【課題】回路規模および演算時間の増大を招くことなくキャリブレーションずれを再補正する。
【解決手段】キャリブレーションによって補正された左右のカメラステレオ平行化後画像間のずれ量を、キャリブレーションずれ再補正部１５を含む対応点探索部９による対応点の探索処理中において、キャリブレーションずれ再補正部１５によるキャリブレーションずれ再補正処理で得られるデータを用いて再補正する。こうして、距離計測装置１における内部ハードウェアの回路規模および演算時間を増大させることなく計測精度を高めることができる。また、上記右カメラステレオ平行化後画像を上下にずらして、左右のカメラステレオ平行化後画像の上下方向のずれを再補正する。こうして、問題になり易い上下方向のキャリブレーションずれを低減することができる。その際に、対応点の探索を行う際の右カメラステレオ平行化後画像の最適位置を確実に見出すことができる。 （もっと読む）

【課題】物体の形状認識を正確に、かつ、高速に行うことのできる部品実装装置を提供する。
【解決手段】撮像部１０と、輝度変化光を斜めから照射する照射部２０と、対象物および基準点４２を撮像部および照射部に対し第二方向に相対的に移動させて、対象物および基準点を撮像対象領域に対して通過させる移動部４０と、基準点データと対象物データとを取得するデータ取得部と、それぞれの撮像のタイミングＴ１〜Ｔ４での基準点位置と基準点基位置との位置ずれを導出する位置ずれ導出部と、それぞれの撮像のタイミングの対象物基位置に対して、導出された位置ずれを加算して得られた対象物の測定部位の位置に対応する輝度値を取得する輝度値取得部と、取得された輝度値に基づいて、位相シフト法による波形を作成する波形作成部とを備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工装置の出荷後再立ち上げにおけるレーザ照射位置の精度の悪化に対して、簡単な測定で精度悪化の傾向を定量把握して最終的に精度の高い補正を行うことが可能とするレーザ照射位置の補正方法が求められていた。
【解決手段】複数の加工エリアに分けて加工を行うレーザ加工装置において、加工エリアごとに対角線上に等間隔に並ぶ試験加工点を複数ヶ所設定し、予め設定された第一の補正データに基づく補正を施して試験加工点を加工するステップと、試験加工点の実際に加工された位置を測定するステップと、加工しようとする位置と実際に加工された位置の平面上のズレ量を直交する二軸で算出するステップと、加工エリアごとに、ズレ量のシフト成分と傾き成分を二軸ごとに算出するステップと、シフト成分と傾き成分をキャンセルするように算出された各加工エリアごとの補正情報を第一の補正データに加味し第二の補正データとする。 （もっと読む）

【課題】作業者が作業対象物から目を逸らすことなく、誘導画像を参照しながら作業対象位置を選別できるようにする。
【解決手段】作業時に、ポインティング部１１の先端が、作業面の予め既知の作業対象位置に向かうように誘導する場合に、カメラ部１３により作業面を撮影し、画面が透過する透明スクリーン部１５により、作業時に作業面を見えるようにしながら、誘導用の位置ナビゲーションマーク１５３及び直交する交差点が誘導中心のライン１５１，１５２を表示し、カメラ部１３で撮影された画像からポインティング部１１の先端の位置を算出し、既知の作業対象位置の位置情報と比較し、両者のずれ量及び方向に基づいて透明スクリーン部１５に誘導中心に対する位置ナビゲーションマークを表示し、位置ナビゲーションマークが誘導中心に向かうように移動方向を画面上に指示表示する。 （もっと読む）

【課題】撮像装置や現実物体に装着された姿勢センサの校正を、簡便かつ正確に行う為の技術を提供する。
【解決手段】姿勢計測値取得部１４５は、撮像装置１２０に装着された姿勢センサ１１０による姿勢計測値、現実物体１２５に装着されたセンサ１１５による姿勢計測値を取得する。画像処理部１３５は、現実物体１２５上に配置された指標の撮像画像上における画像座標を取得する。校正部１６０は、撮像装置１２０に対するセンサ１１０の配置情報、現実物体１２５に対するセンサ１１５の配置情報、のうち少なくとも１つを、上記２つの姿勢計測値、画像座標を用いて求める。 （もっと読む）

