【課題】複数波長を搭載した暗視野検査装置では、波長に応じて回折光の位置が異なるため、全ての回折像を遮光した場合、解像度が低下する問題がある。また、液晶フィルタのような２次元アレイ状のデバイスを用いる場合、特定の偏光しか検出できず、検出する偏光と直交方向に振動する偏光特性を有する欠陥の散乱光を遮光して欠陥を見逃すことになる。このため、レンズの解像度を低下せず、欠陥散乱光の偏光特性にも依存されずに検出感度の高い欠陥検査方法とその装置を提供する。
【解決手段】検出光路を波長分岐或いは偏光分岐の少なくても一つ以上の分岐を行い、分岐後に２次元アレイ状の空間フィルタを配置し、回折光のみを前記２次元アレイ状の空間フィルタにて遮光することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ノイズ光成分を除去することで、内部から穴形状を撮像できない被検物体の光学的な形状測定を行うことができる穴形状測定装置を提供する。
【解決手段】穴形状測定装置を、光軸方向に延びるように形成された穴Ｈを有する被検物体８０の当該穴Ｈから放射された光を集光する機能を有する対物レンズ２０と、この対物レンズ２０の射出瞳面若しくは当該射出瞳面と共役な面に配置され、被検物体８０のうち、穴Ｈから放射された光線を通過させる開口部３２、及び、穴Ｈ以外の部分から放射された光線を遮光する遮光部３１を有する遮光部材３０とから構成する。 （もっと読む）

【課題】散乱媒体の厚さを算出することができる光学システムを提供すること。
【解決手段】光学システムであって、光を散乱する散乱媒体、および散乱媒体の下部にあり、光が入射された場合に偏光された光を入射側に戻す下部媒体を有する物体に向けて、光を照射する光照射部と、光照射部から照射されて散乱媒体によって散乱された光、および下部媒体からの光を受光する受光部と、受光部が受光した光の非偏光成分および偏光成分の少なくとも一方に基づいて、下部媒体までの散乱媒体の厚さを算出する厚さ算出部とを備える。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】基板のモデルを評価する方法が提供される。スキャトロメトリ測定が、第１の波長で放射を用いて行われる。次に、放射の波長が変更され、他のスキャトロメトリ測定が行われる。スキャトロメトリ測定値が、波長のある範囲内で同じである場合には、モデルは十分に正確である。しかし、スキャトロメトリ測定値が、波長の変化につれて変化する場合には、基板のモデルは十分には正確でない。 （もっと読む）

【課題】 温度変動や波長変動に起因する検出誤差の発生を抑えて、被検面の面位置の変位を高精度に検出することのできる変位検出装置。
【解決手段】 測定対物レンズ（４）を介して被検面（２０ａ）に光源（ＬＳ）からの光を投光し、測定対物レンズを介した被検面からの反射光に基づいて、被検面の面位置の変位を検出する変位検出装置。光源からの光を複数の光に分割し、複数の光のうちの第１の光を測定光として測定光路に沿って導き且つ複数の光のうちの第２の光を参照光として参照光路に沿って導く光分割部材（２）と、被検面で反射された測定光が含む測定情報と参照光が含む参照情報とに基づいて被検面の面位置の変位を検出する検出系（１３，１４）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】測定のための受光量を簡単な装置構成で増やすとともに迅速な測定が可能にする。
【解決手段】偏光板に挟まれたサンプル１１中の測定対象粒子に光を照射する照明手段１３と、サンプル１１の光照射側とは反対側に配置され照明手段１３の照明光により発生する測定対象粒子からの散乱光を測定する光測定手段１５と、測定された散乱光の情報から測定対象粒子の粒子径を求める粒子径算出手段１７とを備えた。この照明手段１３は、サンプル１１の被測定領域に対する光照射角度の範囲を変更する機能を有する。 （もっと読む）

