【課題】被検査物の移動により生じる取得画像の、ＸＹＺ座標におけるＺ方向に当たる眼底の深さ方向の変形または変位を低減するために、撮像中における被検査物の移動量を検出する光断層画像撮像装置等を提供する。
【解決手段】被検査物の断層画像を撮像するＯＣＴシステムを備えた光断層画像撮像装置であって、
複数のビームからなる光をＸＹ座標で走査する単一の走査手段と、
前記走査手段により走査される走査角の設定によって、ＸＹ座標で高速に走査する軸方向である、主走査方向に空間分割されると共に該空間分割された境界部分で重なり合う領域を持つように、被検査物に照射する手段と、
前記空間分割された境界部分で重なり合う領域の断層像の、ＸＹＺ座標におけるＺ方向に当たる深さ方向の位置差を求める手段と、
前記求められた前記空間分割された境界部分で重なり合う領域の断層像の深さ方向の位置差から、被検査物の移動量を算出する手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 薄膜構造の特性評価を含む、偏光解析、反射光測定および散乱光測定のための干渉計法を提供する。
【解決手段】検出器上で参照光と干渉するように、或る範囲の角度にわたってテスト物体から出射するテスト光を結像することであって、テスト光および参照光は共通の光源から生成される。それぞれの角度毎に、テスト光がテスト物体から出射する角度に依存する速度で、テスト光および参照光の干渉する部分の間にいて、光源から検出器までの光路長差を同時に変更すること、および、それぞれの角度毎に光路長差を変更しながら、テスト光と参照光との間の干渉に基づいて、テスト物体の光学特性の角度依存性を特定することからなる方法。 （もっと読む）

【課題】干渉計の部品、構成の変更や大掛かりな補正をすることなく、被測定物の複数の被測定個所の寸法を正確に測定できる寸法測定方法を提供する。
【解決手段】光波干渉を用いて、予備値が既知の被測定物の相対向する端面間の寸法を、複数の被測定個所において測定する寸法測定方法であって、平行光線を直進光と参照光とに２分割し、直進光の光路中に、直進光の波面に設定した測定位置と複数の被測定個所のうちの１つとが重なるように被測定物を挿入する設置過程と、直進光が被測定物に反射した反射光を参照光と干渉させ、得られた干渉縞を基に被測定個所の寸法を求める測定過程と、を複数の被測定個所の全てについて実施する。 （もっと読む）

本発明は、軸方向に離間する、供試体（Ｐ）、特に眼（Ａ）の複数の領域（Ｔ_１、Ｔ_２）を測定するためのショート・コヒーレンス干渉計装置に関し、干渉計は、複数の個別の測定ビームが通って供試体（Ｐ）に照射される少なくとも１つの測定ビーム経路、および参照ビームが通る参照ビーム経路（Ｒ）からなり、個別の測定ビーム（Ｍ_１、Ｍ_２）は、参照ビームと重ねられて干渉状態になり、個別の測定ビーム（Ｍ_１、Ｍ_２）は、供試体（Ｐ）に照射されたとき、軸方向距離（ｄ）に適合した量だけ互いに対して軸方向に変位し、干渉計装置（Ｉ）は、干渉するやり方で、個別の測定ビーム（Ｍ_１、Ｍ_２）を参照ビームと重ね、また、ビームをそれぞれの測定ビームに関連した検出器（Ｄ_１、Ｄ_２、．．、Ｄ_Ｎ）へ導き、個別の測定ビーム（Ｍ_１、Ｍ_２、．．、Ｍ_Ｎ）は、参照ビームと重なり、結合されて混合光になり、そこでは、参照ビームと重ねられる際に測定ビームが別々の位相位置を有する。
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【課題】 光測長器で円筒面など一方向に曲率を有する曲面の変位測定を行う場合に、被測定面に存在する微細な凹凸の影響を受けずに、精度よく測定を行うことができるようにする。
【解決手段】 レーザー光源１から出射するビームのスポット径を変更するスポット径調整手段を備えている。したがって、干渉計２から出射され、対物レンズ光学系４により集光される集光ビームは、被測定物体５の表面に大きさ可変な集光スポットＰとして照射される。これにより、集光スポットＰの大きさを集光スポットＰが被測定物体を走査する際に横断する傷等（符号Ｑ）に対し十分大きく設定することで、変位測定信号の乱れを排除できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は両端面干渉計においてより高精度な寸法測定を行う方法および装置を提供することにある。
【解決手段】 光路上に端度器の測長軸を光軸に一致させて配置し、端度器の相対向する端面の両側から各端面に対して直角に光を入射させて光波干渉測定を行う両端面干渉計を用い、端度器の各端面側での干渉縞画像を観測し、観測した各干渉縞画像に基いて相対向する端面間の寸法を測定する寸法測定方法において、両端面干渉計の光路上に被測定物となる端度器を設置し、得られた各干渉画像から被測定物の寸法測定値を求める被測定物測定工程と、干渉計の光学部材に起因した光の波面歪により生じる測定値への誤差を補正するための補正値を取得する補正値取得工程と、補正値取得工程で得た補正値と被測定物測定工程で得た寸法測定値を基に補正された寸法測定値を求める補正工程と、を含むことを特徴とする寸法測定方法。 （もっと読む）

