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Fターム[2F065CC31]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 対象物−個別例 (8,635) | 付着膜;蒸着膜 (441)

Fターム[2F065CC31]に分類される特許

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【課題】有底の凹部の状態を非破壊で検査し、製造コストを低減させる。
【解決手段】本発明のウエハ50のビア孔51の検査方法は、有底のビア孔51が表面に形成されたウエハ50に被転写材料を塗布し、この被転写材料をビア孔51内に充填させ、被転写材料を硬化させた後、ウエハ50から離型させることでビア孔51がビア像71として転写されてなる被転写体70を形成する転写工程と、ビア像71の表面を観察することでその表面形状の画像データを作成する表面観察工程と、ビア像71の画像データに基づいてビア像71の形状を評価し、ビア孔51内の状態を検査する検査工程とを備えたところに特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】一方主面に薄膜が形成された透明で平板状の基材の厚みを計測する厚み計測装置および厚み計測方法において、薄膜の光学的特性に影響されることなく、基材の厚みを高精度に計測する。
【解決手段】対物レンズ455の合焦位置FPを、ブランケットBLの下面BLtよりも下方位置Zminから上面BLfよりも上方位置Zmaxまで、一定の刻みΔZでステップ的に上昇させながらその都度撮像を行う。撮像位置と受光強度との関係において、ブランケットBLの上面BLfおよび下面BLtに対応するピーク間の距離から、ブランケットBLの厚みDzを求める。 (もっと読む)


【課題】 発光ダイオードを多数配列した面照明を使用した場合であっても、LEDの全点灯までの時間遅れの影響を受けることなく、検査時の照明光量を一定に保ちつつ、短時間で検査を行うことができる、膜厚むらの検出装置並びに当該装置を具備した塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板上に形成された皮膜の膜厚むらを検出する装置で、
基板保持部と、光源部と、撮像部と、制御部と、検査部とを備え、
光源部は複数の発光ダイオードを配置して構成された面照明であり、
制御部は、発光指令信号を出力してから複数の発光ダイオードが全点灯状態になるまでの点灯遅れ時間を登録する点灯遅れ時間登録部と、発光指令信号を入力してから登録された点灯遅れ時間経過後に、撮像部に対して撮像指令信号の出力を行う撮像ディレイタイマ部とを備えたことを特徴とする、膜厚むら検出装置。 (もっと読む)


【課題】電子部品の電極の導電性積層膜の膜厚を安価な装置で高速に測定する。
【解決手段】絶縁膜1上に上下に積層された導電層2,3(積層膜、例えばNi層およびその上のAu層)からなる半導体基板の電極に対して、段差を触針で測る場合やレーザ光を用いる場合など公知の方法で導電層2,3の厚さ(電極高さ)を測定するステップと、4端針法により電極の表面抵抗を測定するステップとを有し、二つのステップから得られた積層膜の膜厚(電極高さ)と表面抵抗値から、上下に積層した導電層2,3からなる電極の上部皮膜である導電層3の膜厚を計算式から算出する。 (もっと読む)


【課題】パターンの凹部の厚さの計測に有利な技術を提供する。
【解決手段】残膜厚を算出するときに用いる光の入射条件を決定する方法は、残膜厚RLTとパターンの厚みとの計測感度の差が大きな第1偏光状態の反射光を生成する光の複数の第1入射条件と、残膜厚RLTの計測感度が良い第2偏光状態の反射光を生成する光の複数の第2入射条件とを組み合わせた複数の組み合わせのそれぞれについて、得られた反射光の強度を独立変数とし、前記情報を用いて得られた前記凹部の厚さを従属変数とする回帰式を作成し、作成された複数の回帰式のうち回帰誤差が許容条件を満たす回帰式に対応する第1入射条件を前記第1偏光状態の反射光を生成する入射条件として、該回帰式に対応する第2入射条件を前記第2偏光状態の反射光を生成する入射条件として、それぞれ決定する。 (もっと読む)


