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Fターム[2C057AP31]の内容

インクジェット(粒子形成、飛翔制御) (80,135) | ヘッドの製造 (18,267) | 加工方法 (12,269) | エッチング使用 (2,606)

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【課題】 SOG膜は、スパッタ法や化学蒸着法などで設ける絶縁層と異なり、インクに対して溶解しやすい性質を有している。そのため一箇所でもSOG膜がインクの流路に露出すると、その部分から溶出してしまい絶縁層等の剥離が生じることが懸念される。
【解決手段】 第2の絶縁層15の平坦部が露出するまでSOG層16をエッチングし、第2の絶縁層15の凹凸形状の凸部の角部にのみSOG材料からなる傾斜を緩和する部分16aが位置するように設ける。 (もっと読む)


【課題】インク保護膜が剥離しにくく、接着不良を起こしにくいシリコンノズル基板を得る。
【解決手段】シリコン基板44を貫通させて形成したノズル孔21を有し、吐出面15側からノズル孔21を介してインクの液滴を吐出するシリコンノズル基板1であって、吐出面15は平面視でノズル孔21を含み表面に撥水膜43が形成されている撥水領域11と撥水領域11を囲む環状の領域である非撥水領域12とに区画されており、撥水領域11には撥水膜43とシリコン基板44との間にインク保護膜41が形成されており、非撥水領域12にはインク保護膜41が薄く形成されているか又は全く形成されておらず、シリコン基板44の端面13にはインク保護膜41が全く形成されていないことを特徴とするシリコンノズル基板1。 (もっと読む)


【課題】親水処理の為の専用装置無しにフォトリソグラフィーにより容易に親水被膜を形成する方法及びその方法により形成された親水被膜を提供すること。
【解決手段】1)第一のカチオン重合性樹脂と第一の光酸発生剤とを含む第一の被覆樹脂層を基材上に形成する工程と2)主鎖に酸により分解可能な結合を含む第二のカチオン重合性樹脂と紫外線を含む活性エネルギー線を照射することによりメチド酸を発生する第二の光酸発生剤とを含む第二の被覆樹脂層を該第一の被覆樹脂層に積層する工程と3)該第一及び該第二の被覆樹脂層に該活性エネルギー線を露光し現像することで該第一及び該第二の被覆樹脂層を硬化して被膜を形成する工程と4)該被膜を熱処理することで該被膜表面を親水化して親水被膜を形成する工程とを含む親水被膜の形成方法および親水被膜。 (もっと読む)


【課題】長期にわたって高精度で液滴を吐出できる吐出ヘッド及び吐出装置、その吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】ノズル孔22はシリコン基板やガラス基板等の無機基板に形成されるので、位置精度が高いだけではなく、耐久性も高い。吐出ヘッド20の吐出口23が位置する表面には、ダイヤモンド薄膜32が形成されているので、吐出ヘッド20の耐久性が高いだけでなく、撥液性も高い。吐出液が吐出ヘッド20表面で広がらないので、吐出液の吐出精度が高い。 (もっと読む)


【課題】親水処理の為の専用装置無しにフォトリソグラフィーにより容易に親水被膜を形成する方法及びそれより得られる親水被膜を提供すること。
【解決手段】1)主鎖に酸により分解可能な結合を含むカチオン重合性樹脂と紫外線を含む活性エネルギー線を照射することによりアンチモン酸又はアンチモン酸よりも酸強度が弱い酸を発生する光酸発生剤とを含む被覆樹脂層を基材上に形成する工程と2)該エネルギー線を照射することによりアンチモン酸よりも酸強度が強い酸を発生する光酸発生剤とこの光酸発生剤を保持し工程3で除去可能な保持体とを含む光酸発生剤保持層を該樹脂層に積層する工程と3)該保持層及び該樹脂層に該エネルギー線を露光し現像して該保持層を除去し該樹脂層を硬化させる工程と4)この樹脂層を熱処理することで表面を親水化して親水被膜を形成する工程とを含む親水被膜の形成方法及び親水被膜。 (もっと読む)


【課題】チャック用フィルムを形成する際に生じる空隙を低減して減圧下での該フィルムの剥がれを低減するとともに安定的な静電チャック行う際に十分な平坦性を該フィルムの表面に形成する保護層付き基板の製造方法及び基板加工方法を提供する。
【解決手段】複数の構造体がそれぞれ間隔をあけて表面に配された基板11に保護層16を形成する保護層付き基板の製造方法であって、保護層は樹脂層14とチャック用フィルム15とから構成され(1)各構造体間、各構造体表面、および、複数の構造体を有する基板面に、樹脂層を形成する工程と(2)樹脂層上にチャック用フィルムを形成し、保護層を形成する工程とを少なくとも含むことを特徴とする保護層付き基板の製造方法。および保護層付き基板を用いた基板加工方法。 (もっと読む)