【課題】空気によって少なくとも部分的に吸収される光を使用するよう設計され、かつ、より能率的なパージングシステムを有する、光学ツールのための方法を開発する。
【解決手段】試験体の測定のための方法において、該試験体の反射率測定データおよび分光偏光解析データを測定する工程と、該反射率測定データから、該試験体上に形成された窒化酸化物ゲート誘電体の厚さを判定する工程と、該厚さおよび該分光偏光解析データから、窒化酸化物ゲート誘電体の屈折率を判定する工程と、該屈折率から、該窒化酸化物ゲート誘電体の窒素濃度を判定する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】補正用治具の交換なしに形状測定装置の組み付け誤差をＸ方向、Ｙ方向、θ方向のすべてについて補正できるようにする。
【解決手段】ワーク支持部１と、これに支持されたワークの外周縁にレーザ光を照射し、そこからの反射光を受光して測定データを出力するレーザ変位計２と、ワーク支持部１をＸ方向に直線移動させるＸ方向移動部４と、ワーク支持部１をＹ方向に直線移動させるＹ方向移動部５と、ワークをθ方向に回転移動させるθ方向移動部６と、を備える形状測定装置の組み付け誤差を補正する場合に、Ｘ方向およびＹ方向の組み付け誤差を補正するための円弧状の外周縁と、θ方向の組み付け誤差を補正するための直線状の外周縁を有する補正用治具を用いる。 （もっと読む）

【課題】雲の含水率を決定する方法を提供する。
【解決手段】雲の含水率は、雲の水滴サイズ分布から導出される。雲の水滴のサイズ分布を決定する方法は、雲の深さを電磁放射ビームによりサンプリングすることと、雲から戻った電磁放射のエコー強度を検出器により測定することと、測定エコー強度から測定光減衰係数を決定することと、測定エコー強度から測定後方散乱係数を決定することと、測定光減衰係数及び測定後方散乱係数からライダー比を決定することと、ライダー比から水滴の形状パラメータ（μ）及びメジアン体積径（Ｄ_ＭＶＤ）を含む値ペアを決定することと、値ペア（μ，Ｄ_ＭＶＤ）を使用して水滴のサイズ分布を決定することとを含む。 （もっと読む）

【課題】 被検面が傾いていても測定精度を悪化させることのない多波長干渉計を提供する。
【解決手段】 波長が互いに異なる少なくとも２つの光束を参照光と被検光とに分割し、分割された参照光の周波数と被検光の周波数とを異ならせ、被検光と参照光とを干渉させる干渉計において、干渉光を複数の光束に分割する分割部を有し、分割された複数の光束を各波長について検出する。 （もっと読む）

【課題】外部標定の容易なステレオ撮影による３次元計測システム及び３次元計測方法を提供する。
【解決手段】３次元計測システムは、測定対象物１を複数方向から撮影してステレオ画像２０を得るステレオ撮影部１１と；測定対象物の全体をカバーする基準体２の一部を構成する、複数の基準マーク４を有するサブ基準体３と；ステレオ撮影部で撮影して得たステレオ画像に基づくサブ基準体が有する複数の基準マークの３次元座標値の撮影測定値ｆと予め基準計測された基準測定値ｇとを含む、基準体の３次元数値解析モデルである基準体モデル１０２を３次元計算空間Ｖ中に一体として画成する基準体情報画成部１２と；基準体モデルを用いてステレオ撮影部の外部標定要素を算出する標定要素算出部１３と；外部標定要素により定位されたステレオ撮影部により撮影される測定対象物のステレオ画像から測定対象物の３次元計測をおこなう３次元計測部１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】回転角度を高精度且つ短時間で測定すること。
【解決手段】回転が一定範囲とされた支持基準体であるエンコーダ本体２ａと、エンコーダ本体２ａに対し全周回転自在に軸支された駆動する回転体である回転軸３とを有し、エンコーダ本体２ａに対する回転軸３の相対的な回転角度を検出する相対的角度検出手段としてのロータリエンコーダ２と、エンコーダ本体２ａ及び回転軸３から切り離されて、エンコーダ本体２ａの回転角度を光学式角度検出手段としての非接触角度検出手段２０とを備える。これにより、ロータリエンコーダ２が検出した回転角度を、非接触角度検出手段２０で検出した回転角度に基づいて補正することができ、回転角度を高精度且つ短時間で測定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 半導体チップの尖端バンプの高さを測定する。
【解決手段】 尖端バンプを含む複数の半導体チップが形成された半導体ウェハ２１の上方に面照射装置３３が配置されて、面照射装置３３が半導体ウェハ２１の上面に光を照射する。一対の撮像装置３４，３５が、半導体ウェハの斜め上方に配置されて、半導体ウェハ２１上の尖端バンプを含む半導体チップを斜め上方から撮像する。コンピュータ３６は、一対の撮像装置３４，３５によって撮像された一対の画像に基づいて尖端バンプの底から先端までの長さをそれぞれ検出して、前記検出した一対の長さと、一対の撮像装置３４，３５の光軸が半導体ウェハ２１の上面となす角度を用いて尖端バンプの高さを計算する。 （もっと読む）

