【課題】測定対象の特性を簡易に測定可能な測定システムを提供する。
【解決手段】蛍光を発する蛍光体２と、蛍光体２から発せられた後に測定対象である膜１００の特性に依存する変調を波長選択的に与えられた蛍光を受光する光学系１０と、変調を与えられた蛍光の減衰特性を測定する減衰特性測定部３０１と、減衰特性に基づいて、測定対象である膜１００の特性を特定する特定部３０２と、を備える測定システムを提供する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成及び処理系でも精度の高いひずみを検出することができるひずみ測定用シート及びひずみ測定装置を提供すること。
【解決手段】ひずみ測定用シール１０は、複数の目印１１及びこれら目印１１の周辺領域１２の少なくとも一方が印刷される透明な印刷層１３が表面に配された透明な第一層部１４と、接着性を有する第二層部１５と、を備え、第一面１３Ａの反対側の面を第一層部１４の第二面１３Ｂとしたとき、第二面１３Ｂが表側となるように、第一層部１４と第二層部１５とが対向して積層され、第一層部１４及び第二層部１５が、ひずみ測定対象物Ｗに第二層部１５が接着された状態でひずみ測定対象物Ｗの伸びにあわせて変形可能な材質からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 膜濾過工程用現場検出分析装置の提供。
【解決手段】 本発明は光感知装置と駆動装置とデータ処理装置とを備えた膜濾過工程用現場検出分析装置開示する。前記光感知装置は線形の第一アレイに配列される複数の感知素子を含有して、線形の位置にケーキ層の厚み変化に関する信号を検出する。前記駆動装置は前記光感知装置は少なくとも一つの局部平面にケーキ層の厚み変化を検出できるように、前記ケーキ層上に平行に前記濾材と前記光感知装置との相対的移動ことができるように前記光感知装置を駆動する。前記データ処理装置は前記光感知装置を接続し、前記光感知装置から検出され前記信号を連続的に処理と分析する、さらにすぐにこの膜濾過工程中に少なくとも一つの局部平面にケーキ層の厚み変化を算出する。 （もっと読む）

【課題】光学システムにおいて、位相および振幅情報を含む波面分析、ならびに３Ｄ測定を実行する方法および装置、特に、光学システムの画像面のような、中間面の出力の分析に基づく方法および装置を提供する。
【解決手段】 薄膜コーティング、または多層構造の個々の層が存在する表面トポグラフィの測定について記載する。多重波長分析を、位相および振幅マッピングと組み合わせて利用する。マクスウェルの方程式の解に基づき、仮想波面伝搬を用いて、波面伝搬および再合焦によって位相および表面トポグラフィの測定を改良する方法について記載する。このような位相操作方法によって、または広帯域およびコヒーレント光源の組み合わせを利用する方法によって、光学撮像システムにおいてコヒーレント・ノイズの低減を達成する。本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または１回のショット撮像における３Ｄ撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 （もっと読む）

【課題】多層膜に光を照射して、その反射光のパワースペクトルのピーク位置から多層膜を構成する層の膜厚を算出する膜厚測定装置では、膜厚が同程度の層が複数あると、ピークが重なって層を同定できないという課題があった。本発明は、膜厚が同程度の層が複数あっても各層の膜厚を測定できる多層膜の膜厚測定方法及び装置を提供することを目的にする。
【解決手段】膜厚を測定する多層膜と一定距離離隔して光を反射するミラー板を設け、各層の境界およびミラー板で反射された反射光から膜厚を算出するようにした。多層膜とミラー板の距離を多層膜の厚さより厚くすることにより、ミラー板で反射されたピークと反射されないピークが分離でき、正確に膜厚を測定できる。 （もっと読む）