【課題】吐出品質と信頼性が向上したシリコンノズルプレートを得る。
【解決手段】第1の酸化シリコン膜41を挟んで貼り合されたシリコン支持基板46とシリコン層48とを含むSOI基板40のシリコン層48及び第1の酸化シリコン膜41をエッチングしてシリコン支持基板46に達するノズル孔21を形成する第1工程と、SOI基板40を加熱して、ノズル孔21の内壁面14を含むシリコン層48の表面に第2の酸化シリコン膜42を形成し、かつ第1工程により露出したシリコン支持基板46の表面に第3の酸化シリコン膜43を形成する第2工程と、SOI基板40のシリコン層48側の面に支持部材55を貼り合せる第3工程と、SOI基板40をシリコン支持基板46側から薄板化して、シリコン支持基板46を除去する第4工程と、第3の酸化シリコン膜43を除去してノズル孔21を開口させる第5工程と、を有するシリコンノズルプレート1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】信頼性が向上した圧電素子等を提供すること。
【解決手段】本発明に係る圧電素子は、第1の面16において、第1の凹部14を有する振動板10と、第1の凹部14内に形成され、上面に第2の凹部26が形成された第1電極20と、振動板10および第1電極20の上に形成された圧電体層30と、圧電体層30の上に形成された第2電極40と、を含む。 (もっと読む)


【課題】高密度に単分子膜を製造することで、単分子膜の性能を向上させる。
【解決手段】基材300の表面に樹脂層310を形成する樹脂層形成工程と、樹脂層310に凹凸形状312を形成する凹凸形状形成工程と、樹脂層310の凹凸形状310に単分子膜320を形成する単分子膜形成工程と、樹脂層310を加熱し溶融させ、樹脂層310を平坦化する加熱工程と、を有することを特徴とする単分子膜の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】薄膜材と板材とを接着剤接合したクラッド材を用いて板材に開口部を形成するために薄膜材のダンパとして機能する部分の剛性が高くなり、また、薄膜材と接着剤の線膨張率差による変形などが生じ、ダンパ機能が十分に発揮されなくなる。
【解決手段】共通液室10の一部の壁面を形成する可撓性を有する薄膜部材35と、薄膜部材35に接着剤33で接合された薄膜保持部材31とを有し、薄膜保持部材31には、薄膜部材35が接合される面側が広く、前記薄膜部材が接合される面から離れるに従って狭くなる開口部32が形成され、薄膜保持部材31の開口部32が薄膜部材35で封止され、薄膜部材35の開口部32に対応する部分は薄膜保持部材31と接する周縁部のみに接着剤33を有している。 (もっと読む)


【課題】成膜した状態で引張応力膜となっている圧電体を用いた圧電アクチュエータの変位効率を向上させる。
【解決手段】空間部を有する基板の一方の面に設けられた弾性膜と、前記弾性膜の前記空間部上に設けられた圧電素子とを備え、前記圧電素子に電圧が印加されて撓み振動することにより、前記弾性膜を前記圧電素子の撓み方向に変位させる圧電型アクチュエータであって、前記弾性膜は、前記圧電素子が形成される部分に引張応力を有し、前記圧電素子が形成される周辺部分に圧縮応力を有することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】感度及び解像性に優れるポジ型レジストをインクジェットヘッドの製造に適用し、インク流路及びインク吐出口の変形、レジストの残存を生じないインクジェットヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】インク流路パターンを形成する工程が、基板上に少なくともフェノール性水酸基を有する樹脂を含有するポジ型レジストを塗布してポジ型レジスト層を形成する工程と、ポジ型レジスト層をパターニングして不溶化処理前のインク流路パターンを形成する工程と、インク流路パターンの上に少なくともビニルエーテル基を2つ以上有する化合物を含有するコーティング剤を塗布する工程と、コーティング剤が塗布されたインク流路パターンを加熱処理して表面が不溶化処理されたインク流路パターンを形成する工程と、を含むインクジェットヘッドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】信頼性が向上した圧電素子等を提供すること。
【解決手段】本発明に係る圧電素子は、第1の面16において凹部14を有する振動板10と、凹部14内に形成された、第1電極20と、振動板10および第1電極20の上に形成された圧電体層30と、圧電体層30の上に形成された第2電極40と、を含み、第1電極20の上面21は、第1の面16と連続した平面を構成する。 (もっと読む)


