【課題】高速に移動する対象物の像を得ることができる観察装置を提供することを目的とする。
【解決手段】観察装置１は、光源部１０、周波数変調部２０、検出部４０、及び演算部５０を備える。周波数変調部は、第１の光又は第２の光を入力して、当該入力した光を、第１方向において互いに異なる複数の特定周波数Ω_ｎだけ遷移された周波数を有し、第２方向において同一の周波数を有する光に変調する。検出部４０は、対象物２で生じた散乱光のうち、検出部４０に到達した光を検出し、ドップラーシフト量に応じた周波数で時間的に変化する散乱光のデータを、各時刻に出力する。演算部５０は、検出部４０からの出力に対して、特定周波数Ω_ｎに基づいて複数の周波数領域に分割する処理と、時刻変数に関する１次元フーリエ変換と、周波数に関する１次元フーリエ変換とを行って得られたデータを対象物２の像として得る。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置における改良型測定システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持する支持体と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、測定システムであって、測定放射ビームを提供する測定放射システムと、リフレクタ間で測定ビームの一部分を反射する少なくとも２つのリフレクタと、リフレクタの１つを通して伝送される測定ビームの少なくとも一部分の波長を検出するディテクタとを備える測定システムと、を含む。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を精度良く計測できる位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測装置は、移動面内を移動する移動体の位置情報を計測する。位置計測装置は、移動体の第１面に配置された移動格子に光を照射する光源と、光源との位置関係が固定で、移動格子で回折された光が入射する第２面を有し、入射した光を回折又は反射して移動格子に戻す固定光学部材と、移動格子を再度介して干渉された光を検出する検出装置と、を備え、第１面と第２面とはほぼ平行である。 （もっと読む）

【課題】回転角度を高精度且つ短時間で測定すること。
【解決手段】回転が一定範囲とされた支持基準体であるエンコーダ本体２ａと、エンコーダ本体２ａに対し全周回転自在に軸支された駆動する回転体である回転軸３とを有し、エンコーダ本体２ａに対する回転軸３の相対的な回転角度を検出する相対的角度検出手段としてのロータリエンコーダ２と、エンコーダ本体２ａ及び回転軸３から切り離されて、エンコーダ本体２ａの回転角度を光学式角度検出手段としての非接触角度検出手段２０とを備える。これにより、ロータリエンコーダ２が検出した回転角度を、非接触角度検出手段２０で検出した回転角度に基づいて補正することができ、回転角度を高精度且つ短時間で測定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】従来の較正方法と比べてあまり時間がかからない較正を適用するより正確な位置測定システムを提供する。
【解決手段】位置測定システムは、第１部分ＥＧおよび第２部分ＥＳと、計算ユニットと、を備える。第１部分および第２部分は、第２部分に対する第１部分の位置を表す位置信号を提供することによって第２部材に対する第１部材の位置を決定する。計算ユニットは、位置信号を受信するための入力端子を含む。計算ユニットは、使用中、位置信号に変換を適用して第２部材に対する第１部材の位置を表す信号を得るように、および、変換に調整を適用して第１部分または第２部分あるいは両方のドリフトを少なくとも部分的に補償するように、構成される。調整は、第１部分または第２部分あるいは両方のそれぞれの所定のドリフト特性に基づく。所定のドリフト特性は、第１部分および／または第２部分の１つ以上の基本形状を有する。 （もっと読む）

【課題】高精度な位置検出に基づく高精度な移動および位置決めが可能な精密送り装置および精密移動装置を提供すること。
【解決手段】ベース２に支持されたテーブル３１を所定の移動方向へ駆動する精密送り装置９は、テーブル３１に接続されたロッド４１と、ロッド４１を移動方向に進退駆動する駆動機構４と、ベース２に対するロッド４１の変位を検出するレーザ干渉計５とを有し、駆動機構４は、ロッド４１への駆動力が移動方向の軸線に対して対称に作用するリニアモータ４４を有し、レーザ干渉計５のレーザ光路５６はロッド４１を貫通して移動方向に延びており、ロッド４１の移動軸線と駆動機構４の推力軸線とレーザ干渉計５の検出軸線とが一致している。 （もっと読む）

