【課題】レーザ光の光軸に直交する２方向の光軸振れを高精度に測定する。
【解決手段】第１の偏光ビームスプリッタ４は、レーザ光源１から出射されたレーザ光２ａを、第１の直線偏光成分２ｂと第２の直線偏光成分２ｃとに分割する。光学系３は、第１の直線偏光成分２ｂの振れ方向と第２の直線偏光成分２ｃの振れ方向とが互いに直交するように第１の直線偏光成分２ｂ及び第２の直線偏光成分２ｃのうち少なくとも一方の直線偏光成分を光軸まわりに回転させて合成光とする。遮光部材８は、先端８ａを合成光に突出させて合成光の一部を遮光する。第２の偏光ビームスプリッタ９は、遮光部材８で遮光されずに通過した通過光を、第１の直線偏光成分２ｂと第２の直線偏光成分２ｃとに分割する。各受光素子１０ａ，１０ｂは、偏光ビームスプリッタ９で分割されたそれぞれの直線偏光成分の光量を測定する。演算部１２は、測定結果に基づきレーザ光２ａの振れ量を求める。 （もっと読む）

【課題】真空雰囲気を維持したまま、多数の基板の薄膜の膜厚を成膜中に測定する。
【解決手段】真空槽１２内に複数のサンプル板１６を配置し、基板の成膜面に薄膜を成長させる際に、サンプル板１６の検出面６１にも薄膜を成長させ、サンプル板１６表面に測定光を照射して薄膜の膜厚測定を行うことができる。サンプル板１６には金属電極が不要であり、高温に加熱することができるので、検出面６１に形成された薄膜を加熱して除去し、サンプル板１６を再使用することができる。その結果、真空雰囲気を維持したまま、多数枚数の基板に対する薄膜の膜厚測定を行うことができる。真空雰囲気内に複数のサンプル板１６を用意し、薄膜が形成されたサンプル板１６を加熱する間に別のサンプル板１６によって膜厚測定を行うと、薄膜除去の待ち時間は生じない。 （もっと読む）

【課題】単結晶シリコン太陽電池表面上に成膜された反射防止膜の膜厚および屈折率を有効に測定するためのエリプソメーター装置を得ること。
【解決手段】実施の形態にかかるエリプソメーター装置１０は、反射防止膜が形成された測定試料１の反射防止膜が形成された面へレーザー光を照射する光源５と、前記測定試料から反射された反射光に基づいて反射光の偏光変化量を測定することにより前記反射防止膜の膜厚および屈折率を測定する検出器６と、前記測定試料を試料設置面にて保持し、前記試料設置面と垂直な方向を軸にして前記測定試料を回転する回転角度調節部と、前記測定試料を傾斜させる傾斜調節部とを有するステージ２と、前記ステージをステージ設置面上に保持する支持部７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】同じ測定箇所で位相差値と厚みデータとを測定することで、複屈折や厚み方向位相差値Ｒｔｈをより精度よく得ることができる光学測定装置を提供する。
【解決手段】光学測定装置Ｍは、光学フィルムＳに光Ｌ１を入射する投光器３０と、投光器３０から光学フィルムＳに入射された入射光Ｌ１を受光する受光器３４と、受光器３４によって受光された透過光Ｌ１から光学フィルムＳの面内位相差値Ｒ０を算出する位相差Ｒ０算出部１１と、位相差Ｒ０算出部１１で面内位相差値Ｒ０を算出するのに用いた入射光Ｌ１と同じ入射光Ｌ１を用いて光学フィルムＳの厚みデータｄを算出する厚み算出部１２とを備えている。受光器３４は、２つのファイバ部８ａ，８ｂに分岐される光ファイバ８を含んでおり、一方のファイバ部８ａが位相差Ｒ０算出部１１に接続され、他方のファイバ部８ｂが厚み算出部１２に接続されている。 （もっと読む）

