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Fターム[2F065FF49]の内容

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偏光解析 (56)

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【課題】小型化を実現し、距離バタツキや水平方向角度バタツキや垂直方向角度バタツキに対する耐性を付与することにより、例えば半導体製造プロセスやFPD製造プロセス等におけるインライン計測に好適な分光計測装置を提供すること。
【解決手段】透過位置によって透過光波長を次第に変化させる光干渉式の分光素子を前記光電変換部アレイ手段の直前に備えると共に、試料からの反射光の偏光状態の変化を検出する機能を有する受光側光学系と、前記光電変換部アレイ手段の各光電変換部から得られる一連の受光量データに基づいて偏光解析し、実測波形と理論波形とのフィッティングにより膜厚または膜質を求める。 (もっと読む)


【課題】 高感度を有し、オーバレイ測定の改善された精度を提供するスキャトロメトリシステム及び方法を提供する。
【解決手段】 スキャトロメトリ測定で使用するオーバレイターゲットグレーティングの設計方法は、A)サンプル層パラメータを選択し、B)第1ターゲット特性を有する第1ターゲットグレーティングを選択し、C)入射光の角度範囲にわたって第1ターゲット特性のオーバレイオフセット変化の標準偏差を平均して、数学モデル化ターゲットでの反射光のASDを計算し、D)第1増分によって第1ターゲットグレーティング特性をシフトさせ、E)ステップCから繰り返して、F)ステップCとステップEのASDを比較し、大きい方を新たな開始グレーティング特性とし、G)最大の所望のASDが得られるまで、ステップC−Fを繰り返し、H)実際のターゲットを、上記ASDと対応するターゲットグレーティング特性を有するように設計する。 (もっと読む)


【課題】 表面検査装置において、被検面の略全面を検査する場合にも効率的に検査を行うことができるとともに、被検面が粗面の場合にもノイズ成分の重畳を防止する。
【解決手段】 被検面の所定領域P0に対してレーザ光L0′を照射し、所定領域P0内の互いに異なる4つの小領域P1〜P4からの各正反射光L1〜L4を、4つの開口を有する視野絞り53により空間的に分離して通過させるとともに、これら4つの開口に、各正反射光L1〜L4を互いに異なる4つの偏光成分として通過させる偏光素子61〜64が配設され、各小領域P1〜P4に対応した偏光成分M1〜M4が視野絞り53の全ての開口を順次通過するように、xy2次元走査ステージ20がレーザ光L0′に対して被検面を変位させることにより、各小領域P1〜P4ごとにそれぞれ4つの偏光成分M1〜M4の光強度を検出する。 (もっと読む)


【課題】 偏光板貼付前の液晶パネルの表示画面をあらゆる角度から総合的に検査することができる液晶パネルの検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】 液晶パネル8を挟んで一対の偏光板6、7が配置され、前記偏光板の一方の面に照明手段10を設け、他方の面には撮像手段20が設けられ、前記一対の偏光板6、7の間に前記液晶パネル8の表示画面8aが介在するように前記液晶パネルを支持し、少なくとも前記一対の偏光板の一方または両方を稼働させる工程と、前記照明手段からの照明光を介して前記撮像手段により液晶パネルの表示画面を撮像する工程と、前記撮像された画像に基づいて画像処理する工程と、前記画像処理された画像データにより前記液晶パネルの表示画面を検査する工程とを有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】 二次元配列型共焦点光学系を用いながら、三次元形状計測を高速に精度よくなし得、作製や各部の位置合わせも容易な形状測定方法を提供する。
【解決手段】 光源1から出射した光を複数に分岐して対物レンズ5を介して被測定物体9に照射し、光軸方向に被測定物体9を相対移動させて、その移動の時々の反射光を光検出器アレイ8で検出し、被測定物体9の前記光軸方向における時々の位置データとそのときの光検出器アレイ8の検出信号とを対にしてデータ処理して、被測定物体9の表面形状を三次元計測するとともに、光源1から出射した光を回折格子3を介して前記複数に分岐する。 (もっと読む)


