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Fターム[2F065FF49]の内容

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【課題】 高速化を図るとともに、正確な取り込みができるバンプ高さ測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】 半導体の基板表面に白色光の干渉波を照射して、基板表面のバンプ高さを測定するバンプ高さ測定方法及び測定装置において、基板表面及びバンプ頂点に各々アイソレートされた干渉波(m+1/4)λ(mは整数)を合わせ、バンプ高さを測定する。とくに、マルチオーダー波長板及び光分離光学素子を用いる。基板に白色光を照射する照射系を微動させることにより、基板表面及びバンプ頂点に各々アイソレートされた干渉波(m+1/4)λ(mは整数)を合わせる。 (もっと読む)


【課題】焦点楕円計測部で試片の特性を高速で測定した後に、特異点が現れる位置を精密測定部でより詳細に測定する高速大面積の精密測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】偏光された光を試片に集中照射した後、前記試片で反射した光を検出して前記試片の光学的特性を高速で測定する焦点楕円計測部;及び前記試片の光学的特性の中で特異点が現れる位置を再び原子単位まで測定する精密測定部;とを含む。 (もっと読む)


【課題】レーザ光のビーム断面の光強度分布を調整して液滴に照射させることにより、液滴の体積や速度や位置を正確に測定すること。
【解決手段】液滴測定装置において、第1レーザ光源と、吐出される液滴に対し前記第1レーザ光源からのレーザ光を照射させる位置で、前記レーザ光のビーム断面について前記液滴の吐出方向のビーム幅に対して前記液滴の吐出方向に垂直な方向のビーム幅が大きくなるようにするものであって、前記液滴の吐出方向に垂直な方向における前記液滴の吐出位置のばらつきが生じる範囲内で前記レーザ光の光強度を所定の範囲に収める第1光学手段と、前記第1光学手段により前記液滴に対し照射された前記レーザ光を受光して検出信号を生成する第1受光手段と、前記第1受光手段で生成する前記検出信号から前記液滴の体積や速度を演算する第1液滴特性演算手段と、を有する。 (もっと読む)


【課題】繰り返しパターンの構造性複屈折を利用した表面検査において、偏光の乱れを十分に補正することが可能な表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置1は、ウェハ10を照明するための直線偏光の発散光束を射出する照明部31〜33と、照明部31〜33から射出された発散光束を反射させてウェハ10へ導く凹面反射鏡39と、照明部31〜33により照明されたウェハ10からの光束のうち直線偏光と偏光方向が略直交する直線偏光成分を受光する受光部40と、凹面反射鏡39に起因して発生する偏光の乱れを補正する偏光補正部材35とを備え、偏光補正部材35は、照明部31〜33と凹面反射鏡39との間の光軸に対し傾斜した状態で互いに平行に配置された二枚の平行平面板36,37からなり、当該平行平面板36,37は、使用波長に対する屈折率が1.6以下の材料を用いて形成されている。 (もっと読む)


【課題】筒状成形体に生じた傷、歪みその他の異常を、高い精度で、かつ、効率よく検査することのできる検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】樹脂の成形により成形した筒状成形体に対して検査光を照射する光源と、筒状成形体の内部に配置した第1偏光手段と、筒状成形体の外部であって、検査光の進行方向上に配置した第2偏光手段と、検査光が第1偏光手段及び第2偏光手段を通ることによって生ずる干渉模様を撮像する撮像手段と、干渉模様に基づいて筒状成形体の、歪み、形状及び外観のうち少なくとも一つを解析する解析手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】支持ピン3の位置再現性を向上させること、及び載置板2と支持ピン3間の移載において基板Wの水平方向のずれを防止することである。
【解決手段】基板Wの反りを測定する反り測定系7、及び当該基板Wの反り以外の物理量又は化学量を測定する通常測定系6に用いられる基板測定用ステージ1であって、前記通常測定系6の通常測定位置P1、及びその通常測定位置P1から下方に離間した退避位置P2の間を移動可能な載置板2と、前記載置板2に設けられた貫通孔21に挿通可能であり、前記反り測定系7の反り測定位置P3に固定された複数の支持ピン3と、前記載置板2を前記通常測定位置P1及び前記退避位置P2の間で昇降移動させる駆動機構と、を備え、前記反り測定位置P3が、前記通常測定位置P1及び退避位置P2の間に設定されている。 (もっと読む)


【課題】振動・衝撃発生位置を特定可能にした光ファイバによる振動・衝撃位置検知装置を提供する。
【解決手段】2つの光学系3A、3Bで共用する第2光ファイバF2上でのみ、振動・衝撃によって発生した光波の偏波変動を検知する。つまり、第2光ファイバF2のみが振動・衝撃を検知する検知線となっている。第2光ファイバF2に加わった外力は、これを互いに逆方向に伝搬する第1光波と第2光波の両方に偏波変動を同時に発生させ、第1光波、第2光波に生じる偏波変動A波、偏波変動B波は、第1受光器2A、第2受光器2Bに個別に入射し、電気信号に変換される。これにより、偏波変動A波と偏波変動B波を分離して検出できる。また、両受光器2A,2Bの出力に基づき両偏波変動波の到達時間差Δtを計測することで、振動・衝撃発生位置の特定が可能となる。 (もっと読む)