【課題】作業者に負担をかけることなく、比較的安価な構成で透明で且つ膜厚が薄い紙材料からなる印刷物の膜厚測定を正確に行うことができる膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】膜厚測定装置1は、大略、光源2、受光サンサ3及び受光センサ3と電気的に接続された演算処理部4を備えてなり、紙材料からなる基材6上に形成された塗布膜8の表面に所定波長の光を出射し、該塗布膜8から反射した反射光の光量、すなわち電圧を測定し、塗布膜8の厚みに対応する電圧と塗布材の膜厚とが関連付けられた検量線に基づき膜厚を演算する。光源2として波長が570nm〜592nmにピークを有する光を用いると共に、塗布膜8に入射する入射光と該入射光の入射点における塗布膜8に垂直な仮想垂線14とでなす角度を0度〜10度としたので、透明で且つ膜厚が0.5μm〜2.0μm以下の印刷物を測定した場合でも、正確な膜厚の値を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】被測定対象物のレーザスペックル画像を得る装置において、被測定対象物の材質などに起因するスペックル画像の画質低下を可及的に抑制する。
【解決手段】被測定対象物(20)表面の観察領域(21)に向けてコヒーレント光を投光する投光部(10)と、被測定対象物表面の観察領域で拡散反射した上記コヒーレント光を受光する受光部(30)と、被測定対象物表面から受光部以外の方向に伝播するコヒーレント光を被測定対象物表面の観察領域に戻す反射部(41)と、受光部における受光状態に基づいて被測定対象物の状態を検出する検知部(50)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】高感度の分光散乱計を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上の回折構造体からの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計または分光エリプソメータを使って構造体の下に位置する膜の膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体を測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。この署名をデータベース内の署名と適合させて構造体の格子型パラメータを判定する。 (もっと読む)


【課題】屈折率が未知の誘電体薄膜の膜厚を正確に測定することができる膜厚測定装置および膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】膜厚測定装置は、第1の反射干渉光および第2の反射干渉光のそれぞれについて第1の波長分布および第2の波長分布を生成する波長分布生成部72と、第1の波長分布および第2の波長分布にもとづいて、それぞれ第1の入射角に対応する第1の光路差および第2の入射角に対応する第2の光路差を求める光路差算出部73と、入射角、膜厚および屈折率を変数とした関数として光路差を表した式を用いて、第1の入射角および第2の入射角ならびに光路差算出部73に算出された第1の光路差および第2の光路差を式に代入することにより、薄膜の膜厚および屈折率を求める膜厚屈折率算出部74と、を備える。 (もっと読む)


【課題】コントラストの高いパターン画像の表示を低コストにて実現する。
【解決手段】パターン画像表示装置の画像取得部13は、光照射部131、ラインセンサ132、角度変更機構、および、表示対象であるガラス基板9を移動する移動機構を備える。光照射部131からは、ガラス基板9の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。光照射部131からの光の照射角θ1およびラインセンサ132により撮像が行われる検出角θ2は、常に同じであり、これらの角度は角度変更機構により変更される。パターン画像表示装置では、予め画像のコントラストが高くなる照射角および検出角の設定角度が求められ、照射角および検出角が設定角度とされる。これにより、単一波長の光源を用いてコントラストの高い画像をラインセンサ132により取得し、ディスプレイに表示することができ、パターン画像表示装置の製造コストも削減することができる。 (もっと読む)


【課題】低コスト化を図れる導膜製造装置、製造した電気機械変換素子、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】第1のアライメント調整工程では着弾位置251をカメラ205で捕捉し着弾位置251がカメラ205の撮影撮影基準位置252に一致するように基板又は液滴吐出ヘッド201を相対的に移動する。第2のアライメント調整工程ではレーザレッドによってレーザ光を照射して照射跡を形成し照射跡をカメラ205で捕捉し照射跡がカメラ205の撮影撮影基準位置252に一致するように基板又はレーザヘッドを相対的に移動する。第3のアライメント調整工程では基板上に予め形成されているアライメントマークを撮像手段205で撮影したアライメントマークの形状に基づいて基板の向きを検知して基板の向きの調整を行いアライメントマークを撮像手段205の撮影基準位置に一致するように基板を移動することで基板の組付け位置の調整を行う。 (もっと読む)


【課題】真空雰囲気中で測定対象物を精度良く測定でき、光ファイバを着脱しても、測定精度に影響の無いエリプソメータを提供する。
【構成】投光部13と受光部14を筺体11の内部に配置し、発光装置12を筺体11の外部に配置し、光配線装置18によって、発光装置12と投光部13とを光接続する。投光部13は入射光を偏光して測定光を生成し、測定対象物7に照射し、反射光を受光部14によって受光して筺体11の外部に配置された分析装置15へ送光すると、分析装置15で膜厚が求められる。測定対象物7を真空雰囲気中で測定でき、光配線装置18と投光部13とを着脱しても、相対的に同じ位置で仮固定され、着脱が測定精度に影響を与えない。 (もっと読む)


