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Fターム[2F065BB17]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 対象物−形態;性質 (11,481) | 多層構造のもの (221)

Fターム[2F065BB17]に分類される特許

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【課題】本発明は、反射防止フィルムの製造中、フィルム走行状態でフィルム全巾にわたり連続的に反射防止層の膜厚を測定することが可能な、反射防止フィルムの反射防止層の膜厚を測定する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】反射防止フィルムの反射防止層の膜面に365〜400nmの長波長域紫外光を照射し、その膜面および膜の裏面からの反射光を相互に干渉させ、その干渉により得らた濃淡の光像(光信号)によって薄膜の膜厚を測定することを特徴とする反射防止フィルムの反射防止層の膜厚を測定する方法である。 (もっと読む)


【課題】多層ディスク等の多層構造体の被測定物について分光干渉法で正確な膜厚測定ができるようにする。
【解決手段】
波長帯域幅を持つ光を、被測定物の表面側から斜め方向となる入射角θiで照射させ、第1の反射膜(記録層L0)の反射光と第2の反射膜(記録層L1)の反射光との干渉光から、第1の反射膜と上記第2の反射膜の間の膜厚(スペーサ層の膜厚)を算出するとともに、第2の反射膜の反射光と表面の反射光との干渉光から、第2の反射膜と上記表面の間の膜厚(カバー層の膜厚)を算出する。入射角は、第1の反射膜の反射光と第2の反射膜の反射光との干渉光の特定の高調波成分の光強度より、第2の反射膜の反射光と上記表面の反射光との干渉光の光強度が大きくなる入射角とする。 (もっと読む)


【課題】基板全体で緩やかな塗布ムラをもった基板であっても的確に精度良く検査できる検査方法および装置を提供する。
【解決手段】照明手段と、照明手段から液状蛍光体層に照射され反射した光のうち入射光入射角度と略同じ角度で反射した光を主として撮像する撮像手段と、信号処理手段とを有し、撮像手段で得られた反射光量と曲率半径係数とから液状蛍光体層の曲率半径を求め、前記曲率半径と液状蛍光体層の両側の隔壁の上部間隔と該隔壁の高さから、液状蛍光体層の高さを算出することを特徴とする、ディスプレイパネルの検査方法および装置。一般的な被測定曲面の曲率半径測定にも展開できる。 (もっと読む)


【課題】
表層以外の層の3次元形状を測定することができる3次元形状測定装置及び測定方法を提供する。
【解決手段】
本発明にかかる3次元形状測定装置は、光源11からの照明光の波長を切り替える波長切替機構30と、試料23に対する焦点位置を光軸に沿って走査するステージ駆動機構34と、前記試料で反射された反射光をコンフォーカル光学系を介して検出するCCDカメラ28と、焦点位置を走査したときのCCDカメラ28とCCDカメラ28で検出した検出光に基づいて処理を行なう処理装置33とを備える。処理装置33はCCDカメラ28で検出した検出光に基づいて合焦点位置を算出して3次元形状を構築する。波長切替機構30によって異なる波長に切り替えて、第1層23aの上面と第2層23bの上面との3次元形状を構築する。 (もっと読む)


【課題】膜状の有機層の組成を非破壊状態で容易に精度よく解析することができる分光エリプソメータを用いた、有機エレクトロルミネッセンス素子に用いられる有機物質の解析方法を提供する。
【解決手段】ステップS1で解析すべき試料の単層膜の透過率スペクトル又は吸収スペクトルを分光光度計で測定する。ステップS2で前記スペクトルに基づいて試料の組成及び構造の少なくとも一方を予測して多次元の誘電関数を設定する。ステップS3で分光エリプソメータで試料のエリプソパラメータΔ,ψを測定する。ステップS4で前記誘電関数を用いて試料のエリプソパラメータΔ,ψを計算し、前記エリプソパラメータΔ,ψの計算値と分光エリプソメータによる測定値との平均2乗誤差が最小又は許容範囲内になるように回帰解析法でフィッティングを行い最適な誘電関数を推定する。ステップS5で屈折率n及び消衰係数kが求められる。 (もっと読む)


シリコンウェハ等の多層試料を検査するためのシステムと方法が開示される。この考案は、薄膜干渉による全反射エネルギーの変動を低減させる。この考案は、2つの入射角範囲で試料を照明するステップを含み、この2つの入射角範囲は、第一の入射角範囲での全反射エネルギーの変動を使って、第二の入射角範囲での全反射エネルギーの変動とのバランスをとるように選択される。2つの入射角範囲で照明された試料のダイ間比較を使って欠陥が検出される。
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【課題】大面積の全基板上において反射光強度を精度良く測定し、この反射光強度から透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子影響等の外乱要因を除去すると共に塗布ムラの可能性のある領域(ムラ候補領域)を精度良く推定し、透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する方法を提供すること。
【解決手段】透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域の反射光強度を測定し、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出し、算出した包絡値から明側包絡画像データと暗側包絡画像データを生成し、該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出して塗布ムラを抽出する塗布ムラ検査方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】基板上に反射層と少なくとも1層以上の光透過性薄膜層を積層してなる光学積層体における各層の膜厚を簡便に検査可能にする。
【解決手段】光学積層体4を構成するAg全反射層は、可視光領域では高い反射率を示すが、短波長ではやや低く、長波長ほど高い反射率スペクトルとなる。このようなAg反射膜を、等ピッチの溝を有するプラスチック基板上に形成した場合、溝による回折に起因した反射率の低下が見られる。この反射率の低下は溝深さが深いほど反射率の低下度合いが大きくなり、溝のピッチを小さくすると、ピッチにほぼ比例して反射率が低下する波長が小さい方へとシフトする。この現象を利用して、光学積層体4を構成する光透過性薄膜層側から検査用光を入射させ、各層までの光路長の変化に応じて変化する各層からの反射光の光強度を測定し、特定波長の反射光強度に基づいて膜厚を検査する。 (もっと読む)