【課題】被解析試料の巨視的な動きを伴った場合であっても材料や構造物などの被解析試料の微視的な領域の力学挙動を簡便に解析可能な新規な力学挙動解析システム、及び力学挙動解析方法を提供する。
【解決手段】力学挙動解析システムは、被解析試料の解析表面を少なくとも被覆し、変形自在であって、かつ、被解析試料側の少なくとも表層に所定の周期構造が形成されている表面ラベルグレーティング膜及び被解析試料からなるサンプル６０と、スポット光であるプローブ光を入射する照射手段２０と、表面ラベルグレーティング膜からの回折光を検出する受光手段３０と、被解析試料と受光手段との距離を検出する距離検出手段７０と、回折角のデータを保持する記憶手段１４と、記憶手段１４に保持された複数の前記回折角のデータから、回折格子の周期構造変化を算出し、当該周期構造変化から被解析試料の力学挙動を解析する解析手段１３と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】集積回路のような電子素子の製造において、光計測を用いた測定の精度を改善する方法及びシステムを提供する。また、調節可能なレジストの光学特性を変化させる方法及びシステムを提供する。
【解決手段】その調節可能なレジスト層は反応性ガス、液体、プラズマ、放射線若しくは熱エネルギー又はこれらを結合させたものを用いて処理されて良い。それによってフォトレジストは露光前に第１組の光学特性と異なる第２組の光学特性を得て、露光波長で又はその近傍の放射線に対して透明ではなくなり、ＯＴＳＭ構造４２０が光線４２５、４２６及び４２７を反射する。 （もっと読む）

【課題】記録紙の種類を詳細に判別することのできる小型の光学センサを低コストで提供する。
【解決手段】第１の偏光方向の直線偏光の光を、記録媒体に照射する光照射系と、前記光照射系より照射された光のうち、前記記録媒体において正反射された光を検出する正反射光検出系と、前記光照射系より照射された光のうち、前記記録媒体において拡散反射された光を検出する前記第１の偏光方向に直交する第２の偏光方向の光を透過する光学素子を備えた拡散反射光検出系と、を有する測定系を複数有していることを特徴とする光学センサを提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅情報の測定不良を抑制する。
【解決手段】表面検査方法は、基材と、その基材の表面を被覆し、かつ繰り返しパターンが形成された下地部とを含むウェハの表面に光を照射し、その光が照射されたウェハの表面からの反射光の光強度情報を、受光光学系の測定面で検出するステップ１２８と、その測定面において、第１位置での第１光強度の検出信号を求めるステップ１３０と、その下地部の情報とその第１光強度の検出信号とを用いて、その繰り返しパターンの線幅の情報を求めるステップ１４０とを含む。 （もっと読む）

【課題】光弾性を有する板状体の欠陥を良好に検出可能な欠陥検出装置を提供することができる。
【解決手段】欠陥検出装置は、光弾性を有する板状体Ｐに光を透過させることにより、該板状体Ｐの欠陥を検出する。欠陥検出装置は、板状体Ｐより前に光が透過する直線偏光子２と、板状体Ｐより後に光が透過する１／４波長板３ａと、１／４波長板３ａより後に光が入射し、透過軸が１／４波長板３ａの遅相軸に対して４５度傾いている直線偏光子３ｂと、を有する。 （もっと読む）

【課題】テクスチャ構造を有する対象物上に形成された薄膜の形状を容易かつ高精度に取得する。
【解決手段】膜形状取得装置１では、上面に複数のテクスチャ凸部を有する基板９上に形成されたシリコン膜の光学モデルにおいて、複数のテクスチャ凸部に一致する薄膜凹部およびその上方に位置する薄膜凸部が設定される。そして、薄膜凸部、薄膜凹部、および、薄膜凸部と薄膜凹部との間の中間部の形状を表すパラメータ群に含まれる各パラメータを有効膜厚にて表現し、有効膜厚を変更することにより各パラメータの値を変更して理論スペクトルの測定スペクトルに対するフィッティングが行われる。これにより、シリコン膜の形状を容易かつ高精度に取得することができる。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイ測定、非対称性測定、およびインダイオーバーレイターゲットの再構築を可能にする。
【解決手段】四分くさび光デバイス（ＱＷ）は、基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導し、第１方向および第２方向の各々に沿って照明から回折次数を分離する。例えば、０次（０、０’）および１次（−１、＋１’）を、各入射方向について分離する。マルチモードファイバ（ＭＦ）での捕捉の後、スペクトロメータ（Ｓ１−Ｓ４）を使用して波長（Ｉ_０’（λ）、Ｉ_０（λ）、Ｉ_＋１’（λ）、およびＩ_−１（λ））の関数としての空間的に再誘導された回折次数の強度を測定する。そして、これをオーバーレイエラーの計算、または単一格子の非対称パラメータの再構築に用いる。 （もっと読む）