【課題】 表面形状測定において、測定対象面と参照面からの反射光により干渉縞を発生させ、各画素の位相を単色光ごとに求め、表面形状を測定において、波長の異なる複数の単色光を得る場合は、抽出手段を増設する必要が生じていた。
【解決手段】 照射手段を介して測定対象面と参照面に波長の異なる複数の単色光を照射し、測定対象面と参照面の両方から反射して同一光路を戻る反射光によって生じる干渉縞の強度値に基づいて、測定対象面の表面高さと表面形状を求める表面形状測定方法において、前記照射手段が、広帯域な波長特性を有する照射光から、音響光学フィルタを用いて任意の異なる波長の単色光を複数抽出し、同時に混在して照射する照射手段を用いる。 (もっと読む)


【課題】測定対象物に塗布された塗布物質の塗布状態をより簡単に精度よく測定する。
【解決手段】測定対象物を撮像して測定対象物のスペクトル画像を取得する画像取得ステップS01と、画像取得ステップにより得られたスペクトル画像に基づいて、塗布物質の種類を判別する塗布物判別ステップS02と、画像取得ステップにより得られた前記スペクトル画像に基づいて、塗布物質の塗布量を測定する塗布量測定ステップS03と、を備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、取得したスペクトルから基板上に形成した膜の複数の測定点に対する光学定数を唯一の値として求めることができる光学特性測定装置および光学特性測定方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光源10と、検出器40と、データ処理部50とを備えている。データ処理部50は、モデル化部と、解析部と、フィッティング部とを備えている。複数の膜モデル式を連立させ、複数の膜モデル式に含まれる光学定数が同一であるとして所定の演算を行ない、算出した膜の膜厚および光学定数を膜モデル式に代入して得られる波形と、検出器40で取得した波長分布特性の波形とのフィッティングを行なうことにより、複数の膜モデル式に含まれる光学定数が同一で、解析部で算出した膜の膜厚および光学定数が正しい値であることを判定する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、被測定物との距離に依存することなく、被測定物の膜厚を高い精度を測定することが可能な膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】本発明は、光源10と、第1光路と、第1集光レンズと、分光測定部40と、第2光路と、第2集光レンズと、データ処理部50を備える膜厚測定装置100である。光源は、所定の波長範囲をもつ測定光を照射する。第1光路は、光源10から照射した測定光を被測定物に導く。第1集光レンズは、第1光路から出射する測定光を被測定物に集光する。分光測定部40は、反射率または透過率の波長分布特性を取得する。第2光路は、被測定物で反射された光または被測定物を透過した光を、分光測定部に導く。第2集光レンズは、第2光路の端部に集光する。データ処理部50は、分光測定部40で取得した波長分布特性を解析することで、被測定物の膜厚を求める。 (もっと読む)


【課題】計測対象物の物理情報を高精度に得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】計測装置33は、光源1からの光を計測対象物3に入射させる計測光と参照面4に入射させる参照光とに分割するビームスプリッタ2aと、前記計測対象物3で反射された前記計測光と前記参照面4で反射された前記参照光とを合成して合成光を生成するビームコンバイナ2bとを有し、前記合成光に基づいて前記計測対象物3の物理情報を得るように構成されている。前記計測装置33は、前記計測光と前記参照光との空間コヒーレンスを変更するコヒーレンス制御部10を備える。 (もっと読む)


【課題】真空雰囲気を維持したまま、多数の基板の薄膜の膜厚を成膜中に測定する。
【解決手段】真空槽12内に複数のサンプル板16を配置し、基板の成膜面に薄膜を成長させる際に、サンプル板16の検出面61にも薄膜を成長させ、サンプル板16表面に測定光を照射して薄膜の膜厚測定を行うことができる。サンプル板16には金属電極が不要であり、高温に加熱することができるので、検出面61に形成された薄膜を加熱して除去し、サンプル板16を再使用することができる。その結果、真空雰囲気を維持したまま、多数枚数の基板に対する薄膜の膜厚測定を行うことができる。真空雰囲気内に複数のサンプル板16を用意し、薄膜が形成されたサンプル板16を加熱する間に別のサンプル板16によって膜厚測定を行うと、薄膜除去の待ち時間は生じない。 (もっと読む)


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