【課題】中間転写ベルト等の像担持体上に形成されたトナーパッチ等のトナー像のトナー量を精度よくしかも安定して検知する。
【解決手段】トナー量計測装置は中間転写ベルト７に向けて光を照射する発光素子１６ａと、中間転写ベルト７上のトナー像で反射された反射光を受光する受光素子１６ｂとを有している。トナー量計測装置は反射光の光量に応じてトナー像のトナー量を算出する。発光素子１６ａと中間転写ベルト７上における光の照射位置とを結ぶ直線と、照射位置と受光素子１６ｂとを結ぶ直線とのなす角度が１５度以内となるように、受光素子１６ｂが配置されている。 （もっと読む）

【課題】塗工パターンの幅方向および搬送方向の測定の同時性を実現し、光軸方向の距離変動の影響も無くすことができる塗工パターンの測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】 シートに塗工された塗工パターンの形状測定方法において、
1）シートの搬送方向に直交して水平ラインの撮影方向に複数のカメラを並べ、前記シートを前記複数のカメラで撮影する工程、
2）撮影した映像の水平走査信号または垂直走査信号の少なくとも一方を水平走査に同期させ前記複数のカメラの水平走査信号を順次切り替えて画像処理手段に取り込む工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高精度に膜厚を測定することを可能にした膜厚測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】分光スペクトル情報を信号処理して膜厚を推定する膜厚測定方法において、
検量線作成用分光スペクトル情報を基底分解し、その基底に掛かる第１の係数を分光スペクトル情報の代表値として求め、第１の係数と分光スペクトル情報に対応した膜厚データとから重回帰係数を求める工程と、測定対象物の分光スペクトル情報と基底とに基づいて基底に掛かる第２の係数を求め、第２の係数と重回帰係数とに基づいて測定対象物の膜厚を推定する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】所定の圧力及び所定の温度に加圧された部屋に配置した基板に形成されている物質（特に、薄膜）の間隙率を求める装置及び非破壊方法に関する。
【解決手段】ガス物質（例えば、トルエン蒸気）が部屋１に導入され、所定時間後、部屋に配置した基板２に形成されている薄膜の間隙率が、少なくとも偏光解析測定によって求められる。特に、偏光解析器６から得られる光学的特性は、薄膜の間隙（ポア）に凝縮されたガス物質の量を求めるために利用される。その量は、薄膜の間隙率を計算するために利用される。 （もっと読む）

【課題】パスライン変動の影響を最小限とし、塗工パターンに柔軟に対応できると共に、小型化できる塗工パターン寸法測定装置を実現する。
【解決手段】搬送方向に沿って走行するシート基材上に塗工材を塗布または印刷した塗工パターンの寸法を、塗工部と前記シート基材の反射率の差を光学的に撮像する光学読み取り手段により測定する塗工パターン寸法測定装置において、
前記光学読み取り手段は、
前記搬送方向に直交して前記シート基材に密接配置される、複数のレンズが線状に配置されたレンズアレイと、
前記レンズアレイの結像位置に線状に配置された一次元イメージセンサと、
を備える。 （もっと読む）

【課題】皮革に摩擦力がかからず、皮革に形成された溝の深さを高精度に測定することができる皮革残膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】スリットＳＷが形成されている皮革Ｗ１の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置１において、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１の裏面に線状の先端部１１を接触させて、皮革Ｗ１を支持する基台１０と、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段２０と、皮革引っ張り手段２０で引っ張られている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段２０とを有する。 （もっと読む）

【課題】表面の干渉分析の方法とシステムを提供する。
【解決手段】物体の空間的特性を決定するための方法には、２つ以上の界面を含む測定物体からの走査低コヒーレンス干渉信号を得ることが含まれる。走査低コヒーレンス干渉信号には、２つ以上の重なり合う低コヒーレンス干渉信号（それぞれ個々の界面に起因する）が含まれる。低コヒーレンス干渉信号に基づいて、少なくとも１つの界面の空間的特性が決定される。場合によって、決定は、低コヒーレンス干渉信号のサブセットに基づき、信号の全体に基づくのではない。あるいはまたは加えて、決定は、低コヒーレンス干渉信号を得るために用いられる干渉計の機器応答を示す場合があるテンプレートに基づくことができる。 （もっと読む）