【課題】低コストで複数の被測定物を測定することができる３次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】３次元形状測定装置は、非線形媒質３０を有し、該非線形媒質３０に照射された第１偏光状態の複数の反射チャープ光１０２、１０４、１０６をポンプ光が照射された期間で切り出すシャッタ部を備え、非線形媒質３０は、シャッタリング光が照射された期間に照射された反射チャープ光１０２、１０４、１０６の偏光状態を第２偏光状態に変化させるものであり、シャッタ部は、非線形媒質３０によって偏光状態が変わった反射チャープ光１０２、１０４、１０６を抽出することで、所定のタイミングで反射チャープ光１０２、１０４、１０６を切り出し、複数の照射装置は、非線形媒質３０におけるポンプ光の非線形効果の有効範囲１００内に反射チャープ光１０２、１０４、１０６を集光させる。 （もっと読む）

【課題】段差部毎に撮像部を設置しなくても、各段差部の三次元形状を精度良く計測する。
【解決手段】受光素子２１Ｐは、サンプルＳＰからの反射光を受光する。レンズ２２Ｌは、中心線側の段差部ＷＡ１からの反射光（光軸がＲ１）を結像して受光素子２１Ｐに導く。また、レンズ２２Ｌは、段差部ＷＡ１よりも外側の段差部ＷＡ２からの反射光（光軸がＲ２）を、ミラー２３１，２３２を介して結像して受光素子２１Ｐに導く。撮像部２１の光軸ＬＡは、段差部ＷＡ１からの反射光の光軸Ｒ１の受光素子２１Ｐまでの光学距離と、段差部ＷＡ２からの反射光の光軸Ｒ２の受光素子２１Ｐまでの光学距離とが等しくなるように、サンプルＳＰに対する仰角及び方位角が設定されている。 （もっと読む）

【課題】新規な接触面積測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】接触面積測定装置は、試料７に接する光透過性基板６と、前記試料７とは反対側から、前記光透過性基板６に光を照射する照射手段と、前記試料７からの反射光と前記光透過性基板６からの反射光とから生じる干渉画像を取得する干渉画像取得手段１２と、前記干渉画像の輝度値情報を補正処理し、得られた補正輝度値情報から輝度値ヒストグラムを作成する輝度値ヒストグラム作成手段１４と、前記輝度値ヒストグラムから接触面積を算出する接触面積演算手段１５を有し、前記補正処理は、割り算演算を有する式により、補正画像輝度を算出する。ここで、補正画像輝度は、式（補正画像輝度＝（対象画像輝度／参照画像輝度）×定数）により算出することが好ましい。また、参照画像輝度は、荷重ゼロ時の元画像に対し、ガウスぼかしフイルター処理して求めることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンの線幅の測定精度を向上させた表面検査方法を提供する。
【解決手段】所定の繰り返しパターンを有するウェハの表面に直線偏光を照射する照射ステップ（Ｓ１０２）と、直線偏光が照射されたウェハの表面からの反射光を受光する受光ステップ（Ｓ１０３）と、対物レンズの瞳面と共役な面において、反射光のうち直線偏光の偏光方向と垂直な偏光成分を検出する検出ステップ（Ｓ１０４）と、検出した偏光成分の階調値から繰り返しパターンの線幅を求める演算ステップ（Ｓ１０５）とを有し、演算ステップでは、瞳面における対角線上の瞳内位置および対角線外の瞳内位置での階調値から、繰り返しパターンの線幅を求める。 （もっと読む）