【課題】基板の面内領域から取得できる情報を用いて、基板の位置を迅速かつ確実に検出できる技術を提供する。
【解決手段】位置検出装置は、基板９を載置するステージ１１と、ステージ１１に載置された基板９の面内領域を撮像する撮像部と、撮像部が取得した撮像データに基づいて基板９の位置を特定する位置特定部と、を備える。位置特定部は、撮像データを解析して、基板の表面に形成されたスクライブラインのうち最外周に配置されている最外周スクライブライン９１０を検出し、最外周スクライブライン９１０の検出位置に基づいて、レイアウト領域９３の中央に配置されている中央チップ領域９２０の位置を特定する。そして、中央チップ領域９２０の位置に基づいて、基板中心９０の位置を特定する。 （もっと読む）

【課題】画像解析の処理負荷および精度を改善するための画像処理装置、画像処理方法、プログラム、および画像処理システムを提供する。
【解決手段】距離画像センサにより取得される対象空間における各位置の距離が表現された距離画像の解析結果に基づき、前記対象空間を撮像する撮像装置により取得される撮像画像から注目領域を決定する注目領域決定部と、前記注目領域決定部により決定された前記注目領域を画像解析する画像解析部と、を備える画像処理装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ヘッド部を大型化することなく、コントローラ部に対してヘッド部を交換することが可能なように互換性を持たせることができる光学計測装置を提供する。
【解決手段】本発明に従った光学計測装置では、計測対象物２００に対して光を用いて計測を行ない、ヘッド部１０と、コントローラ部２０と、光ファイバ１１と、記憶部４０とを備えている。本発明に従った光学計測装置では、ヘッド部１０とコントローラ部２０とを光ファイバ１１で接続する。記憶部４０は、製造されるヘッド部１０のそれぞれの個体に対して関係付けられ、コントローラ部２０で行なう演算に必要な情報をヘッド部１０の個体情報として記憶する。コントローラ部２０は、コントローラ部２０に対して物理的に独立して存在する記憶部４０から個体情報を読出し、読出した個体情報を用いて演算を行なう。 （もっと読む）

【課題】 光干渉法を用いて、１波長の単色光を測定対象面に照射し、測定対象面までの距離を変更して、少なくとも３枚以上の画像を撮像して、各画素の輝度値から位相計算をおこない、隣接画素の位相値を用いて三次元形状を測定する位相シフト法が用いられて来たが、隣接画素間の段差に波長による制約があった。
【解決手段】広帯域な波長特性を有する照射光から波長の異なる複数の単色光を抽出し、それらを混在させて、分岐手段を介して測定対象面と参照面に同時に照射し、測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって生じる干渉縞の画像を測定対象面と参照面とからの反射光路長の差を変化させて、取得した前記複数枚の画像を単色光ごとに分解し、単色光ごとに求めた各画素の位相から、複数個の表面高さの候補群を求め、各候補群から共通する高さを実高さとして求める。 （もっと読む）

【課題】本発明は、誤差の累積を抑制し、目標物になりそうなものがない単調な道路でも適切に真の現在位置を算出できる現在位置算出装置および現在位置算出方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明にかかる現在位置算出装置は、自車１７の現在位置における２次元画像である観測画像が入力される観測画像入力部１と、所定の地点に関連して予め用意された２次元画像である参照画像を管理する、参照画像管理部９と、観測画像と、記憶されている現在位置である仮現在位置に対応する参照画像とを、画像マッチングにより照合する照合部としてのピクセルパターン照合部５と、ピクセルパターン照合部５における照合結果に基づいて、自車１７の真の現在位置を算出する現在位置算出部６とを備える。 （もっと読む）

【課題】シリコンなどのウエハー上にレーザー光を用いて露光することで描画を行う描画装置において、ナノミクロンオーダーの高精度な位置決めを行うこと。
【解決手段】レーザー光を一定方向に往復させて所定の間隔でドットパターンの描画を行う光学素子用の描画装置であって、レーザー光を照射する照明光学系と、
基盤を載置するＸＹステージと前記照明光学系と前記ＸＹステージとの相対位置を測定する前記ＸＹステージ上に設置されたナノスケールと、前記基盤上の描画信号の基準位置とその描画信号波形データ出力と、前記ナノスケールによって測定された往路のドットパターンの描画終了位置から、復路のドットパターンの描画開始位置を抽出する軸制御ユニットと、前記軸制御ユニットによって抽出された描画開始位置から描画を開始するように前記照明光学系の位置を補正する位置補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高精度に被検面と参照面の間の絶対距離を計測可能な計測装置および計測方法を提供する。
【解決手段】第１の基準波長λ_１と第２の基準波長λ_２との間で波長走査が可能な光源１１と、第３の基準波長λ_３の光を射出する光源１０を有する光波干渉計測装置は、各波長に対応した干渉光の信号に基づいて被検面と参照面との間の光路長に相当する位相の誤差を補正し、誤差が補正された位相に基づいて被検面と参照面の間の絶対距離を算出する処理部１９を有する。 （もっと読む）