【課題】 薄膜の膜厚を1分間に1万点以上の測定を基板全面にわたって行う検査を可能とする。
【解決手段】 透明基板2上に形成された薄膜3に対してレーザ光を照射し、基板の測定領域全体に渡って基板内の多数の同一ポイントでの透過強度を透過光強度モニタ4、反射光強度を反射光強度モニタ5で測定する。反射率をRとし透過率をTとしてA=1−(R+T)の値からA値と膜厚の関係から膜厚を測定し評価する。 (もっと読む)


【課題】SOI基板表面上の薄膜の厚さを、分子汚染に伴う問題を回避するとともにシステムの複雑性を伴うことなく高精度で測定する方法およびシステムを提供する。
【解決手段】シリコン−オン−インシュレータ(SOI)基板などの多層構造基板の上の薄膜について単一波長偏光解析(SWE)を行うこのシステムは、上記多層構造基板の表面層の厚さ以下の吸収距離を有する測定用ビームを用いる。例えば、SOI基板の場合は、上記表面シリコン層の厚さ以下の吸収距離をもたらす波長をもつように測定用ビームを選ぶ。このシステムには、スループットを損なうことなく測定の精度を高めるように同時並行クリーニング動作を行うクリーニング用レーザを備えることができる。測定用ビーム源は、測定用ビームの吸収距離が前記表面層の厚さ以下になりクリーニング用ビームの吸収距離がその表面層の厚さ以上になるように、測定用ビームを一つの波長で、クリーニング用ビームをそれよりも大きいもう一つの波長でそれぞれ生ずるように構成する。
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【課題】ムラ検査装置において光学フィルタの透過波長帯を精度良く調整する。
【解決手段】ムラ検査装置1は、基板9を保持するステージ2、基板9の膜92に向けて線状光を出射する光出射部3、基板9からの反射光を受光する受光部4、受光部4にて受光される光の波長帯を切り替える波長帯切替機構5、ステージ2を移動する移動機構21、および、受光した光の強度分布に基づいて膜厚ムラを検査する検査部7を備える。波長帯切替機構5は、複数の光学フィルタ51、および、各光学フィルタ51の傾きを変更するフィルタチルト機構を備える。ムラ検査装置1では、フィルタチルト機構により選択光学フィルタ51aの光路に対する傾きを変更することにより、選択光学フィルタ51aの透過波長帯を精度良く調整することができる。その結果、選択波長帯を膜92の特性に合わせて調整することにより、膜厚ムラをの検出精度を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、膜厚測定装置の光照射光学系や受光光学系を構成する各光ファイバ装置において、サイズの大きな反射ミラー式照射、受光光学系も必要とせず、従来よりも広い波長帯域で高精度で膜厚の測定が可能な膜厚測定装置及び薄膜形成装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明の膜厚測定装置は、薄膜に光を照射する光照射光学系6と、光照射光学系6を介して照射された光が薄膜を透過して生じた信号光を受光する受光光学系4と、受光光学系4を介して導かれた信号光を処理して薄膜の膜厚を算出する信号処理装置3とを有する膜厚測定装置において、光照射光学系6及び受光光学系4は各々中空光ファイバ41bを有し、光照射光学系6の中空光ファイバ41bを介して薄膜に光を照射し、かつこの光が薄膜を透過して生じた信号光を受光光学系4の中空光ファイバ41bを介して信号処理装置3に導くことを特徴とする。
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【課題】 構成が簡単であって、安価なアナログ型光ファイバーセンサを提供する。
【解決手段】 液面のレベルの変化を変換部1で機械変位に変えて、可動光学系の機構部2により上記機械変位を光強度に変換し、その測定光の光強度を測定し、上記測定光による上記機械変位の測定を予め対応付けられた固定光学系の参照部3による参照光を参照するものであり、機構部2では測定用光ファイバー4の測定用入出射部2aの出射光を上下動する測定用反射膜2bで反射させ、この反射光を測定光として測定用入出射部から測定用光ファイバーに戻し、参照部3では参照用光ファイバー5の参照用入出射部3aの出射光を固定されている参照用反射膜3bで反射させ、この反射光を参照光として参照用入出射部から参照用光ファイバーに戻す。 (もっと読む)