【課題】 被波面測定物の全領域の波面を一度に測定することができる干渉計を提供する。
【解決手段】 干渉計１において、波面変調前の光２１の経路に沿って、偏光ビームスプリッタ２、ファラデーローテータ３、立方体型ハーフミラー４、波面変調器５をこの順に設ける。また、立方体型ハーフミラー４により反射された光の光路に沿って、シャッタ６及び参照ミラー７をこの順に設ける。更に、波面変調器５により反射され、立方体型ハーフミラー４により反射された光の光路に沿って、チューブレンズ１０、結像レンズ１１及びカメラ１２をこの順に設ける。参照ミラー７は、金属板の表面に、空気中における光２１の波長の（１／８）に相当する深さの溝を複数本、相互に平行に形成したものである。これにより、参照ミラー７の凸部により反射された光の位相と凹部により反射された光の位相とが、相互に（π／２）だけ異なる。 （もっと読む）

【課題】 円筒形状の被測定物の形状を素早く計測することができ、水平面内の最大主応力軸を高精度で求めることが可能な測定装置を実現する。
【解決手段】 本発明のレーザ干渉型測定装置は、測定試料としての円筒形状の岩石コア１１を支持する、円周方向に回転可能なサンプルホルダ１２と、岩石コア１１の半径方向に移動可能なナイフ・エッジ１３と、岩石コア１１の側面とナイフ・エッジ１３との間に形成されたスリット１４にレーザ光を出射するレーザ光源１５と、スリット１４を通過したレーザ光の干渉縞を測定するＣＣＤ１６とを備えているから、測定した干渉縞に基づいて、岩石コア１１の側面の円周外形を高い精度で素早く求めることができる。 （もっと読む）

本出願によれば、とりわけ、偏光依存性問題を改善し、光が光源に反射され戻すことを防止するのに役立つ干渉計の実施形態が提示される。干渉計の実施形態は、光源（１０１）に結合されたアイソレータ（４０２）と、アイソレータに結合された、光をリファレンスアーム（１０４）およびサンプルアーム（１０５）に提供するための偏光依存光学素子（４０３）とを含むことができ、光検出器（４１７、４１８）に提供される反射光は、検出器に結合された光信号プロセッサ（４１０）で偏光非依存光信号が形成され得るようなものであり、アイソレータは、リファレンスアームおよびサンプルアームからの反射光が光源に入ることを阻止する。いくつかの実施形態では、平衡検出システムが、雑音を低減するために利用されることができる。
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