【課題】 個々の凹部や凸部の一部に形成されている小さな欠陥と、凹部と凸部とにまたがって形成されている格子ピッチよりも大きな欠陥とを両方一緒に検出する。
【解決手段】 検査対象物ＯＢを固定した固定治具１０を回転させながら回転軸方向に移動させるとともに、検査対象物ＯＢの微細格子構造Ｇにレーザ光を照射し、その反射光の強度と偏光状態とを検出する。反射光の強度が基準レベルより低下している場合には、その照射位置に、凹部と凸部とにまたがって形成されている格子ピッチよりも大きな欠陥が存在すると判断する。また、上記大きな欠陥が存在していると判断した部位を除く領域において、反射光の偏光状態が理想の偏光状態に対して許容値を超える差を生じている場合には、その照射位置に、個々の凹部や凸部の一部に形成されている小さな欠陥が存在すると判断する。 （もっと読む）

【課題】微小構造の計測精度向上
【解決手段】計測対象物１０に対し直線偏光の第１計測光８０を照射する第１照射部５２と、計測対象物１０により反射された第１計測光８０の第１反射光８２を検出する第１検出部５４と、計測対象物１０を回転させる回転部５５と、計測対象物１０の回転に伴う第１反射光８２の変化に基づき、計測対象物１０の方向を判定する第１判定部６０と、を具備することを特徴とする計測装置５０。計測対象物１０の方向を判定する機構を備えることにより、計測精度を向上させることができる。 （もっと読む）

方法及び装置は、ウェハスクライブシステムのためのリアルタイムのオートフォーカスを実行する。方法及び装置は、スクライブレーザビームのための対物レンズ（２６）の真下のウェハ（１０）の表面（５０）に、グレージング角で方向付けられた偏光光（４２）を用いる。ウェハから反射した光は、フィルタリング（５６）され、スクライブレーザビームからの光が除外され、位置敏感型検出器（５８）に集光され、対物レンズからウェハ表面までの距離が測定される。 （もっと読む）

【課題】配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現する。
【解決手段】欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。偏光（アルファ）は、ｐ偏光とｓ偏光との間にある。算出した偏光（アルファ）の光を試料に照射して欠陥を検査する。これにより、配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】計算の繰り返しをできるだけ排除して時間の無駄を排除しながら、より正確な分析結果を求めることが出来、しかも、その解を求めるための操作過程においてオペレータが使いやすい分光エリプソメータを提供する。
【解決手段】各フィッティングデータの実測データに対する一致度を選択可能に一覧表示し、選択された一致度に対応するフィッティングデータと実測データとを同一グラフ上に比較可能に表示するようにした。 （もっと読む）

【課題】回折スペクトルの情報を失わずにオーバレイを測定するために、より小さいターゲットで使用することができる放射を提供する放射源を提供する。
【解決手段】放射が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを高開口数のレンズの瞳面で測定することによって、基板の特性を割り出す装置及び方法。特性は、角度及び波長に依存してよい。基板で反射する放射は、放射状に偏光する。 （もっと読む）

【課題】薄膜の微小構造を高いコントラストで観測でき、かつ膜厚を定量的に測定することができる膜厚分布測定装置を提供すること。
【解決手段】本実施形態のエリプソメトリー顕微鏡１は、光源２と偏光子５と位相補償子６と対物レンズ８とを備え試料Ｓを所定角で照明する斜め照明系と、対物レンズ８と結像レンズ１５と検光子１６とにより試料Ｓを撮像装置１７の検出面１８に検出する結像系とを備え、結像レンズ１５の前側焦点面を対物レンズ８の後側焦点面に一致させるとともに、結像レンズ１５の後側焦点面を検出面１８に一致させ平行光として投射するとともに、結像系により検出面１８に試料Ｓの散乱光による像を結像させ、高倍率でかつコントラストの高い膜厚分布の差を測定できる。 （もっと読む）

【課題】検出する光の光量低下を防止した表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、所定の繰り返しパターンを有するウェハの表面に紫外光を用いた直線偏光を照射する照明部と、直線偏光が照射されたウェハの表面からの反射光のうち直線偏光と振動方向が略直角な偏光成分を検出する検出部と、検出部で検出された偏光成分に基づいて、繰り返しパターンにおける欠陥の有無を検査する検査部とを備え、照明部または検査部の光路上に、直線偏光または偏光成分を得るための偏光板３４が密閉部材３６により外気に対して密閉された状態で配設される。 （もっと読む）

