Fターム[2C057AP33]の内容
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異方性エッチング (609)
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液体吐出ヘッド及びその製造方法
【課題】ノズル近傍の精度を維持しつつ、ノズル内面の耐アルカリ性を確保できる液体吐出ヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】SOI基板の表面Si層の上にSiO2マスク層を形成し、形成したSiO2マスク層にノズル開口に対応するマスク開口を形成する。次に、マスク開口をエッチングして、SOI基板の表面Si層にノズル孔を形成する。次に、流路基板をSOI基板に直接接合し、接合された流路基板上に圧電アクチュエータを形成する。次に、SOI基板のSi基板を除去し、その後、露出したSiO2層を除去する。これにより、表面Si層に形成されたノズル孔が開口する。最後に、露出した表面Si層の表面、及び、ノズル孔の内面にSiO2層を形成する。
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液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法
【課題】振動板材料によって実装工程を変更することなく、厚みや平面精度のバラツキを低減した振動板を形成することができる液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法を得ることを目的とする。
【解決手段】キャビティ基板20となるシリコン基板60の一方の面にエッチングストップ膜61を形成する工程と、シリコン基板60を他方の面側からエッチングストップ膜61までエッチングして、吐出室21となる凹部を形成する工程と、少なくとも凹部の底面に、他方の面側から振動板22となる導電性材料を成膜する工程と、エッチングストップ膜61を除去する工程と、エッチングストップ膜61を除去した後に、シリコン基板60の一方の面に絶縁膜23を形成する工程とを有する。
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液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法
【課題】ダイアフラム部となるパリレン薄膜とリザーバ基板との接触面積及び密着性を十分に確保することが可能な液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法を提供する。
【解決手段】リザーバ基板2になるシリコン基材200の一方の面からリザーバ23となるリザーバ凹部23aをウェットエッチングにより形成する工程と、リザーバ凹部23a内に下地膜としてクロム膜205と金膜205aとを順次形成する工程と、リザーバ凹部23aの内面全体に対してパリレン薄膜111を形成する工程と、反対側の面からパリレン薄膜111が露呈するまでエッチングし、ダイアフラム部100を形成する工程とを備えたものである。
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インクジェットヘッドおよび、インクジェットヘッドの製造方法
【課題】 高価なSOI基板を用いずに高精度で量産性に優れたピエゾインクジェットヘッドを製造する方法の提供。
【解決手段】 シリコン基板Aに圧力室、シリコン基板Bに連通部あるいは吐出ノズル、共通液室となる多孔質部分を陽極化成により形成した(あるいはさらにその部分を酸化した)後に2枚の基板を接合する。次いで基板A側を研磨薄化して振動板を形成し、さらにその上にピエゾアクチュエータを形成する。次いで吐出口やインク供給口を形成して前記多孔質部分まで貫通させ、多孔質部分をウェットエッチング等により除去して流路を貫通させ、インクジェットヘッドを得る。
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液体噴射ヘッド
【課題】圧力発生室毎の液体の吐出性能のバラつきを抑制することが可能な液体噴射ヘッドを提供する。
【解決手段】複数のノズル開口26を列設したノズルプレート25と、ノズル開口26それぞれに連通する圧力発生室35を形成した流路形成基板24と、圧力発生室35を封止する弾性板23と、を備えた流路ユニット17と、弾性板23に当接し、圧力発生室35に圧力変動を与える圧電振動子29を備えた振動子ユニット22と、から構成され、ノズル開口26から液滴を吐出させる記録ヘッドであって、弾性板23は、フィルム41と金属薄板40を積層して構成し、圧力発生室35に対向する金属薄板40に形成したアイランド部43を備え、アイランド部43は、その配列方向の幅を、ノズル開口26側の幅W1よりも圧電振動子29側の幅W2を大きく設定した。
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液体吐出ヘッド、及び液体吐出装置
【課題】 圧電体薄膜素子が液室より長く形成された液体吐出装置において、液室と圧電体薄膜素子が交差する周辺領域で駆動時に破壊が生じてしまうという問題を、簡易な方法で解決すること。
【解決手段】 圧電体素子が液室の短い方の幅より小さく、液室の長い方の長さより長く形成されているインクジェットヘッドにおいて、圧電体素子と液室は、液室の短い方で交差し、かつ液室の短い方が徐々に先細りとなる形状であるようにする。
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流体噴射ヘッドの製造方法、流体噴射装置の製造方法、及びシリコン基板のエッチング方法