【課題】分光エリプソメータにおいて対象物上の照射領域の大きさおよび形状を高精度に検出する。
【解決手段】膜厚測定装置10の分光エリプソメータ1では、基板9の測定面91にて反射された反射光が、受光部4の検光子42により、所定の偏光方向の直線偏光成分である第1偏光光と、第1偏光光に垂直な偏光方向の直線偏光成分である第2偏光光とに分割される。そして、第1偏光光を利用して反射光の波長毎の偏光状態が測定され、第2偏光光を利用して基板9の測定面91上の照射領域の大きさおよび形状が検出される。分光エリプソメータ1では、照射領域の大きさおよび形状の検出が、測定面91からの反射光のうち、偏光状態の測定に利用されない偏光成分である第2偏光光を利用して行われることにより、反射光の偏光状態の測定精度を高く維持しつつ基板9の測定面91上の照射領域の大きさおよび形状を高精度に検出することができる。 (もっと読む)


【課題】液晶の物性値を高精度に測定することが出来る方法と装置を提供する。
【解決手段】液晶の配向分布に捻れがない液晶セルを用いて、入射角の少なくとも1水準が波長の2水準以上に分かれ、かつ波長の少なくとも1水準が入射角の3水準以上に分かれるように、入射角と波長とを相違させた少なくとも計4つの条件で、前記液晶セルの光学特性を測定し、測定値とシミュレーション計算値とのフィッティングから液晶の常光屈折率nの波長依存性および異常光屈折率nの波長依存性を決定する。 (もっと読む)


【課題】 観察物体の位相変化量等を微分干渉顕微鏡により得た微分干渉画像から短時間で検出する装置を提供する。
【解決手段】 光源と、光源からの光を2つの偏光成分に分離し観察物体に導く照明光学系と、照明光学系内で分離された2つの偏光成分を再構成し観察物体の像を形成する結像光学系を有する微分干渉顕微鏡と、2つの偏光成分のリターデーション量を変化させる手段と、リターデーション量を検出する手段と、観察物体の像を撮像する手段を備え、リターデーション量が等しく符号の異なる観察物体の2つの微分干渉像を撮像手段で撮像する検出装置において、2つの微分干渉像の画像において夫々対応する画素毎に差演算及び和演算を行って差画像情報と和画像情報を取得し、以下の式を用いて観察物体面上の位相量を検出する演算手段を備える。
∂Φ(x,y)/∂r=k・{(1−cosθ)・D(x,y)}
/{2sinθ・S(x,y)} (もっと読む)


【課題】テレセントリック光学系を用いた検査光学系において、うねりや微妙な凹凸や異物、傷のような欠陥と同時に、色むら欠陥も同時に感度良く検出できる検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】白色点光源からの照射光を検査対象物に導き、検査対象物表面から戻って来た反射光を集束するための光学素子と、光学素子の後像空間焦平面位置に配設される開口絞りと、開口絞りを通過した反射光の像を検出する像検出手段と、を備えた検査装置において、開口絞りは、透過波長帯域の異なる複数のカラーフィルターを同心円状に配置した構成であり、像検出手段は、複数のカラーフィルターを透過した光を分離した状態で受光し、像検出手段によって得られた単独の画像及び組み合わせた画像から欠陥を検出する欠陥検出手段を有する。 (もっと読む)


【課題】偏光特性を持つ物質をより高精度に検出することができる紙葉類検査装置および紙葉類検査方法を提供する。
【解決手段】紙葉類検査装置1は、紙葉類10に対して光を投光し、前記紙葉類10を透過した透過光を複数方向に分割し、それぞれ異なる偏光面を有する複数の光に偏光する。この偏光した光をそれぞれ受光して電気信号に変換し複数の画像を取得する。取得した複数の画像を対応する画素毎に輝度の差を検出し、差が検出された画素の数に基づいて紙葉類10上の偏光特性を有する領域の面積を算出する。算出した面積と予め記憶されている基準値とを比較し、紙葉類10の良否判定を行なう。 (もっと読む)


