【課題】基板を汚染することなく非接触で保持する基板保持装置では、基板の自重によるたわみが発生したり、使用条件の中で回転動作の風圧による基板のたわみが発生するために、各種処理の障害になっている。
【解決手段】基板の上面を所望の面高さに保持したり、あるいは平面度を保持したりするために、基板上面に基板面の高さを測る非接触の変位センサを設置し、また、載せ台上面には複数の溝と障壁を設け、基板と乗せ台の間にエアーを供給してその圧力によって基板の変位を可能として、さらに、変位センサの出力をフィードバックすることで基板を任意の凸，凹形状に変形したり、平面化することを可能とする構造を持つ基板搭載装置。 （もっと読む）

【課題】突起状障害物が内面に存在するパイプラインにおいては、従来技術である検査ピグ等の移動が突起状障害物により妨げられ、内面からの非破壊検査が困難、という課題がある。そこで本発明は、突起状障害物が存在するパイプラインを内部から非破壊で連続検査できる走行式配管検査装置及び走行式配管検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】配管内を走行してパイプラインの検査を内面から行う走行式配管検査装置において、プラグ等の突起状障害物部分を通過するときだけ、障害物に衝突するおそれのあるセンサーを退避させ、通過後に元に戻すことにより、その障害物部分を除き、連続的に且つほぼ全面検査が実施できる。さらに、それに付帯する手段を付加することにより、自己完結的に検査を実行できる走行式配管検査装置及び走行式配管検査方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】検出感度の向上を図ることができるセンサ素子の提供。
【解決手段】センサ素子１は、互いに逆向きに形成された第１の櫛歯電極１３２，１３３および第２の櫛歯電極１３４，１３５を有し、ベース部１４に弾性的に支持されるとともに櫛歯の凹凸方向に振動する振動部１３と、第１の櫛歯電極１３２，１３３と噛合する第３の櫛歯電極１１２，１１３を有し、ベース部１４に固定された固定部１１と、第２の櫛歯電極１３４，１３５と噛合する第４の櫛歯電極１２２，１２３を有し、ベース部１４に弾性的に支持されて外力の作用により櫛歯の凹凸方向に変位する可動部１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】以前の運動予測システムの欠点を解消し、かつ実質的に不変な回転軸を有する移動体の運動を処理するために特に適している方法を提案する。
【解決手段】３本の感知軸を有する少なくとも１つの慣性または磁気センサを備えている移動体の運動の実質的に不変な回転軸を検出するための方法は、前記センサの３本の感知軸に対する、異なる時間での少なくとも３つのサンプルを含む物理測定値を得るステップＥ１０、Ｅ３１と、物理測定値空間内で、実質的に不変な回転軸を予測するステップＥ１１−Ｅ１５、Ｅ３２−Ｅ３４と、前記予測された軸を、運動の実質的に不変な回転軸と同定するステップとを含む。実質的に不変な軸周りで回転する移動体の運動を予測するために特に使用される。 （もっと読む）

【課題】
導電層の電気的応答を最適化する方法、及びその装置を提供する。
【解決手段】
第１の導電材料とは異なる第２の導電材料から形成されている第２の導電層をさらに有するターゲット基板１０６上の第１の導電材料から形成されている第１の導電層の第１の厚さを決定する方法が開示されている。方法は、ターゲット基板１０６を基準にした既定の位置に第１の渦電流センサ１０２を配置することを含み、第１の渦電流センサ１０２は、既定位置に配置されるときにターゲット基板１０６に関して相隔たる関係にある。方法は、第１の渦電流センサ１０２が既定の位置にある間に第１の渦電流センサ１０２を使用して、第１の電圧測定値と第１の電流測定値の少なくとも１つを含む電気的応答の第１のセットを測定することも含み、電気的応答の第１のセットを測定することは第１のターゲット基板１０６温度で実行される。方法は、第１の渦電流センサ１０２が既定の位置に配置される間に第１の渦電流センサ１０２を使用して、第２の電圧測定値と第２の電流測定値の少なくとも１つを含む電気的応答の第２のセットを測定することをさらに含み、電気的応答の第２のセットを測定することは第１のターゲット基板１０６温度とは異なる第２のターゲット基板温度で実行される。また、方法は、少なくとも電気的応答の第１のセットと電気的応答の第２のセットと、第１の導電層の第１の温度係数を使用して電気的応答の第３のセットを計算することを含み、電気的応答の第３のセットは、第１の導電層に実質的に起因する応答を表し、電気的応答の第３のセットから第１の厚さを決定する。 （もっと読む）

【課題】 エアロゾルデポジション法を用いて成膜を行う過程において、精密に膜厚を測定すると共に、膜質の良否を確認することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】 この成膜装置は、原料の粉体を配置するエアロゾル生成部３と、該エアロゾル生成部において、該原料の粉体をガスによって噴き上げることにより、エアロゾルを生成するガスボンベ１及び圧力調整部１ａと、構造物が形成される基板を保持する基板ホルダ６と、エアロゾル生成部において生成されたエアロゾルを基板に向けて噴射するノズル５と、基板上の成膜面における電位を測定する測定部８とを含む。 （もっと読む）