【課題】測定対象膜に照明光を照射して測定される表面形状データ及び界面形状データから、この測定対象膜の屈折率を得ることができる膜構造測定方法及び表面形状測定装置を提供する。
【解決手段】表面形状測定装置の制御用プロセッサで実行される膜構造測定方法は、撮像装置により、物体に形成された測定対象膜に光を照射し、当該光の反射光からこの測定対象膜の表面の形状である表面形状データ及び測定対象膜と物体との界面の形状である界面形状データを測定するステップ２２０と、平均値がほぼ０となるように表面形状データ及び界面形状データの各々を基準面を用いて補正することにより、補正された表面形状データ及び補正された界面形状データを算出するステップ２３０と、補正された表面形状データ及び補正された界面形状データから、測定対象膜の屈折率を算出するステップ２４０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】測定物の厚さや温度測定を、非接触により高精度で行うこと。
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光を放射する光源１０と、ＳＣ光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ１１と、ミラー１２と、ミラー１２の位置を調整する位置調整装置１３と、測定光と参照光との干渉強度の波長スペクトルを測定する受光装置１４と、干渉強度のスペクトルを空間座標に逆フーリエ変換して、干渉強度の空間分布を求め、その空間分布から測定物の厚さや温度を測定する干渉波形解析装置１５と、によって構成されている。 （もっと読む）

【課題】鋼板表面に生成された鉄系酸化物の膜厚を、鋼板から遠く離れた加熱炉外からオンラインで連続的に精度良く測定することができる鋼板表面の酸化膜厚計測方法及び装置を提案することを課題とする。
【解決手段】鋼板の表面に赤外光を間欠的に照射し、赤外光の照射時には鋼板表面から放射される自発光放射エネルギーと照射した赤外光の鋼板表面からの反射光エネルギーの合計されたエネルギーを、赤外光の照射が遮断される時には鋼板からの自発光放射エネルギーのみを、２つの異なる赤外波長帯域にてそれぞれ検出し、赤外光の間欠照射によって検出される検出値のうち赤外光の照射時の検出値から遮断される時の検出値を減じることにより反射光エネルギーを算出し、算出された反射光エネルギーについて２つの異なる赤外波長帯域間の比を前記加熱炉の入側及び出側でそれぞれ演算し、それらの比を演算する。 （もっと読む）

【課題】 曲面を有する塗装膜を正確に計測する。
【解決手段】 ラヘルツ波を発生させるテラヘルツ波発生器１５と、前記テラヘルツ波を、膜が形成された試料に照射させる照射光学系１６、１７と、前記試料において反射したテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波検出器２２と、検出されたテラヘルツ波の電場強度を時間軸の波形データに表し、波形データから複数のピークを検出するとともに、ピーク間の時間差に基づき膜厚を算出する制御部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】長波長タイプの赤外線膜厚計を用いて化成処理皮膜の膜厚のオンライン計測する際に、装置コンディションの経時変化に伴う膜厚測定値の初期状態からのずれを精度良く校正する。
【解決手段】下記（１）式で定義されるＲａ比率が０.７〜４.０となるように表面粗さが調整された機械的粗面化表面を有するステンレス鋼板を校正板として使用する。
Ｒａ比率＝Ｒａ[基材]／Ｒａ[校正板] …（１）
ただし、
Ｒａ[基材]； 前記基材（皮膜を持たないもの）の算術平均粗さＲａ（μｍ）
Ｒａ[校正板]； 校正板の算術平均粗さＲａ（μｍ） （もっと読む）

【課題】多結晶シリコン薄膜の表面の状態を光学的に観察して、多結晶シリコン薄膜の結晶の状態を検査することを可能にする。
【解決手段】本発明では、表面に多結晶シリコン薄膜が形成された基板に光を照射し、光が照射された多結晶シリコン薄膜の表面から発生する１次回折光の像を撮像し、撮像して得た１次回折光の像の画像を処理して多結晶シリコン薄膜の結晶の状態を検査し、画像を処理して検査した１次回折光の像を検査した結果の情報と共に画面上に表示するようにした。 （もっと読む）