【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板９上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット２と、ガラス基板９を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット２は、光照射部２１および受光部２３を有し、光照射部２１により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部２３のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部２３を回転することにより受光部２３の光軸Ｊ２とガラス基板９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更される。撮像ユニット２は、光軸Ｊ２に沿って受光部２３を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ２の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役な位置Ｐがガラス基板９の表面に配置される。これにより、受光部２３のフォーカス調整が容易に行われる。 （もっと読む）

【課題】 光干渉法を用いて、１波長の単色光を測定対象面に照射し、測定対象面までの距離を変更して、少なくとも３枚以上の画像を撮像して、各画素の輝度値から位相計算をおこない、隣接画素の位相値を用いて三次元形状を測定する位相シフト法が用いられて来たが、隣接画素間の段差に波長による制約があった。
【解決手段】広帯域な波長特性を有する照射光から波長の異なる複数の単色光を抽出し、それらを混在させて、分岐手段を介して測定対象面と参照面に同時に照射し、測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって生じる干渉縞の画像を測定対象面と参照面とからの反射光路長の差を変化させて、取得した前記複数枚の画像を単色光ごとに分解し、単色光ごとに求めた各画素の位相から、複数個の表面高さの候補群を求め、各候補群から共通する高さを実高さとして求める。 （もっと読む）

【課題】経年変化に伴ってレーザー測長系のレーザー光源の出力特性が変化しても、移動ステージの位置を精度良く検出して、基板の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】移動ステージに複数の反射手段３４ａ，３４ｂ，３５を取り付け、複数のレーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３により、レーザー光源３１ａ，３１ｂからのレーザー光と各反射手段３４ａ，３４ｂ，３５により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定する。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３の測定結果から、移動ステージの位置を検出し、検出結果に基づき、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂを移動して、基板１の位置決めを行う。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３が受光したレーザー光の強度の変化を検出し、検出したレーザー光の強度の変化を補う様に、レーザー光源３１ａ，３１ｂへ供給する駆動電流を制御する。 （もっと読む）

【課題】ステージを正確に２次元駆動する。
【解決手段】 ＸエンコーダとＹエンコーダとを少なくとも各１つ含む３つのエンコーダを用いて、ステージＷＳＴの移動面内の位置情報を計測する。ステージＷＳＴの位置計測値に基づいて、位置計測に用いるエンコーダを、エンコーダＥｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３から、エンコーダＥｎｃ４，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３に切り換える。切り換えの際、座標つなぎ法又は位相つなぎ法を適宜切り換えて適用して、新たに使用するエンコーダＥｎｃ４の初期値を設定する。それにより、ステージＷＳＴの位置計測に用いるエンコーダが逐次切り換えられるにもかかわらず、切り換えの前後でステージの位置計測値が保存され、ステージを正確に２次元駆動することができる。 （もっと読む）

【目的】本発明は、ひずみセンサの構築に際して、ＦＢＧの多重化に時間多重化方式を用いたＦＢＧ光ファイバセンシング技術を使用して構築し、ＦＢＧ光ファイバ型ひずみセンサを高密度に配置することが出来るセンサとなし、もって高密度のひずみ分布を詳細に、正確に計測できるひずみセンサを提供することを目的とする。
【構成】複数のＦＢＧにつき所定間隔をあけて１本の光ファイバ上に配置した１本のセンサ本線を複数本用意し、複数本のセンサ本線を長手方向に向かい平行に並べると共に、いずれかのセンサ本線に配置されたＦＢＧと、該ＦＢＧに隣り合う他のいずれかのセンサ本線に配置されたＦＢＧとの間隔を任意の間隔で密になしえ、密な間隔で配置されたＦＢＧについてそれぞれひずみ計測を可能とした、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トンネルをはじめとした構造物の内空変位を計測し、該構造物の変状を監視する技術を提供すること。とくに工事中のトンネルや地下鉱山のトンネルのように粉塵が浮遊している空間に対しても、広範囲にわたって内空変位を計測しモニタリングできる方法を提供すること。

