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Fターム[2F065GG00]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 光源 (11,799)

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光源種類 (7,431)
光源形態 (1,634)
波長 (2,573)

Fターム[2F065GG00]に分類される特許

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【課題】1本の伝送路で複数本の光ファイバを使用する状況においても、光スイッチを用いることなく、複数本の光ファイバのFBGセンサを計測可能なFBGセンサの多点計測方法および装置を提供する。
【解決手段】FBGセンサの多点計測装置において、コアに回折格子を形成した光ファイバ4と、広帯域波長光源9と、この光源からの光のうち、光ファイバ4に入射する光の時間を制御する光源側光変調器10と、この光変調器からの出射光を入射して、光ファイバ4の回折格子からの反射光を透過する時間を制御する検出側光変調器12と、この光変調器からの反射光を検出して得られた信号を処理して光ファイバ4からの信号を分離する波長移動量算出器14と、この算出器の結果から被測定物の変形量を算出する温度・歪み算出器15と、この被測定物の変形量に関する情報を表示する表示部16とを有する。 (もっと読む)


【課題】物体の形状認識を正確に、かつ、高速に行うことのできる部品実装装置を提供する。
【解決手段】撮像部10と、輝度変化光を斜めから照射する照射部20と、対象物および基準点42を撮像部および照射部に対し第二方向に相対的に移動させて、対象物および基準点を撮像対象領域に対して通過させる移動部40と、基準点データと対象物データとを取得するデータ取得部と、それぞれの撮像のタイミングT1〜T4での基準点位置と基準点基位置との位置ずれを導出する位置ずれ導出部と、それぞれの撮像のタイミングの対象物基位置に対して、導出された位置ずれを加算して得られた対象物の測定部位の位置に対応する輝度値を取得する輝度値取得部と、取得された輝度値に基づいて、位相シフト法による波形を作成する波形作成部とを備える。 (もっと読む)


【課題】製造ラインを連続して搬送される開口を塞ぐシール部を有する被検査物に対して、特殊領域特定のために準備工程を必要とせず、検査時間の大幅な短縮が可能な、効率の良い検査性能に優れた検査装置を提供する。
【解決手段】容器を搬送する手段と、第一の光学手段と、第一の光学手段の容器搬送方向の下流に設けられた第二光学手段と、第一の特殊領域特定手段と、第一の特殊領域に基づいてシール部の液漏れ欠陥を検出する第一の検査手段と、前記エッジ座標と、第一の撮像手段と第二の撮像手段の取り付け角度の角度差と、第一の撮像手段と第二の撮像手段から得られた撮像画像における検査領域の中心座標から、第二の撮像手段によって得られた画像の第二の特殊領域を特定する第二の特殊領域特定手段と、第二の撮像手段によって撮像した画像の第二の特殊領域に基づいて容器の異物欠陥を検出する第二の検査手段と、を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 (もっと読む)


【課題】構造化照明を用いるエッジ検出を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システム(MVIS)および関連する光ストライプエッジ特徴位置方法が開示される。MVISには、制御システムと、光ストライプ投射システムと、撮像システムと、ユーザインターフェースと、が含まれる。エッジ特徴を含む関心領域において、光ストライプ投射システムは、光ストライプが、光ストライプに沿った変化するストライプ強度プロファイルを有するように、エッジ方向に対して交差するように、かつエッジ特徴を横切って光ストライプを合焦させる。撮像システムは、光ストライプの画像を取得し、制御システムは、画像を解析し、ストライプに沿った変化する光強度プロファイルに基づいて、エッジ特徴の位置を決定する。方法は、エッジ検出ビデオツールにおいて実行してもよい。方法は、例えば、高テクスチャ、斜面、溝、丸まり、または損傷があるエッジを検査するために有利になり得る。 (もっと読む)


