説明

Fターム[2F065FF49]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 測定方法 (22,691) | 偏光特性利用 (374)

Fターム[2F065FF49]の下位に属するFターム

偏光解析 (56)

Fターム[2F065FF49]に分類される特許

61 - 80 / 318


本発明の態様は、部分的に、電磁放射光源および干渉原理を用いる光干渉断層撮影システムなどのデータ収集システムにおける強度および/またはパターンライン雑音の低減のための方法、装置、およびシステムに関する。1つの実施形態において、雑音は強度雑音またはパターンライン雑音であり、光源は掃引レーザーなどのレーザーである。1つの実施形態においては、アナログまたはデジタルフィードバックネットワークと併せて、1つ以上の制御信号に応答する1つ以上の減衰器を用いることができる。
(もっと読む)



【課題】表面に透明薄膜が形成された基板等の試料において、透明薄膜の上面の微小な異物、キズ等の欠陥を高感度且つ高速に検査することができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の欠陥検査装置によると、照明光学系は、試料の表面の法線に対して所定の入射角を有する検査用照明光を試料表面に照射し、試料表面にスリット状のビームスポットを生成する。試料の表面に対して所定の傾斜角にて傾斜した光軸を有する斜方検出系と試料の表面の法線に沿った光軸を有する上方検出系によって、ビームスポットからの光を検出する。斜方検出系と上方検出系の出力によって、試料の表面の透明薄膜上の欠陥を検出する。検査用照明光の入射角は、試料の表面の透明薄膜下面にて反射した反射光が透明薄膜上面にて全反射するときの入射角より僅かに小さい角度である。 (もっと読む)


【課題】透明体の検出を簡易かつ高精度に行う。
【解決手段】透過光の偏光方向が変化する特性を有する透明体114を含む第一領域を撮像して、垂直偏光画像および水平偏光画像を撮像するカメラ12と、透明体114を載置する載置台113と、カメラ12から載置台113を挟んで、第一領域のうち少なくとも透明体114を含んで撮影される第二領域の範囲を含む位置に設置された偏光フィルタ112と、垂直偏光画像および水平偏光画像に基づく縦横偏光度画像の縦横偏光度の分布に基づいて透明体を検出する画像処理装置13とを備える。 (もっと読む)


【課題】透明平板の検出を簡易かつ高精度に行う。
【解決手段】透明平板114を含む領域を、該透明平板114の平面部法線方向に対して所定の角度から撮像して、垂直偏光画像および水平偏光画像を撮像するカメラ12と、載置台113と、載置台13の下側に設置された反射面111と、透明平板114の平面部法線に対して、カメラ12と対向するように配置され、透明平板114の平面部からの正反射光がカメラ12に入射しないように遮光する遮光板102と、垂直偏光画像および水平偏光画像に基づく縦横偏光度画像の縦横偏光度の分布に基づいて透明平板114を検出する画像処理装置13とを備える。 (もっと読む)


【課題】撮像画像中の輝度に明確な違いがない立体物と平面物体との間を、撮像手段を用いて高い精度で識別することを課題とする。
【解決手段】撮像領域内に存在する立体物を識別する立体物識別装置であって、物体からの反射光に含まれている偏光方向が互いに異なる2つの偏光(P偏光とS偏光)を受光してそれぞれの偏光画像(P偏光画像とS偏光画像)を撮像する偏光カメラ10と、画素ごとにP偏光画像とS偏光画像との間における輝度差分値の輝度合計値に対する比率である差分偏光度を算出する差分偏光度画像処理部15と、この差分偏光度を用いて撮像領域内の物体が立体物であるか否かの立体物識別処理を行う立体物識別部18とを有する。 (もっと読む)


【課題】撮影環境によらずに簡易な構成で走行路面の境界を正確に検出することができ、安全な運転のための運転者への視認表示や車両制御への的確な情報を提供し得る撮像装置を提供する。
【解決手段】偏光カメラによって撮影した路面の垂直偏光画像と水平偏光画像とから偏光比を算出して偏光比画像を生成する。偏光カメラで撮影した画像の輝度情報に基づいて白線WLを検出し、内側のそれぞれの偏光比(走査用基準偏光比)を使って、1走査線ごとに画面の下から画面の上まで中央から左、右方向へ同じ走査線にある偏光比との差分を算出し、予め設定された閾値と比較することで、路端REを検出する。差分値が閾値以内の部分は×で表示し、閾値より大きい部分は黒丸で表示している。黒丸部分は路端REとして認識されたところである。 (もっと読む)