【課題】偏光膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚を、光干渉法によって高精度に測定するための手段を提供する。
【解決手段】複数の被膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚測定方法。前記積層体に測定光を照射し、該積層体から反射された反射光を受光することにより反射スペクトルを求める反射スペクトル測定工程と、求められた反射スペクトルに基づき測定対象被膜の膜厚を求める膜厚算出工程と、を含み、前記積層体は、複数の被膜中の一つとして偏光膜を含み、前記反射スペクトル測定工程において、前記測定光を照射する出射口部および／または前記反射光を受光する受光部と、前記積層体との間に偏光素子を配置し、かつ、上記偏光素子を、前記求められる反射スペクトルの振幅が、偏光素子を配置しない状態で得られる反射スペクトルの振幅から変化するように配置する。 （もっと読む）

【課題】試料に形成された周期構造の特性を実時間で分析する。
【解決手段】波長の関数としての信号を発生させる分光計測モジュールがを使用する。出力信号はプロセッサーにより方形構造の理論的な初期モデルを構築する。次いで、プロセッサーは、この試料の広帯域放射に対する理論的な光学的応答を計算する。光学的応答の計算結果は、複数の波長において計測され正規化された値と比較される。この比較に基づいて、モデルの構成は実際の計測された構造により近づくよう修正される。プロセッサーは修正されたモデルの光学的応答を再計算し、計算結果を正規化されたデータと比較する。最適な方形が得られるまでこの処理が反復して繰り返される。その後、モデルを各々幅と高さを持つ層に分割しモデルの複雑さを反復して増大させる。構造が周期構造に類似するような最適なモデルが得られるまで、反復処理によりデータが最適化される。 （もっと読む）

【課題】ロボットの組立作業において、ワークの把持動作を確実に行う。
【解決手段】把持部材２ａ、２ｂの間にワークＷを把持する工程において、各把持部材２ａ、２ｂに設けられた接触押圧部２１ａ、２１ｂがワークＷを押圧して把持することによって発生する光学縞を検出して、把持力の制御を行う。このとき、把持部材２ａに設けられたワーク有無検出部２２ａがワークＷに接触することによって発生する光学縞を検出することで、把持部材２ａ、２ｂの間にシート状のワークＷが有ることを確認する。 （もっと読む）

【課題】構造が未知の膜体に対し、比較的短い計算時間で複数の膜厚を測定することができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る膜厚測定方法では、測定対象の膜体に対し、予め作成された既知の単一膜厚値d_j(j=1,2,...,m)に対する基準スペクトルS_jと、前記膜体の所定の測定領域内におけるn個の照射領域から得られる測定スペクトルV_k(k=1,2,...,n)とを、基準ベクトルs_j及び測定ベクトルv_kに変換し、ベクトル空間{v₁,v₂,...,v_n}と各基準ベクトルs_jとの距離L_jを算出する（ステップＳ１〜Ｓ４）。そして、距離L_jが極小となる膜厚値d_jをそれぞれ膜厚値として出力する（ステップＳ５及びＳ６）。この方法によれば、膜体の構造が未知であっても複数の膜厚を測定することができると共に、計算時間が比較的短いため、半導体製造等の用途においてリアルタイムで膜厚を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】表面がフラットでない樹脂層の厚みを正確に測定する。
【解決手段】光透過性着色樹脂層（樹脂層）３が表面に形成された線材２を含む撮像領域Ｄを撮像して画像データＤ１を出力するカメラ５と、樹脂層３の厚みと彩度との対応を示す彩度相関データ、および樹脂層３の厚みと色相情報との対応を示す色相相関データが記憶された記憶部６と、画像データＤ１を画像処理して撮像領域Ｄ内の各位置における彩度および色相を抽出する色情報抽出処理、彩度および色相と彩度相関データおよび前記色相相関データとに基づいて撮像領域Ｄ内における樹脂層３の形成領域を検出する領域検出処理、並びに彩度および色相のうちのいずれか一方の情報と彩度相関データおよび色相相関データのうちのこの一方の情報に対応する一方の相関データとに基づいて形成領域における樹脂層３の厚みを測定する厚み測定処理を実行する画像処理部７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】多層膜に光を照射してその反射光から光学膜厚を測定し、この光学膜厚から物理膜厚を演算する構成の膜厚計では、測定対象の多層膜や測定する光学膜厚が異なると、光学膜厚と物理膜厚の関係式も異なる。このため、測定に特別な知識が必要になり、また測定対象が変わると新しい関係式を設定するために改造が必要になるという課題を解決する。
【解決手段】測定した光学膜厚と各層の物理膜厚をベクトルと考え、多層膜を構成する各層の屈折率を入力して、この屈折率を用いて光学膜厚から物理膜厚を演算する係数行列を算出し、この係数行列と測定した光学膜厚から物理膜厚を演算するようにした。多層膜の構成や光学膜厚に依存しない汎用的な手法で物理膜厚を演算できるので、特別な知識や機器の改造がなくても、新しい多層膜の測定ができる。 （もっと読む）

