で、板状体を傷つけず、また、強粘着シートを板状体に残存させることなく強粘着シートを剥離し、板状体を有効に再利用可能にする方法の提供。
【解決手段】 少なくとも一方が特定波長のレーザー光を透過する板状体からなる一対の板状体を対向して粘着シートにより貼着した複合板状体から粘着シートを剥離する方法であって、前記複合板状体の前記レーザー光を透過する板状体面に対して、前記特定波長のレーザー光を照射することを特徴とするレーザー光を用いた粘着シートの剥離方法である。 (もっと読む)


【課題】過酷な腐食環境下での使用に耐え得る厚い陽極酸化皮膜を有するアルミニウム材及びこのような厚い陽極酸化皮膜を短時間で形成することができるアルミニウム材の陽極酸化皮膜形成方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム材を酸性浴中で電解することにより、該アルミニウム材の表面に陽極酸化皮膜を形成するアルミニウム材の陽極酸化皮膜形成方法において、電解処理を、直流電流に交流電流を重畳させて印加し、経時的に電流密度を制御することにより行い、これによって、表面に膜厚150μm以上の陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム材を得る。 (もっと読む)


【課題】試料ドリフトによるモーションぼけを防止し、分解能の高い観察画像を得ることが可能な試料ドリフト補正装置、これを備えた結像光学システム、及び試料ドリフト補正方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光または電子ビームを試料に向けて照射し、試料を通過した光または電子ビームを結像して受像面に像を形成するとともに、当該像を撮影する結像光学装置に取り付けられる試料ドリフト補正装置であって、像の連続ビデオフレーム画像から、1ビデオフレーム画像間の移動ベクトルまたはある1ビデオフレーム画像と基準ビデオフレーム画像との間の移動ベクトルを算出し、各ビデオフレーム画像に移動量補正を施した後、補正後の各ビデオフレーム画像を積算することで、試料の観察画像を得る演算部と、撮影手段による1ビデオフレーム周期に同期して、1ビデオフレーム周期の10000分の1〜3分の1の短い時間に光または電子ビームを試料に照射させる制御部とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 超臨界状態若しくは亜臨界状態の水熱反応において、生成物の収率が高く、しかも触媒の回収、再生が容易な触媒と、この触媒を用いた分解方法を提供する。
【解決手段】 本発明のリン酸ジルコニウムを用いると、生成物の収率が高く、しかも触媒の回収、再生が容易である。 (もっと読む)


【課題】 カテーテル後部部分をカットしても内筒が外筒から抜け出ない構造のスライド式ダブルルーメンカテーテルを提供する。
【解決手段】 外筒2と、外筒2内にスライド可能に挿入されて外筒2内壁との間に流路用間隙Xを画成する内筒3と、内筒3の先端部に設けられて内筒3を外筒2に引き込むことにより流路用間隙Xを塞ぐ拡径部4と、内筒3の外周面に設けられた係止部5と、外筒2の内周面に設けられて係止部5が係止する被係止部6と、を有し、係止部5は、流路用間隙Xの流路を確保するための通路が形成され、且つ、内筒3を外筒2から所定長さ押し出したときに外筒2の被係止部6に係止するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】抗生物質生産の調整に関与するホルモンの製造に使用できる組換えベクターの提供。
【解決手段】下記(A)および(B)のいずれかのDNAからなる遺伝子が挿入された組換えベクターとする。
(A) 特定の塩基配列からなるDNA(B) 前記(A)の塩基配列において1個もしくは数個の塩基が欠失、置換または付加された塩基配列からなり、且つ、下記式(1)で表される反応の触媒活性を有するタンパク質をコードするDNA。
(もっと読む)


【課題】 十分な成膜速度と膜の均一性の双方を満たし、低温でのエピタキシャル成長を実現する、新たな大気圧プラズマCVD法による無転位のエピタキシャルSi膜の製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧下、電極と基板との間にプラズマを発生させ、前記基板表面に、エピタキシャルSi膜を成膜するエピタキシャルSi膜の製造方法において、前記電極として、平均孔径5〜30μm、厚み10mm未満の、炭化ケイ素および炭素の少なくとも一方からなる多孔質体を使用し、この孔を通じて、前記電極と基板との間に導入する。また、前記電極の表面は、厚み20nm以上のSi膜で被覆し、前記電極上に、前記Si膜を介して放熱板を配置し、前記電極と前記基板との間の距離を、前記電極に投入する電力の周波数が10〜300MHzの場合、0.25mm〜2.5mmの範囲とする。 (もっと読む)


101 - 110 / 168