【課題】導光板を用いた方式であっても、検出対象空間に強度が適正に単調変化する光強度分布を形成することができる光学式位置検出装置、および位置検出機能付き機器を提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置10において、光源用回転体13は、検出用光源12から出射された検出光L2を検出対象空間10Rに出射する。光源用回転体13において、第1導光部13A、13Cは一方側端部から他方側端部に向かって強度が単調増加する光を出射するのに対して、第2導光部13B、13Dは、第1導光部13A、13Cとは反対に、一方側端部から他方側端部に向かって強度が単調減少する光を出射する。従って、光源用回転体13が回転して、所定の角度位置に第1導光部13A、13Cが到来したときの光検出器30での受光結果を用いれば、対象物体Obの位置を検出することができる。 (もっと読む)


【課題】 従来、建築作業などにおいて分銅と糸や紐を利用した下げ振りにおいては、下げ振りの糸の位置を測定する際に、下げ振りの振幅が収まるまで待つ必要があり、手動で停止させるのも煩雑であった。またスケールを使用して下げ振りに触れないように目視で測定する為に、測定された数値は正確なものではなかった。
【解決手段】 光電的位置検出装置により、下げ振りの糸の位置を非接触で高速に測定する装置と、測定範囲内にある下げ振りの糸の位置を、下げ振りが振幅している場合であっても、位置を算出するソフトウェアにより求めた下げ振り糸の鉛直位置から、鉛直線からの測定箇所の変位を短時間に精度良く検出することができる。 (もっと読む)


【課題】高い空間分解能を維持しつつ、歪み又は温度を高感度且つ高精度に計測することができる分布型光ファイバセンサを提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、光ファイバ10と、レイリー散乱現象を利用して光ファイバ10の歪み又は温度に基づくレイリー周波数シフト量Δνrを計測するレイリー計測手段11と、レイリー周波数シフト量Δνrから光ファイバ10の歪み又は温度を算出する算出手段とを備え、レイリー計測手段11は、スペクトル拡散方式を用いた光パルスを生成してこの光パルスを光ファイバ10内に入射させる光パルス出射手段13と、光ファイバ10から射出される光に対してスペクトル拡散方式に対応したパルス圧縮を行う整合フィルタ551と、整合フィルタ551で圧縮された光に基づいてレイリー散乱現象に係る光を検出する検出手段560とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、半導体ウェハにおける表面形状の測定に適した精度で、そして、より短時間でその表面形状を測定し得る表面形状測定装置および半導体ウェハ検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の表面形状測定装置Saは、測定対象である半導体ウェハSWの表面に所定の波面を持つ測定光を照射するための光源部1と、半導体ウェハSWの表面で反射した測定光の反射光における波面の形状を測定する波面センサ4と、波面センサ4で測定した反射光における波面の形状に基づいて半導体ウェハSWにおける表面の形状を求める演算制御部7aとを備える。そして、半導体ウェハ検査装置は、このような表面形状測定装置Saを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】非球面形状を高精度に測定する際に、被測定物保持機構と干渉光学系との相対的移動を高精度に行える機構を有する測定装置を提供する。
【解決手段】被測定物10を被測定面軸Sの回りに回転させる被測定物回転機構70および該回転機構を搭載し被測定面軸と直交または平行方向に直線移動させる第1スライド機構7を備える被測定物保持機構Aと、測定光を照射して光干渉測定を行う干渉光学系2を保持し該光学系をその測定光軸Lと被測定面軸Sとのなす測定角度を変更可能に旋回させる光学系旋回機構80および該旋回機構を搭載し第1スライド機構7の移動方向と直交方向に直線移動させる第2スライド機構8を備える干渉光学機構Bとを備え、測定角度を順次変更した毎に被測定物10を回転させつつ光干渉測定を行う。 (もっと読む)


【課題】実際に必要とされる測定時間が設定された出力周期よりも長くなる状況を回避することが可能な変位センサを提供する。
【解決手段】設定された設定項目(フィードバック回数及び分割条件)に基づいて対象物Wの測定を行い、二次元CCD14からの受光信号に基づいて対象物Wの測定値信号を出力する制御部16と、測定手段から測定値信号が出力される出力周期を設定するための出力周期設定部22とを備える。そして、制御部16は、設定項目に基づいて制御部16にて対象物Wの測定を行う際の測定時間を計測する。 (もっと読む)