【解決手段】計測対象となる構造物の内側に内空変位センサである梁の一端を固定し、当該梁の表面にひずみ計測が可能な装置を設置し、当該装置により計測されたひずみから、当該構造物の鉛直方向および水平方向の変位を算出する構造物内空変位計測方法
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【課題】汎用性の高い横座標の校正方法によって横座標を校正する形状計測装置、及びその横座標校正方法を提供する。
【解決手段】複数の開口が形成され、これら複数の開口の配列によって校正パターンを形成するアパーチャー板２０をワークＷの被検面Ｗｓの前面に配置する。この開口を通過すると共に、被検面Ｗｓで反射され、再度開口を通過した測定光Ｌｍを撮像素子５によって検出する。撮像素子上にて結像した校正パターンの横座標位置と、予め計測されている校正パターンの基準横座標位置とを、演算装置７によって比較することによって、形状計測装置１の横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】カメラに取り付けられた画像センサのチルトを求めるための、改善された方法を提供する。
【解決手段】カメラ１２における画像センサ１０表面の、カメラ１２のレンズ基準面２６に対するチルトを求めるための方法であり、画像センサ１０に光を送るステップと、画像センサ１０から反射した光を受けるステップと、反射光における干渉パターンを特定するステップと、干渉パターンの特徴を特定するステップと、干渉パターンにおいて特定された特徴の位置に基づいて画像センサ１０表面のチルトを求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】ワークディスタンスが変化しても計測可能な位置計測装置でかつ、高分解能化可能な位置計測装置を提供する。
【解決手段】目盛部３０を、第１及び第２反射面３１，３２の相対距離が周期的に変化するように構成し、受光センサ１４によって、これら第１及び第２反射面３１，３２に反射された光によって形成された干渉光の光強度を計測する。この干渉光の光強度の周期変化を演算部２０によって位置情報に演算することにより、ワークディスタンスの変化に係わらず計測対照の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】光干渉を利用して温度を適切に測定することができる温度計測システム、基板処理装置及び温度計測方法を提供する。
【解決手段】温度計測システム１は、光源１０、分光器１４、光伝達機構１１，１２、光路長算出部１６及び温度算出部２０を備える。光源１０は、測定光を発生させる。光伝達機構１１，１２は、測定対象物１３の表面１３ａ及び裏面１３ｂからの反射光を分光器１４へ出射する。分光器１４は、反射光の強度分布である干渉強度分布を測定する。光路長算出部１６は、フーリエ変換し光路長を算出する。温度算出部２０は、光路長と温度との関係に基づいて測定対象物１３の温度を算出する。光源１０は、分光器１４の波長スパンΔｗに基づいた条件を満たす半値半幅Δλの光源スペクトルを有する。分光器１４は、波長スパンΔｗと計測最大厚さｄとに基づいた条件を満たすサンプリング数Ｎ_ｃで強度分布を測定する。 （もっと読む）

【課題】高精度に移動体の位置を計測可能な位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測装置１は、周期的に高さが増減する目盛パターンが形成された目盛部３０の高さ変位を、変位センサ１０によって計測する。そして、この変位センサ１０によって計測された高さの周期的な変位を、演算部２０によって位置情報に演算して、移動体の位置を計測する。目盛部３０の目盛パターンは、平面の組み合わせによって形成されるため、変位センサ１０の出力電圧は平面の傾きに応じた直線を組み合わせた波形となる。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された凹部の形状を、非破壊、非接触にて検査する技術を提供する。
【解決手段】基板検査装置１００は貫通ビアＷＨ（凹部）が形成されている基板Ｗを検査する。基板検査装置１００は、ポンプ光の照射に応じて、基板Ｗに向けてテラヘルツ波を照射する照射部１２と、プローブ光の照射に応じて、基板Ｗを透過したテラヘルツ波の電場強度を検出する検出部１３と、テラヘルツ波が基板Ｗの貫通ビア形成領域を透過する透過時間と平坦領域を透過する透過時間との時間差を取得する時間差取得部２４と、該時間差に基づいて貫通ビアＷＨの深度を算出するビア深度算出部２６とを備える。また、基板検査装置１００は、ビア深度算出部２６により算出した貫通ビアＷＨの算出深度と、干渉法を利用する深度測定装置１６によって測定した貫通ビアＷＨの実測深度とに基づいて、貫通ビアＷＨの形状を示す形状指標値を取得する形状指標取得部２７を備える。 （もっと読む）