あるシステム及び方法が、再構築により、基板上のオブジェクトの概略構造を決定する。これは、例えば、リソグラフィ装置のクリティカルディメンション（ＣＤ）又はオーバレイ性能を評価するための微細構造のモデルベースのメトロロジーなどに適用できる。基板上のスタック上の格子などのオブジェクトの概略構造を決定するためにスキャトロメータが使用される。ウェーハ基板は上層と下地層とを有する。基板はスタックオブジェクト上の格子を含む第１のスキャトロメトリターゲット領域を有する。スタック上の格子は上層と下地層とからなる。上層は周期格子のパターンを備える。基板はさらに、上層がない、隣接する第２のスキャトロメトリターゲット領域を有する。第２の領域は、パターン形成されていない下地層のみを有する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント成型積層体の欠陥検査や膜厚測定を簡便かつ迅速に、非破壊で行うことが可能な検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明の検査方法は、鋳型モールドを用いるナノインプリント法により成型されたレジスト材料からなる膜層を有する基板に対して、レジスト材料を発光させる励起波長の光を照射し、基板上の成型されたレジスト材料からなる膜層からの発光を発光パターン画像として取得する工程(1)と、該発光パターン画像を、成型に用いた鋳型モールドのパターン画像又は同一鋳型モールドで繰り返し成型した該発光パターン画像と異なる発光パターン画像と比較し、画像の相違点を欠陥として検出する欠陥検出工程(2)及び／又は、該発光パターン画像を発光強度により解析し、発光強度の値から膜厚を測定する膜厚測定工程(3)とを含み、半導体、配線基板、電子デバイス、光学デバイス等の製造における品質管理に有用である。 （もっと読む）

【課題】プロファイル及びそのバリエーションをユーザが設定するのを手助けするシステムを提供する。
【解決手段】既知のオブジェクトのイメージ４２を取り込むこと、及び、このイメージ上に、手動又は自動によって推定プロファイル２０を重畳すること、を含む。推定プロファイルは数学的に定義され、かつ、上記イメージと一致するようにセグメント毎に調節される４０ことによって、調節された推定プロファイルが、上記イメージに関連する当該回折スペクトルとともに記憶される。あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る。 （もっと読む）

【課題】
周期構造物の構造を早くかつ正確に把握する方法を提供する。
【解決手段】
仮想周期構造物を設定して、前記設定された仮想周期構造物を多数の層に分けて、リープマン−シュウィンガー積分方程式をＭ次内挿法で離散化させて前記仮想周期構造物に対する反射率または透過率に対する物理量を計算する工程を含む、周期構造物分析方法に対するもので、Ｍ次内挿法を用いてより早い時間内により正確な非破壊検査ができる。 （もっと読む）

【課題】被覆膜の厚さと独立して、基板よりも反射率の低い被覆膜付きの基板上に存在するパターンの三次元形状を非破壊で測定することができる三次元形状測定装置を提供することである。
【解決手段】可視光に対して透明な被覆膜付きの基板上に設けられた不透明なパターンの物理的三次元形状を測定する三次元形状測定装置であって、第１波長の照明光と、前記第１波長と異なる第２波長の照明光とを切り替えて照射する光源部と、前記第１波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第１仮想段差と、前記第２波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第２仮想段差とを測定する光検出器と、前記第１仮想段差と前記第２仮想段差とに基づいて、前記パターンの物理的三次元形状を決定する処理部とを備える。 （もっと読む）