【課題】シリコンからなる基板に対して形状ばらつきの少ない凹部を形成可能とする。
【解決手段】第1の酸化膜エッチング工程において、第1の酸化膜エッチング工程(ステップS4)において、エッチングによって酸化膜301に形成される凹部304の側壁部305は、等方性エッチングによって得られる傾斜角αを有する傾斜部307を備え、かつ、該傾斜部307の酸化膜エッチングによる深さ距離L1が、第2の酸化膜エッチング工程(ステップS6)にてエッチングされる酸化膜の深さ距離よりも大きな深さ距離となるようにエッチングされることによって形成される。
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圧電素子、それを用いたインクジェットヘッド及び圧電素子の製造方法
【課題】容易かつ高い精度で製造でき、安価で消費電力の少ない圧電素子を提供すること
【解決手段】基板と、基板上に形成された第1電極と、第1電極上に形成された圧電体膜と、圧電体膜の第1電極が形成された面と反対側の面に形成された第2電極とを有し、第1電極は、基板側の第1層と圧電素子側の第2層とで構成され、第1層を、ウェットエッチングのエッチングレートが前記基板と異なる材料で形成することで上記課題を解決する。
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マスクの製造方法およびマスク製造装置
【課題】マスクの品質を向上させ欠陥を防止するとともに、マスクの生産性を向上させることができるマスクの製造方法およびマスク製造装置を提供する。
【解決手段】原子層堆積法を用い、基板S上にマスク材料の原子を堆積させて原子層堆積膜Aを形成する第一工程と、基板S上の原子層堆積膜Aを選択的に酸化または窒化する第二工程と、を有することを特徴とする。
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インクジェットヘッド基板の製造方法
【課題】生産性や強度の低下を招くことなく、インク供給口の開口幅をより狭くする。
【解決手段】シリコン基板10の表面においてインク供給口が開口される領域に第一のパッシベイション層20を形成し、第一のパッシベイション層20の上に第二のパッシベイション層15を形成する。シリコン基板10の裏面においてインク供給口が開口される領域に開口部22を有するエッチングマスク21を形成し、開口部22の内側に、所定の深さの未貫通孔25を形成する。異方性ウエットエッチングにより、開口部22の内側に凹部を形成し、第一のパッシベイション層20をエッチングストップ層として、凹部の内面を基板表面に達するまで異方性ドライエッチングする。第一のパッシベイション層20を除去する。
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流路部材の構造、液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法、及び画像形成装置
【課題】流路ユニットを構成する流路部材として樹脂層と金属層とからなる少なくとも2層構造の流路部材を使用した液滴吐出ヘッドにおいて、高精度な流路部材間接合が可能となり、安定した吐出特性が得られる流路部材の構造、液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法、及び画像形成装置を提供する。
【解決手段】複数の流路部材を積層した流路ユニットBを備えた液滴吐出ヘッドAにおいて、少なくとも一つの流路部材が樹脂層と金属層との少なくとも2層で形成され、且つ該流路部材を貫通する穴を備えており、金属層に打ち抜き加工にて形成された穴径よりも樹脂層に形成された穴径が大きい。
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圧電素子およびその製造方法、アクチュエータ、並びに、液体噴射ヘッド
【課題】第1基体から第2基体へ転写され、かつ、簡易な配線方法によって配線されることができる圧電素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】圧電素子300の製造方法は、第1基板110の上方に第1電極132、圧電体層135、第2電極136および絶縁層138をこの順で形成し、第2電極136の少なくとも一部が露出し、かつ、絶縁層138が第2電極136に対し上方に突出する突出部138xを有するように、絶縁層138をエッチングする。そして、第2基板211と突出部138xとが接し、かつ、第2電極136と第3電極212とが接するように、被転写体130と第2基体200とを接合させる。
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インクジェット記録ヘッドの製造方法
【課題】インク流路の形状を3次元的に自由に作製可能であり、オリフィスプレートの材料の選択に制約を受けにくく、各構成材料の接合時の高い位置合わせ精度が不要であるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】第一の剛体基板1を用意し、その上に第一の薄膜2を形成した上で、第一の薄膜2にインク流路の一部となる第一のパターンを形成する。一方、第一の剛体基板1とは異なる第二の剛体基板を用意し、その上に第二の薄膜6を形成する。次いで、第一のパターンの形状を有する第一の薄膜2の上に、第二の剛体基板の上に形成された第二の薄膜6を接合し、第二の剛体基板を取り除いた後、第二の薄膜6にインク流路の一部となる第二のパターンを形成する。そして、第二のパターンの形状を有する第二の薄膜6の上に、第三の薄膜7を形成し、第三の薄膜7にインク吐出口8を形成する。