【課題】親水性のノズル孔内面と撥水性のノズルプレート表面(吐出面)との境界線を精度良く形成することで、吐出精度を向上させる。
【解決手段】基板の第1の面のノズルを形成すべき位置に非貫通状態の凹形状を形成する工程と、凹形状の表面に第1の膜300を形成する工程と、第1の面の反対面である第2の面にエッチング処理を施し、第1の膜300を凸形状に露出させる工程と、第2の面に第2の膜340を形成する工程と、第1の膜300の凸形状の一部が貫通するまで第1の膜300および第2の膜340をエッチングし孔部を形成する工程と、第2の面側表面の少なくとも孔部の開口部350周辺に撥水性342を付与する工程と、を備えたことを特徴とするノズルプレートの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】インクジェットヘッドの製造時や使用時においてインクが配線基板の内部に流入するのを防止する。
【解決手段】インクジェットヘッドは、インクを吐出するノズル11aと、ノズル11aからインクを吐出するための駆動源となるアクチュエータ15とを、有するノズル基板10と、アクチュエータ15に対して給電するための配線を有する配線基板20と、を備える。配線基板20は、貫通孔21aを有する基板本体21と、基板本体21の下面に形成された下部配線25と、基板本体21の上面から貫通孔21aの内壁に沿って形成され、下部配線25と導通された上部配線23と、を有している。上部配線23,下部配線25には、貫通孔21aに連通する開口部23a,25aが形成されている。 (もっと読む)


【課題】 保護層をエネルギー発生素子毎に独立して設けると、保護層とエネルギー発生素子との間のリーク電流検査を1度で行うことができず液体吐出ヘッド用基板の製造時の検査に時間がかかる懸念がある。
【解決手段】 複数の保護層と電気的に接続し、供給口となる位置に対応する基体の上側に設けられた接続部に接続する検査用端子と、複数のエネルギー発生素子が接続される端子と、の間のリーク電流検査を行った後に、前記接続部を除去して液体吐出ヘッド用基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】 信頼性が高く、識別が容易で、液体吐出ヘッドを簡単な構成で提供することを目的の一つとする。
【解決手段】 エネルギーを発生するエネルギー発生素子を備えた基板と、吐出口に連通する流路の内壁を備えた光透過性の流路壁部材と、基板の表面と流路壁部材との間に基板と流路壁部材とに接し、流路壁部材の光の屈折率と異なる光の屈折率を有する中間層と、を有する液体吐出ヘッドにおいて、前記中間層は、前記吐出口から前記基板に向かう方向に見て、記号の輪郭の形状を有し、前記表面に対して鈍角である第1の角度を成す第1の外端面と、前記流路と対向し、前記表面に対して前記第1の角度より小さい第2の角度を成す第2の外端面と、を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。 (もっと読む)


【課題】容易に製造することができるインクジェットヘッドを提供する。
【解決手段】一つの実施形態に係るインクジェットヘッドは、複数のノズルを有したノズルプレートと、前記複数のノズルからそれぞれインクを吐出させる複数の駆動素子を有するとともに、前記ノズルプレートに対向した基材と、前記ノズルプレートと前記基材との間に介在された枠状部と、前記枠状部の内側に設けられたインク室と、前記インク室内に連通しインクを供給するように前記基材に設けられた供給流路と、前記インク室内に連通しインクを排出するように前記基材に設けられた排出流路と、を備える。前記枠状部は、前記複数の駆動素子に対応するように前記インク室と連通した複数の第1の開口部と、前記複数の第1の開口部の全部に亘るとともに前記複数の第1の開口部と前記排出流路とを接続した一つの第2の開口部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】圧力チャンバの空間を減らすための突出部を備えてインクジェットプリントヘッドの駆動電圧を低めることができ、突出部をSOIウエハーからなる下部基板の上部シリコン層に形成して、製造工程を簡素化したインクジェットプリントヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明はインクジェットプリントヘッド及びその製造方法に関し、本発明によるインクジェットプリントヘッドは、圧力チャンバが形成される上部基板、及び上部シリコン層、絶縁層、及び下部シリコン層を含む下部基板を含み、前記下部基板は前記上部シリコン層からなって、前記圧力チャンバの空間を減らすために前記圧力チャンバ内に突出される突出部を含み、前記上部基板の底面と前記下部基板の前記下部シリコン層の上面が固定されることができる。 (もっと読む)


【課題】流体吐出装置の熱酸化物コーティングを提供する。
【解決手段】流体吐出装置は、流路本体と、第1の酸化物層と、膜と、第2の酸化物層と、を含む。流路本体は、第1の外表面と、その反対側の第2の外表面と、複数の流路であってそれぞれが少なくとも第1の外表面から第2の外表面まで延在する流路と、を有する。第1の酸化物層は、少なくとも流路のそれぞれの内表面並びに流路本体の第1の外表面及び第2の外表面を被覆し、{100}面に沿った厚さの変動が5%未満である。膜は、第1の外表面を有する。第2の酸化物層は、膜の第1の外表面を被覆し、{100}面に沿った厚さの変動が5%未満であり、第1の酸化物層と結合される。 (もっと読む)


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