【課題】外乱（例えば温度変化や振動）が測定精度に与える影響を抑制でき、測定レンジに依存しない高精度の測定が可能な低コヒーレンス干渉計を提供する。
【解決手段】本発明に係る低コヒーレンス干渉計１は、測定対象２の三次元形状又は膜厚測定に供される低コヒーレンス干渉計であって、白色光を射出する光源１１と、白色光を測定対象に集光させ光軸方向に移動可能な対物レンズ１４と、白色光を測定対象２に照射する物体光３と参照鏡１７に照射する参照光４とに分波し、測定対象で反射された物体光３と参照鏡１７で反射された参照光４を合波して白色干渉光を出力させる光分波合波器１６と、光分波合波器１６から出力された白色干渉光を検出する白色光検出器２０と、対物レンズの光軸方向の移動量を測定するための移動量測定器３０を備え、移動量測定器はレーザ光を射出するレーザ光源３１と光軸上に形成されレーザ光を反射する反射膜３２を有する。 （もっと読む）

【課題】 投光部および受光部が近接し、かつ、これらの前側にカバーガラスが設けられている構成の光学式膜厚測定装置において、カバーガラスに起因する迷光の影響を有効に抑制し、測定精度を向上させる。
【解決手段】 投光部１２１ａの投光面１２２ａおよび受光部１２１ｂの受光面１２２ｂ同士の間隔をｄと定義し、投光面１２２ａおよび受光面１２２ｂとカバーガラス１４との間隔をＬと定義し、投光部１２１ａの開口数をＮＡ₁ 、受光部１２１ｂの開口数をＮＡ₂ と定義すれば、カバーガラス１４は、０＜Ｌ＜ｄ／（tanθ₁ ＋tanθ₂ ）を満たす位置に設けられる。但し、θ₁ ＝sin^-1 (ＮＡ₁ )であり、θ₂ ＝sin^-1 (ＮＡ₂ )であり、θ₁ およびθ₂ はいずれも９０°未満である。 （もっと読む）

【課題】基材上に形成された被膜の膜厚を簡便に測定することができる、汎用性に優れた膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】基材上に形成された被膜の膜厚測定方法。波長λｎｍの光に対して表面反射率Ｒ₀を有するテスト用基材上にテスト用被膜を形成し、該テスト用被膜の前記波長λｎｍの光に対する表面反射率Ｒ’を測定することを、前記テスト用被膜の膜厚を変化させて２回以上行うことにより、前記テスト用被膜の膜厚と表面反射率変化量（Ｒ’−Ｒ₀）との関係式を導出し、膜厚測定対象の被膜の前記波長λｎｍの光に対する表面反射率Ｒを測定し、該表面反射率Ｒと前記テスト用基材の表面反射率Ｒ₀との差分（Ｒ−Ｒ₀）を前記表面反射率変化量として前記関係式に適用することにより、前記膜厚測定対象の被膜の膜厚を求める。 （もっと読む）

【課題】層構造を有する測定対象の構造情報から層領域の連続性が容易に識別でき、また浅い層領域にある構造物により深部の不明瞭化した層領域の構造情報を確実に抽出する。
【解決手段】信号処理部９３は、光立体構造像生成部１２０、特定層抽出手段及びノイズ領域消去手段としての特定層抽出／ノイズ除去部１２１、欠落領域抽出手段としての欠落領域抽出部１２２、欠落領域範囲算出手段としての欠落領域範囲算出部１２３、関心領域分類手段としての関心領域分類部１２４、閾値／基準値格納部１２５、属性付加手段及び属性制御手段としての属性付加／制御部１２６及びコンピュータグラフィック画像構築手段としてのレンダリング部１２７を備えて構成される。 （もっと読む）