【課題】測定したスペクトルをライブラリに記憶された計算スペクトルと比較し、リソグラフィプロセスの少なくとも１つのプロセスパラメータを割り出す方法の提供。
【解決手段】第一系列の較正スペクトルが少なくとも１つの基準パターンから計算され、各スペクトルは基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに個々の基準パターンの少なくとも１つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算され、各スペクトルが中央ライブラリに記憶される。ターゲットスペクトルについて記憶されたスペクトルの少なくとも１つに対応する第二系列の較正スペクトルがターゲットスペクトルを測定する装置のパラメータを使用して計算される。測定ターゲットスペクトルは放射ビームをターゲットパターンに誘導することによって生成される。測定ターゲットスペクトルと第二系列の較正スペクトルを比較し、ターゲットパターンの構造パラメータの値を導出する。 （もっと読む）

【課題】 選択可能な回折次数の放射のために様々な偏光成分に対する微細なラインパターンにより空間的に変化する反射特性を可能にするアライメントマークを製品にもたらすことである。
【解決手段】 製品の位置はその製品上のアライメントマークを使用して測定される。放射がアライメントマークに向かって伝送され、アライメントマーク内のパターンによって回折される。位置情報は回折された放射の位相関係から決定される。アライメントマークは、それから回折された放射が収集される相互に平行な導電体トラックのセットを備え、そのパターンは連続するトラックの間のピッチが、製品の表面に沿った位置の関数として変化するパターンによって決定される。したがって例えばパターンは、ピッチが第１および第２の値をそれぞれ有する交互となった第１および第２の領域を備える。第１および第２の領域のようなパターンの異なる部分においてトラックは互いに平行なのでより良い測定が可能である。 （もっと読む）

【課題】スケール部材を用いる計測誤差の発生を抑制し、露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光で物体を露光する。露光装置は、物体を保持して所定面内を移動可能で且つ、格子を含むスケール部材が配置される移動体と、所定面内における移動体の位置情報を計測する計測システムと、移動体に保持された物体の表面の位置情報を検出する検出システムとを備えている。検出システムが、スケール部材の表面の異物を検出する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の種類を特定可能な表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、ステージ２０を用いて設定した複数の設定角度において、照明系３０が繰り返しパターンを有するウェハ１０の表面に直線偏光を照射するとともに、受光系４０がウェハ１０からの正反射光のうち直線偏光と振動方向が略直角な偏光成分を検出し、複数の設定角度毎に検出した偏光成分に基づいて画像処理部５０がウェハ１０の繰り返しパターンにおける欠陥の種類を特定するようになっている。 （もっと読む）

【課題】測定試料を変えるたびごとに測定点の位置補正を行う必要がなく、更に、測定試料上の同一点についての複数種類の特性の測定を、同一検査装置を用いて行なうことができる検査装置を提供する。
【解決手段】試料を載置するためのステージ３と、１又は複数の検査機器６、７を支持可能な検査機器支持用ヘッド５と、ステージ及び／又は検査機器支持用ヘッドを支持している移動機構２３、４３と、ステージ上の基準点の実座標と目標座標との偏差を格納する偏差格納部と、複数の検査機器の測定点間のオフセット値を格納するオフセット値格納部と、格納された偏差及びオフセット値を参照して、複数の検査機器のうちのいずれか１つの検査機器の測定点と他の検査機器の測定点とが一致するように、ステージ及び／又は前記検査機器支持用ヘッドを移動させる位置制御部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】感度の高い表面検査が可能な表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、所定の繰り返しパターンを有するウェハ１０の表面に第１の直線偏光Ｌ１を照射する照明系３０と、ウェハ１０の表面で生じた楕円偏光Ｌ２から第１の直線偏光Ｌ１と振動方向が異なる第２の直線偏光成分Ｌ３を抽出する検光子４２と、第２の直線偏光成分Ｌ３を検出する撮像カメラ４４と、撮像カメラ４４で検出された第２の直線偏光成分Ｌ３に基づいて、繰り返しパターンの形状変化を表示するモニタ５５と、楕円偏光Ｌ２の進行方向と垂直な面内における楕円短軸の向きと当該垂直な面内における第２の直線偏光成分Ｌ３の振動方向とが略一致するように検光子４２を設定可能な回転駆動装置４３とを備え、繰り返しパターンに応じて検光子４２を設定するようになっている。 （もっと読む）