シード・プロフィールのギャラリが作られ、半導体装置についての製造プロセス情報を用いて該プロフィールに関連する初期パラメータ値が選択される。製造プロセス情報は、最適化プロセスの出発点として最善のシード・プロフィールと初期パラメータ値の最善のセットとを選択するためにも使用可能であり、該パラメータの値に到達するためにモデルにより予測されるプロフィールのパラメータ値と関連するデータが測定されたデータと比較される。周期的構造の上または下のフィルム層も考慮に入れることができる。回折構造および関連するフィルムを測定するとき、反射率Rs ,Rp などのいろいろな放射パラメータおよび楕円偏光パラメータを使用することができる。放射パラメータのうちのあるものは、該プロフィールまたは該フィルムのパラメータ値の変化に対して他の放射パラメータよりも敏感であろう。そのような変化に対してより敏感な1つ以上の放射パラメータを上述した最適化プロセスにおいて選択してより精密な測定に到達することができる。プロフィール・パラメータのエラーを補正するために上述した手法をトラック/ステッパおよびエッチャに供給してリソグラフィおよびエッチングのプロセスを制御することができる。
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【課題】 検出対象のパラメータを簡単に、正確に検出することができる検出対象のパラメータ検出方法及び検出装置を提供する。
【解決手段】 検光子13の透過軸方向が入射面に対して任の角度ω傾き、偏光子11の透過軸方向が入射面に対して0°及び90°傾いている時の透過光強度に基づいて比rを求める。また、検光子13の透過軸方向が入射面に対して任意の角度ω傾き、偏光子11の透過軸方向が入射面に対して任意の角度α傾いている時の透過光強度を、相異なる少なくとも2つ以上のωとαの組み合わせに対して検出する。そして、検出した複数の透過光強度と比rに基づいて検出対象12のリタデーションや厚さを求める。 (もっと読む)


【課題】 位相シフトマスクの位相欠陥を高速に検出するレチクル検査装置。
【解決手段】 レーザ1、光偏向器2、集光レンズ3を備えた走査型顕微鏡方式の走査光学系を有し、レンズ5が走査微小集光スポットの作るフォトマスク(レチクル)4の位相欠陥透過像をフーリエ変換像に変換する。空間フィルタ6がフーリエ変換像を強度変化に変換して、簡易かつ高速に位相欠陥を検出する。 (もっと読む)


レーザを利用したトラッキングユニットは、ターゲットと通信してターゲットに関する位置情報を取得する。具体的には、ターゲットを計測対象点に配置する。次に、ターゲットのピッチ移動、ヨー移動およびロール移動、ならびにトラッキングユニットを基準としたターゲットの球座標を取得する。例えば、ターゲットは、遠隔制御ロボットなどの可動装置に組み込まれた能動素子であってもよい。
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【課題】 本発明は観察対象である試料を照明する照明手段と、この試料上のパターンの特定の空間周波数成分を除去する空間フィルタとを簡単な構成で実現する顕微鏡装置及びその照明方法を提供する。
【解決手段】 顕微鏡装置の光源40を、対物レンズ3の瞳面8又はこの瞳面と共役な平面23上に設け、これらの面上にこの光源40を支持するための支持手段40を空間フィルタとして使用する。 (もっと読む)


【課題】固定治具に把持された光ファイバセンサの張力を容易に調整し、光ファイバセンサの角度を容易に調整することができるようにする。
【解決手段】 構造物の変形を光により検出する光ファイバセンサを固定する光ファイバセンサ固定装置1であって、前記光ファイバセンサを固定するための固定治具5とこの固定治具5を固定するための固定台座7とからなり、この固定台座7に光ファイバセンサの張力を調整するための張力調整手段9を備え、前記固定台座7に前記固定治具5の左右方向および高さ方向の角度を調整する角度調整手段11を備えてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 ウエハ上のマークの位置を高精度計測する。
【解決手段】 露光装置1は、ウエハホルダ15上に保持されたウエハWの表面状態を検査するための撮像装置22cを有する表面状態検査装置30を備えている。この撮像装置22cで撮像された撮像データD2は主制御系20に供給されてウエハW上の欠陥分布が算出される。この欠陥分布に基づいて主制御系20はウエハWに形成されたマークから計測対象マークを選択し、選択した計測対象マークの位置情報をアライメント検出系ASを用いて計測する。 (もっと読む)


【課題】 イン・ラインの測定および制御ツール、テスト・パターンおよび評価方法を含む統合された測定システムを提供する。
【解決手段】 基板上で寸法を測定するための方法を記載する。ターゲット・パターンは、主周期ピッチPで反復する公称特徴寸法を備え、主方向に直交する所定の変動を有する。基板上に形成されたターゲット・パターンは、少なくとも1つの非ゼロ次回折が検出されるように照射する。公称寸法に対する転写された特徴寸法の変動に対する非ゼロ次回折の応答を用いて、基板上で限界寸法またはオーバーレイ等の対象の寸法を求める。本発明の方法を実行するための装置は、照射源と、非ゼロ次回折を検出するための検出器と、ターゲットからの1つ以上の非ゼロ次回折を検出器において検出するようにターゲットに対して照射源を位置付けるための手段と、を含む。 (もっと読む)