【課題】画像情報を基に自己位置を計測する自己位置計測装置において、画像処理の負担を低減し、消費電力の低減を実現する自己位置計測装置を提供する。
【解決手段】自己の位置を計算する自己位置計測装置30において、所定の空間における照明光源20を含む画像を画像情報22として取得する画像情報取得手段と、画像取得手段により取得された画像情報22から、照明光源20の画像である抽出照明光源画像情報24を抽出する照明光源画像抽出手段と、照明光源画像抽出手段により抽出された抽出照明光源画像情報24を記憶する第一の記憶手段25と、照明光源20の個々に関する情報である参照照明光源画像情報26を予め記憶する第二の記憶手段27と、抽出照明光源画像情報24及び参照照明光源画像情報26に基づいて自己の位置を計算する自己位置計測手段28と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 簡単かつ安価に回転軸体の軸線方向、径方向の軸振れ量を非接触にて測定できる軸振れ計測装置を提供する。
【解決手段】 幅変化部を有し、被計測対象である回転軸体またはこれとは同心の大径円筒状体の外周面にその軸線方向と前記一方向とが平行になるように配置されて当該回転軸体とともに回転運動する平行ターゲット体と、前記幅変化部に向けた光線照射源としての発光部と、回転中の前記幅変化部からの反射光またはこれを透過する透過光を受光して受光時間の変化を検出し、この検出結果に基づいて前記回転軸体の軸線方向における軸振れ量を計測する受光・演算表示部とを含む軸振れ計測装置。さらに、幅変化部を有し、前記回転軸体の外周面からその径方向と前記一方向とが平行になるように当該外周面に外側に向けて立設された直立ターゲット体を備えることができる。 (もっと読む)


【課題】2つの空間に位置する対象物体の各々の位置を検出することのできる光学式位置検出装置を提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置10には、Z軸方向の一方側Z1に向けて位置検出用光源12が配置され、Z軸方向の一方側Z1に受光部310、320を向けた第1光検出器31および第2光検出器32がZ軸方向で離間した位置に配置されている。第1光検出器31での受光結果から第2光検出器32での受光結果を差し引く等、第1光検出器31での受光結果に対して第2光検出器32での受光結果分を補正すれば、第1空間10R1に位置する対象物体Ob1で反射した検出光の強度を導出することができ、かかる強度の導出結果を利用すれば、第1空間10R1に位置する対象物体Ob1の位置を導出することができる。また、第2光検出器32での受光結果に基づいて第2空間10R2に位置する対象物体Ob2の位置を導出することができる。 (もっと読む)


【課題】被検物の表面形状を高精度かつ短時間で測定する。
【解決手段】被検物の表面で反射された物体光と参照光との光路差によって得られる干渉縞を解析する形状測定装置を用いて被検物の表面形状を測定する本発明の形状測定方法は、参照面を第1位置に固定して被検物の複数の位置における第1干渉縞を取得する第1工程と、参照面を参照光の光軸上の第2位置に固定して、複数の位置における第2干渉縞を取得する第2工程と、参照面を参照光の光軸上の第3位置に固定して、複数の位置における第3干渉縞を取得する第3工程と、第1干渉縞と、第2干渉縞と、第3干渉縞とを用いて、被検物の複数の位置における干渉縞の位相解析を行う位相解析工程S20とを備え、第1干渉縞、第2干渉縞、及び第3干渉縞の少なくとも1つは、被検物を形状測定装置に対して相対移動させながら複数の位置の近傍で断続的に取得された複数の干渉縞に基づいて取得される。 (もっと読む)


【課題】 照明変動が存在する環境においても対象物認識をより安定的に行うための技術を提供する。
【解決手段】 対象物の位置姿勢を認識する認識装置は、所定の照明条件で撮像装置により撮像された対象物の撮像画像を入力し、撮像画像を解析して画像中の複数の特徴部分を決定し、当該複数の特徴部分における画像の特性をそれぞれ示す複数の特徴量を抽出し、対象物上の複数の特徴部分のそれぞれにおける物理的性質を示す性質情報を入力し、撮像画像の撮像時における照明条件を示す照明情報を入力し、性質情報が示す物理的性質と、照明情報が示す照明条件とに基づいて、抽出した複数の特徴量の各々の重要度を決定し、複数の特徴量をその重要度で重み付けしたものに基づいて、対象物の位置姿勢を認識する。 (もっと読む)