【課題】 比較的簡単な構成で、長時間に渡って蒸着膜厚を正確に計測できるようにすることを目的とする。
【解決手段】 蒸着材料を蒸着基板2に真空蒸着するようにした真空蒸着装置において、真空槽1内に透明フィルム7が巻回されたリール6S、6Tと蒸着窓9と検出窓10とを有するカセット4と、このカセット4のリール6S、6Tを回転駆動する駆動装置13と、このカセット4内の透明フィルム7に蒸着された膜厚を計測する膜厚計測装置12とを具備し、この透明フィルム7に蒸着された膜厚を計測し、この透明フィルム7の蒸着位置とこの蒸着基板2の蒸着位置とからこの蒸着基板2の膜厚を算出して、この蒸着基板2の膜厚を計測するようにしたものである。 (もっと読む)


【課題】大面積の基材に塗布された透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する方法を提供すること。
【解決手段】基材1表面に対し斜め方向から照射光Xを照射し、斜め方向に出射する反射光の光路上に凸レンズ2が配置されており、この凸レンズ2の作用によって基材1の像3が結像される。凸レンズ2の光軸2aは前記基材1の表面の法線1aに対して傾いており、像3も基材1表面の法線1aに対し傾いた位置に結像する。そして、この像3をカメラで撮影して画素に対応する領域ごとに反射光強度を測定する。次に、測定された反射光強度から塗布ムラを検出する。 (もっと読む)


【課題】使用波長帯域を光学フィルタによって切り替え可能で、かつCCDと光学系とに起因して発生する固定パターンノイズを使用波長帯域に合わせて補正可能な重ね合わせ画像計測装置を提供する。
【解決手段】基板6上の被検マーク7を照明する照明光学系と、マーク7からの反射光を結像する結像光学系と、マーク7の像を撮像する撮像手段10と、前記照明光学系或いは前記結像光学系に配置されており、透過させる光の波長帯域が異なる複数の光学フィルタを備え当該複数の光学フィルタのうちの1つを光路内に選択的に配置する波長帯域選択手段2と、波長帯域ごとにシェーディングを補正する補正データを記憶している記憶手段W,R,G,Bと、撮像手段10で撮像されたマーク7の画像を前記補正データに基づき補正する画像演算手段11とを有し、画像演算手段11で得られた補正画像によりマーク7位置を計測する。 (もっと読む)


【課題】光学膜として作用する層を有する透明高分子フィルム上に薄膜が成膜された試料を用いた場合であっても、試料中の薄膜の膜厚および/または光学定数を従来よりも正確かつ少ないばらつきで評価することが可能な薄膜評価方法を提供する。
【解決手段】第1の透明高分子フィルムの一方面に光学膜として作用する層を有し、その他方面に評価対象となる薄膜が形成された試料中の薄膜の膜厚および/または光学定数を求めるにあたり、光学膜として作用する層面側に、中間層を任意に介して、第1の透明高分子フィルムと同等の屈折率を有する第2の透明高分子フィルムを貼り合わせ、この第2の透明高分子フィルム付き試料の反射率および透過率を少なくとも用い、薄膜の膜厚および/または光学定数を求めるようにする。 (もっと読む)


【課題】光学膜として作用する層を有する透明高分子フィルム上に薄膜が成膜された試料を用いた場合であっても、試料中の薄膜の膜厚および/または光学定数を従来よりも正確かつ少ないばらつきで評価することが可能な薄膜評価方法を提供する。
【解決手段】透明高分子フィルムの一方面に光学膜として作用する層を有し、その他方面に評価対象となる薄膜が形成された試料中の薄膜の膜厚および/または光学定数を求めるにあたり、光学膜として作用する層を剥離した試料の反射率および透過率を少なくとも用い、薄膜の膜厚および/または光学定数を求めるようにする。 (もっと読む)


【課題】 着色された膜の膜厚を精度良く測定しうる膜厚測定装置、及び膜厚測定方法を提供すること。
【解決手段】 膜が形成された試料に光を照射させて得られる反射光情報に基いて、干渉特性を検出する干渉特性検出手段と、
該干渉特性検出手段にて検出された干渉特性の波形中に存在する、2つの隣接する極大点の波長を求めるピーク波長算出手段と、
該ピーク波長算出手段により得られた、2つの隣接する極大点の波長における比屈折率Naを求め、該比屈折率Naから膜厚算出に用いる比屈折率Nbを算出する比屈折率算出手段と、
該比屈折率算出手段にて算出された比屈折率Nbから膜厚を算出する膜厚算出手段と、
を備えることを特徴とする膜厚測定装置、及び該膜厚測定装置を用いた膜厚測定方法。 (もっと読む)


【課題】膜厚を正確に測定する。
【解決手段】 同種の層R1,R2を積層して基材K上で最も表面側に形成された膜M2の厚さを測定する膜厚測定装置1は、層R1,R2のうち、基材K上で最も表面側に位置する最表層R2より基材K側に形成された下地層R1の厚さに基づいて膜M2の厚さ範囲を算出する演算処理部31と、反射分光法を用いて厚さ範囲内で膜M2の厚さを測定する測定部30とを備える。 (もっと読む)


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