【課題】計測対象面の凹凸に起因する面位置センサの計測誤差の補正データを作成し、該補正データを用いて計測精度が改善される面位置センサを用いて、移動体を高精度に2次元駆動する。
【解決手段】 X干渉計127、Y干渉計16を用いて位置を監視しながらウエハステージWSTを移動させ、センサ72a〜72dを用いてウエハステージ上面に設けられたYスケール39Y,39YのZ位置を計測する。ここで、例えば、2つの面位置センサ72a,72bの計測結果の差より、Yスケール39YのY軸方向の傾きが得られる。Yスケール39Y,39Yの全面について傾きを計測することにより、それらの2次元凹凸データが作成される。この凹凸データを用いてセンサの計測結果を補正し、該補正済みの計測結果を用いることにより、高精度にウエハステージを2次元駆動することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、検査対象の表面形状および表面上の微細構造に関する情報を抽出することを目的とする。
【解決手段】 測定対象の表面上に構成される測定されるべき微細構造に応じた光特性の照明光を設定する照明光設定手段と、前記照明光を前記測定対象に照射したときの反射光を測定する測定手段と、前記測定された反射光から、前記測定対象の表面の形状と、前記表面上に構成される微細構造とに関する情報を抽出する抽出手段とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】サポートベクトルマシンを用いて製造ツールを制御する方法を提供する。
【解決手段】構造の幾何学形状を特徴付けるプロファイルパラメータによって定められる構造の形状モデルが取得される。プロファイルパラメータの値の組が取得され、これを用いて、構造から回折される光の挙動を各々が特徴付けるシミュレート回折信号の組が生成される。入力としてシミュレート回折信号の組を、予期される出力としてプロファイルパラメータの値の組を用いて、サポートベクトルマシンが訓練された後、ウェハ上に構造を製造するように製造プロセスが実行される。構造からの測定回折信号が取得され、訓練済みサポートベクトルマシンに入力される。訓練済みサポートベクトルマシンの出力として、構造のプロファイルパラメータの値が取得される。このプロファイルパラメータの値に基づいて、1つ以上のプロセスパラメータ又は製造ツールの装置設定が調整される。 (もっと読む)


【課題】2つの物体の相対的な位置を測定するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】可干渉性放射線放射源43、計測ブランチ49に計測ビームを提供するビーム誘導装置、計測ブランチ49を通過した後の放射線の干渉重畳の強度を計測する放射線強度センサ65、計測ブランチ49の光路長を検出し2つの物体の相対的な位置関係を検出する放射線強度センサ65からの計測信号に応答する計算機67を備え、前記計測ブランチ49は、2つの物体間で計測ブランチ49に放射線を放射する第一の物体上に装着可能な少なくとも1つのエミッタと、第二の物体上に装着された少なくとも3つの逆反射体19で反射されて戻った放射線を受けてその放射線を放射線強度センサ65に供給するための第一の物体上に装着された少なくとも1つのレシーバ18を含む。レシーバ18は、少なくとも3つの逆反射体19が含まれるように放射線を放射する。 (もっと読む)


【課題】干渉計システムとエンコーダシステムを併用するハイブリッド方式のサーボ制御により、移動体を安定且つ高精度に2次元駆動する
【解決手段】干渉計システム、例えばX干渉計126とY干渉計16とを用いてステージWSTの第1の位置情報を計測する。同時に、エンコーダシステム、例えば1つのXヘッド66とYヘッド65,64とを用いてステージの第2の位置情報を計測する。第1の位置情報と第2の位置情報の差分を所定の計測時間にわたって移動平均して座標オフセットを設定し、該座標オフセットを用いてエンコーダシステムの出力信号の信頼性を検証する。正常が確認された場合に、第1の位置情報と座標オフセットとの和を使用してステージをサーボ制御する。このハイブリッド方式のサーボ制御により、干渉計の安定性とエンコーダの精密さを兼ね備えたステージの駆動制御が可能になる。 (もっと読む)


【課題】 比較的長い波長の光を用いてL/Sパターンのピッチを測定することのできるピッチ測定装置。
【解決手段】 L/Sパターン(12)のピッチを測定するピッチ測定装置は、パターンに少なくとも2つの波長の光を切り換えて照射する照射系(1〜3)と、パターンで反射された0次回折光を検出する検出系(4,5)と、検出系で第1の波長について検出された0次回折光の光強度と第2の波長について検出された0次回折光の光強度との強度比に基づいてパターンのピッチを測定する測定系(6)とを備えている。 (もっと読む)


【課題】様々な条件のウエハプロセスに対して検出誤差を低減させて検出精度の向上を可能とする位置検出装置を有する露光装置を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系と、前記レチクルの位置及び前記基板の位置の少なくとも一方を検出する位置検出装置とを有し、前記位置検出装置は、位置を変更可能な光学部材を含む光学系と、前記光学系を介して前記レチクルの位置及び前記基板の位置を検出するためのマークからの光を受光して検出信号を出力する光電変換素子と、前記光学部材の複数の位置に対する前記検出信号の波形の対称性を示す第1の評価値の情報、及び、前記光学部材の複数の位置のそれぞれについて前記マークの前記光学系の光軸の方向の位置を変えた際に検出される前記マークの位置のずれを示す第2の評価値の情報に基づいて、前記光学部材の位置を制御する制御部とを有し、前記制御部は、前記第1の評価値の情報を予め有していることを特徴とする露光装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】簡素で高信頼性の絶対回転角度計
【解決手段】回転軸に固定された回転偏光板と変更角度が相違する固定偏光板に複数の通過光量検出器で判定し半円内角度を求め、回転偏光板に形成させた半円状の凹凸で絶対回転位置を認識させ双方の結果から軸の絶対角度を求める。 (もっと読む)


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