【課題】位置計測系の周期誤差が発生しても、精度良く周期パターンの位置を検出する。
【解決手段】可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。ここで、位置計測系の計測周期(図10(B)及び10(C)に示される例では0.25μm)の自然数倍と異なるピッチ(図10(C)の例では2.03125μm(なお、図10(B)の例では2μm))の周期パターンを計測用マークとして用いることにより、計測周期に等しい位置計測系の周期誤差が発生しても、検出精度を損なうことなく、計測用マークの位置情報を計測することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、測定対象物の表面形状をより高い精度で測定することができる形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の形状測定装置Sは、光へテロダイン干渉を行う一面側測定部2および他面側測定部3によって測定対象物WAの厚さを測定するものであって、一面側測定部2が測定対象物に複数の測定光を照射することで、1回の測定で測定対象物WAにおける厚さと表面形状とを測定する。 (もっと読む)


【課題】偏光膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚を、光干渉法によって高精度に測定するための手段を提供する。
【解決手段】複数の被膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚測定方法。前記積層体に測定光を照射し、該積層体から反射された反射光を受光することにより反射スペクトルを求める反射スペクトル測定工程と、求められた反射スペクトルに基づき測定対象被膜の膜厚を求める膜厚算出工程と、を含み、前記積層体は、複数の被膜中の一つとして偏光膜を含み、前記反射スペクトル測定工程において、前記測定光を照射する出射口部および/または前記反射光を受光する受光部と、前記積層体との間に偏光素子を配置し、かつ、上記偏光素子を、前記求められる反射スペクトルの振幅が、偏光素子を配置しない状態で得られる反射スペクトルの振幅から変化するように配置する。 (もっと読む)


【課題】2次元の光切断法において隙間の間隔および段差を、エッジの形状に関係なく、高精度に算出することが可能な2次元光切断法による隙間および段差の測定装置を実現する。
【解決手段】ユーザが間隔寸法、段差寸法を求めたい対向面中のレーザ輝線をモニタ17の画面20に指定する。間隔寸法、段差寸法共に、CPU14は、指定された範囲内でレーザ輝線の位置をサブピクセル精度で抽出し、間隔寸法を測定する場合は、対向する面上のそれぞれのレーザ輝線の直線方程式を計算し、両直線の互いの間隔を算出する。また、CPU14は段差寸法を測定する場合は、段差を形成する2つの面上のそれぞれのレーザ輝線の直線方程式を計算し、両直線の互いの間隔を算出する。そして、算出された間隔寸法、段差寸法を、モニタ17に表示させる。 (もっと読む)


【課題】測定対象物の移動機構を使用せずに高さ方向のダイナミックレンジを拡大可能とする。
【解決手段】本発明の干渉測定装置は、可干渉距離が有限の光束を生成する生成手段(9、20)と、光束を2つの光束に分岐し、それら2つの光束の一方を測定対象面(25a)へ照射すると共に他方を参照面(24a)へ照射する分岐手段(22)と、測定対象面を経由した測定光束と参照面を経由した参照光束とを同一光路に統合して統合光束を生成する統合手段(22、21)と、分岐手段により分岐される光束の可干渉距離を走査する走査手段(20)と、可干渉距離の走査位置と統合光束の強度との関係を示す関係情報を取得する測定手段(27、30)と、関係情報に基づき、測定光束と参照光束とが干渉する走査範囲と、測定光束と参照光束とが干渉しない走査範囲との境界を、測定対象面の高さ情報として取得する演算手段(30)とを備える。 (もっと読む)


【課題】 高精度に物体の変位量を測定可能な変位測定装置を提供することを目的とすること。また、特にそれを具備した露光装置、及び精密加工機器を提供すること。
【解決手段】 変位測定装置200は、格子パターン4が形成されたスケール5と、スケール5に光を照射する光源1と、光源1からの複数の回折光のそれぞれを円偏光に変換する波長板6と、波長板6を透過した複数の回折光を重ね合わせて干渉させる光学素子7と、干渉させた光を受光する受光素子10とを備える。そして、波長板6に入射する複数の回折光が互いに偏光方向の等しい直線偏光になるように、光源1からの光を直線偏光に変換する直線偏光生成手段50を備える。 (もっと読む)


【課題】試料に形成された周期構造の特性を実時間で分析する。
【解決手段】波長の関数としての信号を発生させる分光計測モジュールがを使用する。出力信号はプロセッサーにより方形構造の理論的な初期モデルを構築する。次いで、プロセッサーは、この試料の広帯域放射に対する理論的な光学的応答を計算する。光学的応答の計算結果は、複数の波長において計測され正規化された値と比較される。この比較に基づいて、モデルの構成は実際の計測された構造により近づくよう修正される。プロセッサーは修正されたモデルの光学的応答を再計算し、計算結果を正規化されたデータと比較する。最適な方形が得られるまでこの処理が反復して繰り返される。その後、モデルを各々幅と高さを持つ層に分割しモデルの複雑さを反復して増大させる。構造が周期構造に類似するような最適なモデルが得られるまで、反復処理によりデータが最適化される。 (もっと読む)