行程長を調整可能な干渉測定装置と、照明装置(1)と、光線の成形および/または案内および/または結像のための光学素子と、固定光源と、眼のアライメンント状態の把握のための検出素子と、干渉信号を検出するための光検出器と、長さ測定システムと、制御・解析装置とを備えた眼軸長測定装置。固定光源(2)は、可視光を発し、照明装置は、眼内における散光成分がごくわずかしか発生しない波長900nm〜1100nmの測定光を発する。本解決法は、眼の眼軸長および/または角膜曲率および/または前房深度を測定するための複合装置に利用すると有利である。埋め込み用眼内レンズの決定に必要なデータの非接触式測定、および、伝送エラーの回避のほか、感度が高められる。
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本発明の側面は、マイクロ電子フィーチャのアレイの対称性/非対称性を測定するための方法及び機構を提供する。本発明の一実施形態は、マイクロ電子デバイスにおける三次元構造の非対称性を測定する方法を提供する。本方法により、光は、マイクロ電子デバイスのマイクロ電子フィーチャのアレイに向けられる。光は、複数のマイクロ電子フィーチャの全長及び全幅を含むアレイの一部を照射する。アレイから散乱し戻された光は、一又はそれ以上の反射角、一又はそれ以上の波長、或いはそれらの組み合わせから成る群より選択された条件で検出される。本方法はまた、反射の余角からのデータを調べることを含む操作を実行することにより、戻り散乱光の一又はそれ以上の特性を調べることも含む。
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走査システムは、対象物(40)の定性的及び定量的不規則性を検出する1以上の立体カメラ(10)を有する。各立体カメラセット(10)は、2つのカメラ(12,14)と投影器(16)とを有する、各カメラ(12,14)は、CCDマトリックス配列(18)の配列不良による歪みと光学システムの欠損とを補正するために較正される。投影器(16)は、測定されるべき対象物(40)に絶対符号パターン(32,34,36)を投影し、赤外、可視、紫外スペクトルの電磁気エネルギーを放射可能である。複数のカメラセット(10)は、3次元空間(26)の対象物(40)の不規則性を検出可能な走査システムマトリックス(42,44)と結合され得る。3次元空間(26)は、立体カメラセット(10)の数に応じて、任意の所望の寸法であり得る。カメラ(12,14)からのデータは、測定の表示用にデジタル信号プロセッサ(66)を介してコンピュータインターフェース(64)に送信される前に、ゲートアレイ(62)により予備処理される。結果的に、送信されるデータ量は、簡素化され、従って動作時間を減少させ、走査システムが非常に短い時間で対象物(40)の不規則性を非常に正確に測定することを可能にする。
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【課題】 液晶パネルのセル厚分布を全体的に把握できるとともに、セル厚の基準値に対するずれ量(差異)を容易に把握できる測定方法及び測定装置を提供する。
【解決手段】 CCDカメラ24は偏光板23から射出される透過光を受けて所定のカラー画像を取得し、このカラー画像データをコンピュータ装置26に送出する。コンピュータ装置26は、あらかじめROMやハードディスク等に格納されたデータ処理プログラムを実行することにより、CCDカメラ24から出力されたカラー画像データに演算処理を加えて後述するセル厚相関データに変換し、このセル厚相関データを用いて変換画像をモニタ27に出力する。 (もっと読む)


【課題】 液晶分子が存在する液晶層のみのリタデーション(dLC・△n)を求めることができ、セル厚を求めることができる液晶表示装置、そのセル厚測定装置及び測定法並びに位相差板を提供する。
【解決手段】 液晶領域中の液晶分子が電圧無印加時に略垂直に配向する液晶層と、液晶層を挾持する1対の基板と、を備える液晶表示装置の液晶セル5の厚さを測定するセル厚測定装置において、面内にリタデーションを有する1対の1軸性位相差板をその遅相軸方向をそろえて両外側表面に取付けた液晶セルを搭載するステージ1と、偏光子23を有し、かつ、位相差板の遅相軸方向に対して方位角方向44°〜46°の偏光光を出射する光源2と、偏光光に対して偏光子とクロスニコルに配設された検光子31を有し、かつ、偏光光の透過光量を検出する光検出器3と、位相差板に垂直な方向から偏光光の極角方向入射角を変化させる回転装置4と、を備える。 (もっと読む)


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