【課題】表面に透明薄膜が形成された基板等の試料において、透明薄膜の上面の微小な異物、キズ等の欠陥を高感度且つ高速に検査することができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の欠陥検査装置によると、照明光学系は、試料の表面の法線に対して所定の入射角を有する検査用照明光を試料表面に照射し、試料表面にスリット状のビームスポットを生成する。試料の表面に対して所定の傾斜角にて傾斜した光軸を有する斜方検出系と試料の表面の法線に沿った光軸を有する上方検出系によって、ビームスポットからの光を検出する。斜方検出系と上方検出系の出力によって、試料の表面の透明薄膜上の欠陥を検出する。検査用照明光の入射角は、試料の表面の透明薄膜下面にて反射した反射光が透明薄膜上面にて全反射するときの入射角より僅かに小さい角度である。 （もっと読む）

【課題】ウェハ表面の膜を容易に高感度で検査することが可能な検査方法を提供する。
【解決手段】表面に膜が設けられたウェハを支持するステージと、ステージに支持されたウェハの表面に照明光を照射する照明系と、照明光が照射されたウェハの表面からの反射光を検出する検出部と、検出部により検出された反射光の情報から膜の検査を行う検査部とを備えた検査装置による検査方法であって、目標膜厚および屈折率を設定する設定ステップＳ１０１と、目標膜厚および屈折率から、目標膜厚近傍における膜厚変化に対する反射率変化の特性を複数の波長毎に算出する演算ステップＳ１０２と、膜厚変化に対する反射率変化の特性に基づいて、反射率変化（すなわち感度）が最も大きくなる波長を照明光の波長として決定する決定ステップＳ１０３とを有している。 （もっと読む）

【課題】複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を、走査干渉分光法を用いて測定する。
【解決手段】試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分（例えば、フーリエ変換分）の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第２の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第３の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。 （もっと読む）

【課題】測定対象の特性を簡易に測定可能な測定システムを提供する。
【解決手段】蛍光を発する蛍光体２と、蛍光体２から発せられた後に測定対象である膜１００の特性に依存する変調を波長選択的に与えられた蛍光を受光する光学系１０と、変調を与えられた蛍光の減衰特性を測定する減衰特性測定部３０１と、減衰特性に基づいて、測定対象である膜１００の特性を特定する特定部３０２と、を備える測定システムを提供する。 （もっと読む）

【課題】部品の表面上におけるアルミナ層の存在を確認する方法を提供する。
【解決手段】部品の表面を適切な波長における放射線で照明し、該部品の該表面上にある任意のアルミナにおける電子を通常エネルギー状態から高エネルギー状態に励起する工程と、該部品の該表面上にある任意のアルミナにおける該高エネルギー状態から該通常エネルギー状態に戻る電子により特定の波長で放射される放射線を検出、分析し、該部品の該表面上にある少なくとも一点における該アルミナの厚さを測定する工程と、該部品の該表面上にある該少なくとも一点で測定した該アルミナの厚さを、該部品の該表面上にある該点で予め決められたアルミナの厚さと比較し、該部品の該表面上における該少なくとも一点における該アルミナの厚さが十分であるか否かを決定する工程を含んでなる、方法。 （もっと読む）

【課題】多層膜に光を照射して、その反射光のパワースペクトルのピーク位置から多層膜を構成する層の膜厚を算出する膜厚測定装置では、膜厚が同程度の層が複数あると、ピークが重なって層を同定できないという課題があった。本発明は、膜厚が同程度の層が複数あっても各層の膜厚を測定できる多層膜の膜厚測定方法及び装置を提供することを目的にする。
【解決手段】膜厚を測定する多層膜と一定距離離隔して光を反射するミラー板を設け、各層の境界およびミラー板で反射された反射光から膜厚を算出するようにした。多層膜とミラー板の距離を多層膜の厚さより厚くすることにより、ミラー板で反射されたピークと反射されないピークが分離でき、正確に膜厚を測定できる。 （もっと読む）

【課題】偏光膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚を、光干渉法によって高精度に測定するための手段を提供する。
【解決手段】複数の被膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚測定方法。前記積層体に測定光を照射し、該積層体から反射された反射光を受光することにより反射スペクトルを求める反射スペクトル測定工程と、求められた反射スペクトルに基づき測定対象被膜の膜厚を求める膜厚算出工程と、を含み、前記積層体は、複数の被膜中の一つとして偏光膜を含み、前記反射スペクトル測定工程において、前記測定光を照射する出射口部および／または前記反射光を受光する受光部と、前記積層体との間に偏光素子を配置し、かつ、上記偏光素子を、前記求められる反射スペクトルの振幅が、偏光素子を配置しない状態で得られる反射スペクトルの振幅から変化するように配置する。 （もっと読む）