【課題】ロボットの組立作業において、ワークの把持動作を確実に行う。
【解決手段】把持部材2a、2bの間にワークWを把持する工程において、各把持部材2a、2bに設けられた接触押圧部21a、21bがワークWを押圧して把持することによって発生する光学縞を検出して、把持力の制御を行う。このとき、把持部材2aに設けられたワーク有無検出部22aがワークWに接触することによって発生する光学縞を検出することで、把持部材2a、2bの間にシート状のワークWが有ることを確認する。 (もっと読む)


【課題】干渉測定および非干渉測定の両方を通して物体表面の高さマップを定める装置を提供する。
【解決手段】本発明は、表面の高さマップを定める装置であって、表面が測定される物体の位置決め手段と、光源と、受けた光を電気信号に変換する光検出器と、光源からの光を表面に向け、表面からの光を光検出器に向ける第1の光学系と、第1の光学系と表面との間に配置されるビームスプリッタと、参照ミラーと、ビームスプリッタとミラーとの間に配置され、ビームスプリッタからの光をミラーに向けると共に、ミラーからの光をビームスプリッタに向ける第2の光学系と、走査手段と、光検出器からの信号を高さマップに変換するように構成された処理手段とを備え、ビームスプリッタが偏光ビームスプリッタであり、光源と第1の光学系との間に、制御可能な偏光コントローラが配置される、装置に関する。 (もっと読む)


【課題】物体に簡便で小型な反射センサーを取り付け、回転・傾斜を精密にリモート計測する方法を提供する。
【解決手段】リモート観測方向に設置固定された偏光検知器と、物体に取り付ける反射センサーと、該反射センサーに円偏光を照射する光源装置から成り、且つ、該円偏光の照射角度範囲の設定によって、該反射センサーで所定の範囲の入射角度分布で正反射せしめ、その正反射せしめることで、該正反射光束を偏光反射の既知の入射角依存性に従う所定の空間分布の発散する楕円偏光光束を成さしめ、その楕円偏光光束を検出して、リモート観測方向へ向かう光線成分の偏光楕円から該反射センサーのリモート観測光軸周りの回転角θと観測光軸と成す傾斜角φを計測する。 (もっと読む)


【課題】磁石の位置、すなわち、埋め立て地盤の地層の位置を検知する。
【解決手段】埋め立て地層に磁石12を埋め込み、その磁場の位置を検知することで、地層の沈下を検知する地盤沈下計において、磁場の位置を検知する手段として、光ファイバ11中を伝搬する光に対する磁場の偏光回転の効果(ファラデー効果)を利用し、かつ、OTDRの技術に偏光感知能力をもたせたPOTDR13により、偏光が回転した位置を、すなわち埋め立て地盤の地層の位置を正確に検知する。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成でありながら、参照面と被検面との間の絶対距離を高精度に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】第1の光源から射出される光の波長を、既知の真空波長である第1の基準波長又は第1の基準波長とは異なる既知の真空波長である第2の基準波長に設定するための波長基準素子と、参照面と被検面との間の空間の群屈折率を検出する屈折率検出部と、参照面で反射された光と被検面で反射された光との干渉信号を検出して、干渉信号から参照面と被検面との間の光路長に相当する位相を検出する位相検出部と、波長基準素子を用いて第1の光源から射出される光の波長を第1の基準波長から第2の基準波長に連続的に変更させながら第1の基準波長及び第2の基準波長のそれぞれについて、参照面と被検面との間の光路長に相当する位相を検出するように位相検出部を制御して、絶対距離を求める処理部とを有する計測装置。 (もっと読む)


【課題】フォーカス異常とドーズ量異常を区別して検出することが可能な表面検査方法を提供する。
【解決手段】所定の繰り返しパターンを有するウェハの表面に直線偏光を照射する照射ステップ(S104)と、直線偏光が照射されたウェハの表面からの反射光を受光する受光ステップ(S105)と、対物レンズの瞳面と共役な面において、反射光のうち直線偏光の偏光方向と垂直な偏光成分を検出する検出ステップ(S106)と、検出した偏光成分の階調値から繰り返しパターンの線幅および露光時のフォーカス状態を求める演算ステップ(S107)とを有し、演算ステップでは、瞳面において線幅との相関が高い瞳内位置での階調値から線幅を求めるとともに、フォーカス状態との相関が高い瞳内位置での階調値からフォーカス状態を求める。 (もっと読む)


61 - 80 / 318