【課題】 膜濾過工程用現場検出分析装置の提供。
【解決手段】 本発明は光感知装置と駆動装置とデータ処理装置とを備えた膜濾過工程用現場検出分析装置開示する。前記光感知装置は線形の第一アレイに配列される複数の感知素子を含有して、線形の位置にケーキ層の厚み変化に関する信号を検出する。前記駆動装置は前記光感知装置は少なくとも一つの局部平面にケーキ層の厚み変化を検出できるように、前記ケーキ層上に平行に前記濾材と前記光感知装置との相対的移動ことができるように前記光感知装置を駆動する。前記データ処理装置は前記光感知装置を接続し、前記光感知装置から検出され前記信号を連続的に処理と分析する、さらにすぐにこの膜濾過工程中に少なくとも一つの局部平面にケーキ層の厚み変化を算出する。 (もっと読む)


【課題】 投影光学系の結像特性、特に露光光の角度特性を高精度に測定する。
【解決手段】 光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置を用いて、基板を露光する露光光の角度分布を計測する。光源の波長をλ、投影光学系の射出側開口数をNA、投影光学系の投影倍率をβとして、投影光学系の物体面にλ×10/(NA×β)以上の線幅の特定パターンを配置し、特定パターンを照明し、投影光学系の光軸方向における複数の位置における特定パターンの像をセンサを用いて計測し、該計測結果を用いて露光光の角度特性を算出する。 (もっと読む)


【課題】位置ずれによる測定精度の劣化を抑制する。
【解決手段】測定子3が被計測物に当接された状態で、シャフト2がフレーム1に対して前後に移動すると、シャフト2にホルダ4を介して固定された第1スリット5が前後に移動する(a1-a3)。シャフト2、ホルダ4、第1スリット5の移動範囲は、前方向については、ホルダ4の前方端部とフレーム1の当接により制限され(a1)、後方向については、ホルダ4の後方端部とストッパ8との当接により制限される(a3)。ストッパ8は、くの字状に折れ曲がった部材であり、ホルダ4の後方端部との当接面より前方に距離dオフセットした位置においてフレーム1にネジ81によってネジ止め固定されている(a1)。 (もっと読む)


【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】ワーク12とマスク21の両アライメントマークをアライメント検出系52で検出する工程と、両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク21とワーク12の位置ずれ量とワーク12のひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整する工程と、算出されたひずみ量に基づいて、光源61からの露光光の光束を反射する平面ミラー66の曲率を補正する工程と、を備える。曲率補正工程は、露光光束の光路ELにおいて平面ミラー66より露光面側からレーザー光Lを照射し、カメラ93によって撮像する工程と、平面ミラー66の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光L、L´の変位量S1,S2を検出する工程によりひずみ量α、βと対応するように曲率補正する。 (もっと読む)


【課題】鏡面などの光沢表面をもつ物体の光学式3次元形状測定を実現可能とするための光学式3次元形状計測装置及び光学式3次元形状計測方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学式3次元形状計測装置は、光線を測定対象物に照射する光源と、前記光線が前記測定対象物に照射された光線照射面で反射した反射光の入射ベクトルを検出する光入射ベクトル検出手段と、前記光線照射面の3次元位置を算出する照射面位置算出手段と、を備え、前記光入射ベクトル検出手段は、少なくとも2つの画像センサを含む光学系から構成され、前記2つの画像センサは、前記光線照射面から異なった距離に配置され、前記照射面位置算出手段が、前記2つの画像センサの受光位置および前記光学系の幾何学条件から、3次元ベクトル解析により前記反射光のベクトルを算出し、前記光線照射面の3次元位置を算出することを特徴とする。 (もっと読む)


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