【課題】
従来技術によれば，試料に熱ダメージを与えることなく，短時間で高感度に欠陥検出・寸法算出することが困難であった。
【解決手段】
被検査対象物である試料の表面の領域を所定の照明条件にて照明する照明工程と、該試料を並進および回転させる試料走査工程と、該試料の照明領域から複数の方向に散乱する複数の散乱光のそれぞれを、前記試料走査工程における走査方向および該走査方向と概略直交する方向の各々について複数画素に分割して検出する散乱光検出工程と、前記散乱光検出工程において検出された複数の散乱光のそれぞれについて、該試料の概略同一領域から概略同一方向に散乱した散乱光を加算処理し、該加算処理した散乱光に基づき欠陥の有無を判定し、該判定された欠陥に対応する複数の散乱光のうち少なくとも一の散乱光を用いて該判定された欠陥の寸法を算出する処理工程と、を備える欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】回折格子の形状特徴物などの小寸法の形状特徴物のプロフィールを見出すためのシステムを提供する。
【解決手段】シード・プロフィールのギャラリが作られ、半導体装置についての製造プロセス情報を用いて該プロフィールに関連する初期パラメータ値が選択される。回折構造および関連するフィルムを測定するとき、反射率Ｒ_s，Ｒ_pなどのいろいろな放射パラメータおよび楕円偏光パラメータを使用することができる。放射パラメータのうちのあるものは、該プロフィールまたは該フィルムのパラメータ値の変化に対してより敏感な１つ以上の放射パラメータを選択してより精密な測定に到達することができる。プロフィール・パラメータのエラーを補正するために上述した手法をトラック／ステッパおよびエッチャに供給してリソグラフィおよびエッチングのプロセスを制御することができる。 （もっと読む）

【課題】対象物の変位を正確に検出することが可能な光学式変位計を提供する。
【解決手段】投光部１は、偏光方向が互いに異なる第１および第２の光を選択的にワークＷに照射する。ワークＷからの反射光が、受光レンズ２２を通して受光素子２１に入射する。波形生成部は、受光素子２１による第１および第２の光の受光量分布を示す第１および第２波形データを生成する。波形処理部７は、第１および第２の波形データの間で互いに対応するピークの比を算出し、算出された比に基づいて、第１および第２の波形データの各々から１つのピークを選択し、そのピークの位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】フィルムの表面と裏面から反射した光の分光スペクトルによるパワースペクトルのピークからこのフィルムの膜厚を測定する膜厚測定装置は、フィルムの膜厚が厚いと測定ができなくなり、また複屈折性を有するフィルムはピークが双峰性を有するので、誤差が大きくなる。本発明は、膜厚が厚くかつ複屈折性を有するフィルムでも正確な測定ができる膜厚測定方法および装置を提供することを目的にする。
【解決手段】フィルムに偏光した光を照射し、フィルムを透過した光からリタデーションを演算し、このリタデーションとフィルムの屈折率差から膜厚を演算する。膜厚が厚く、かつ複屈折性を有するフィルムの膜厚を正確に測定できる。 （もっと読む）

【課題】微小な領域の薄膜の厚さや光学定数の２次元分布を高速かつ高精細に計測することのできる測定機の提供。
【解決手段】入射・受光光学系と偏光測定モジュール１０５と解析装置とを具えるエリプソメータで、入射光学系は平行光ビームを出射する機構と光ビームの偏光状態を定める偏光子１０２あるいは波長板を有し、受光光学系は測定試料１０３から反射された光ビームを受光し、測定試料面の像を前記偏光計測モジュールに含まれるエリアセンサ１０６に結像させるレンズ系、偏光計測モジュールは波長板アレイ１０７と、均一偏光子１０８と、エリアセンサとを含む。波長板アレイは１次又は２次元的に繰り返し配置された複数の単位ユニットを含み、該ユニットは同異方性軸の方向が異なる少なくとも４種類の波長板を含む。均一偏光子は一方向の透過軸を有し、エリアセンサは前記波長板アレイおよび前記均一偏光子の順に通過した光を独立にその強度を測定できる。 （もっと読む）