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流路基板の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法
【課題】高精度のノズルを加工形成しつつ、生産性の向上を図ることができる流路基板の
製造方法等を得る。
【解決手段】シリコン基板100の少なくとも一方の面にレジストを形成し、複数のノズ
ル11、複数の第1の凹部12a及び第2の凹部13aになる部分のレジストをエッチン
グしてパターニングを行う工程と、異方性ドライエッチングにより、
複数のノズル11及び複数の第1の凹部12aを形成する工程と、
第2の凹部13aになる部分にダミーパターン115を形成し、ダミーパターン115を
酸化する工程と、酸化した前記ダミーパターンをウェットエッチングで除去して前記第2
の凹部13aを形成する工程とを有する。
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噴射ヘッドの製造方法
【課題】簡略化された方法で歩留まりの高い噴射ヘッドを製造することが可能な噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の噴射ヘッドの製造方法は、第1開口部13が形成された第1基板10と、第1開口部13と連通する第2開口部31が形成された第2基板30とを有する噴射ヘッドの製造方法であって、第1基板10上に貴金属からなる隔離層94を形成する工程と、隔離層94を挟んで第1基板10と第2基板30とを接着する工程と、第1基板10及び第2基板30の隔離層94を挟んで対向する位置に第1開口部13及び第2開口部31を形成する工程と、第1基板10の表面に原子堆積法を用いて保護膜15を形成する工程と、第1開口部13にエッチング材を供給し、第1開口部13と第2開口部31との間に配置された隔離層94を除去する工程と、を備える。
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シリコン製ノズル基板及びその製造方法、液滴吐出ヘッド並びに液滴吐出装置
【課題】ノズル孔が所望の傾斜面を有してノズルが高密度化され、ノズル孔が連続する曲
面で形成されて流路特性が最適化されたノズル基板およびその製造方法等を提供する。
【解決手段】液滴を吐出するためのノズル孔11が、基板面に対して垂直な中心軸11d
を有する回転体の連続曲面で構成され、前記中心軸11dと垂直な断面積が、吐出部11
aから導入部11bにむけて漸増し、前記中心軸11dを含む断面形状が、前記中心軸1
1dを対称軸として線対称な指数曲線11eを有することを特徴とするシリコン製ノズル
基板。
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液体吐出装置の製造方法及び液滴吐出装置
【課題】振動板の破損が少なく、接合性が良好な歩留まりの高い液滴吐出装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜振動板102上にアクチュエータ106を有する流路基板200とノズルプレート114の接合工程において、圧力室と対向していない場所にアクチュエータ106と同程度の部材104を配置しておき、ヤング率が低い平面の加圧部材108を用いて流路基板200とノズルプレート114とに圧力を印加して接合を行う。
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静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、静電アクチュエータの製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法
【課題】高いギャップ精度を有し、低電圧駆動が可能な静電アクチュエータを提供することを目的とする。また、この静電アクチュエータを備えた液滴吐出ヘッドを提供し、併せてこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンで構成された振動板4と、振動板4にギャップを隔てて対向する個別電極10とを備え、振動板4を、個別電極10側と反対側に凸の多段形状とするものである。
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液体吐出ヘッド、画像形成装置、及び液体吐出ヘッドの製造方法
【課題】吐出面の平坦性を向上させ、不良の少ない液体吐出ヘッド、この液体吐出ヘッドを備えるが形成装置及び液体吐出ヘッドの製造方法を提供することにある。
【解決手段】導電層7上のメッキ層によって形成された液室3を有する流路層と、この流路層へのメッキによって形成されかつ前記液室3の天板11となる天板層を有する液体吐出ヘッドにおいて、前記天板11の前記液室3内壁面には前記メッキ層とは異なる導電層8が形成され、この導電層8は複数の前記液室3間で連続して形成されている液体吐出ヘッド。
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液体吐出装置の製造方法及び液滴吐出装置
【課題】振動板の破損が少なく、接合性が良好な歩留まりの高い液滴吐出装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜振動板102上にアクチュエータ106を有する流路基板200と、ノズルプレート114の接合工程において、圧力室と対向していない場所にアクチュエータ106より高さの高い部材104を配置しておき、ビッカース硬度が低い平面の加圧部材108を用いて流路基板200とノズルプレート114とに圧力を印加して接合を行う。
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