【課題】基板に形成された凹部の深さを、加工方法の制約を受けず、かつ、任意の時間に、非破壊、非接触で測定する技術を提供する。
【解決手段】基板９に形成された貫通ビア９Ｈ（凹部）の深度を検査する基板検査装置１００であって、基板９に向けて電磁波パルスを照射する電磁波パルス照射部１３と、電磁波パルスを検出する電磁波パルス検出部１５とを備える。また、基板検査装置１００は、貫通ビア９Ｈが形成されているビア形成領域９２Ｒを透過した電磁波パルスの時間波形と、ビア形成領域９２Ｒとは異なる参照領域を透過した電磁波パルスの時間波形とを比較して、その位相差を取得する位相差取得部２５と、前記位相差に基づいて、前記ビア形成領域に形成された貫通ビアの深度を取得するビア深度取得部２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】測定対象物上に薄膜が形成されている場合でも、測定対象物の温度を従来に比べて正確に測定できる温度測定方法を提供する。
【解決手段】光源からの光を、基板上に薄膜が形成された測定対象物の測定ポイントまで伝送する工程と、基板の表面での反射光による第１の干渉波と、基板と薄膜との界面及び薄膜の裏面での反射光による第２の干渉波を測定する工程と、第１の干渉波から第２の干渉波までの光路長を算出する工程と、第２の干渉波の強度に基づいて、薄膜の膜厚を算出する工程と、算出した薄膜の膜厚に基づいて、基板の光路長と算出した光路長との光路差を算出する工程と、算出した光路差に基づいて算出した第１の干渉波から第２の干渉波までの光路長を補正する工程と、補正された光路長から測定ポイントにおける測定対象物の温度を算出する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 画像処理等に精通したオペレータを必要とすることなく、検査対象物の検査面の性状を簡単且つ正確に検査することができ、コスト低減を図ることができる外観検査装置および外観検査方法を提供する。
【解決手段】 外観検査装置は、照明装置１と、撮像装置２と、表示装置３とを有する。照明装置１は、検査面Ｗａに入射する光の濃淡の形態に対して、検査対象物Ｗの検査面Ｗａでの反射光による生じる濃淡の形態が、検査面Ｗａの性状により異なるように、検査面Ｗａに濃淡の光を照射する。検査面Ｗａの加工目の状態そのものを撮像して検査するものではなく、濃淡の光を照射によって検査面Ｗａに映り込む形態で検査する。 （もっと読む）

【課題】 掘削作業を行う際に、より確実かつ容易に、地下埋設物への損傷を監視する。
【解決手段】 地下埋設物１００の上方に埋設された光ファイバ２と、光ファイバ２の一端から光パルスを入射し、反射された光に基づいて光ファイバ２における曲げや切断などの異常を検出する検出器３とを備える。地下埋設物１００の埋設場所を油圧ショベル１０１で掘削すると、バケット１０１ａがまず光ファイバ２に当たり、光ファイバ２が曲がったり切れたりし、検出器３によって光ファイバ２の異常が検出される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ユーザごとの判定条件を用いる事で歩留まり向上、製造コスト低下、生産性を大幅に改善することにある。
【解決手段】光学表示装置の部材である光学フィルムを少なくとも有するシート状製品を構成する単層体及び／又は積層体であって、シート状製品表面の保護層が設けられていない状態で当該単層体及び／又は積層体を検査することで得られる欠点に関する欠点情報を取得する欠点情報取得手段と、前記欠点情報取得手段で取得された欠点情報を解析し、良品か否かを判定する条件である判定条件に従って、シート状製品原反の切断位置情報を算出する切断位置情報算出手段とを備える検査データ処理装置である。 （もっと読む）

【課題】可動基板上に改良された発光蛍光体構造を有する蛍光体点光源を提供する
【解決手段】蛍光体点光源素子は、基板と、基板上に配置された発光蛍光体粒子を備えることで、動作トラック領域の平坦な動作表面の近くに密集状態の粒子配置を有する円形の動作トラックを提供する。動作トラック領域は、高輝度点光源を提供する点において照射されながら回転される。密集状態の粒子配置は、キャビティ内の蛍光体粒子を回転させてキャビティ周辺の基板上で蛍光体を圧縮することにより、または他の機械的な圧縮方法により達成され得る。密集状態の粒子配置を、キャビティを囲む形成要素に当てて圧縮するか、機械加工することにより、平坦な動作表面を提供することができる。蛍光体粒子に浸透した接着結合剤を硬化させることで、密集状態の粒子配置を固定することができる。 （もっと読む）

【課題】測定物の厚さや温度測定を、非接触により高精度で行うこと。
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光を放射する光源１０と、ＳＣ光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ１１と、ミラー１２と、ミラー１２の位置を調整する位置調整装置１３と、測定光と参照光との干渉強度の波長スペクトルを測定する受光装置１４と、干渉強度のスペクトルを空間座標に逆フーリエ変換して、干渉強度の空間分布を求め、その空間分布から測定物の厚さや温度を測定する干渉波形解析装置１５と、によって構成されている。 （もっと読む）

【課題】光の干渉を利用した干渉測定装置において、測定精度を向上させること。
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光（ＳＣ光）を放射する光源１０と、ＳＣ光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ１１と、分散補償素子１２と、分散補償素子１２を移動させる駆動装置１３と、測定光と参照光との干渉波形を測定する受光手段１４と、によって構成されている。測定対象である測定物１５は、厚さ８００μｍのＳｉ基板である。分散補償素子１２は、厚さ７８０μｍのＳｉ基板である。つまり、分散補償素子１２は、測定物１５と同一の材料であり、測定物１５よりも２０μｍ薄い。測定物１５裏面と分散補償素子１２裏面での反射による干渉は、波長分散がほぼ打ち消されるためピーク幅が狭く、ピーク位置の測定精度が向上する。その結果、温度等の測定精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】複数の突起部を有する検査対象物を迅速に検査する。
【解決手段】検査装置は、検査対象物Ａ載せる透明なテーブル１２と、テーブル１２の下面から光の強度が周期的に変化する光パターンを照射する光照射部と、光パターンが照射された検査対象物Ａを、テーブル１２の下面から撮影する撮像部２２と、検査対象物Ａの画像を処理して、検査対象物Ａの表面の３次元形状を表す表面形状データを生成する画像処理部１０３と、表面形状データにより表される検査対象物Ａにおける複数の突起部それぞれにおいて、テーブル１２の上面に対する位置を示す値の代表値を決定する代表値決定部１０２と、複数の突起部それぞれにおける代表値の分布が予め設定された基準を満たしているかを判定する判定部１０１と備える。 （もっと読む）

【課題】ヘッドの回転に影響されることなく実装対象物および被実装対象物にそれぞれ設けられたアライメントマークを上方から認識手段により読取りつつ、ヘッドを回転することにより実装対象物および被実装対象物の回転方向における相対的な位置調整を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】空間ＯＳにヘッド２と非接触状態で２視野光学系レンズ１４ａが挿入されてアライメントマーク２０ａ，２２ａが上方から光学的に読取られるため、ヘッド２が回転しても、２視野光学系レンズ１４ａによる光路の変換方向がＣＣＤカメラ１４ｂに向かう方向からずれないため、ヘッド２の回転の影響を受けることなくアライメントマーク２０ａ，２２ａを上方から上下マーク認識手段１４により読取りつつ、部品２０および基板２２の回転方向における相対的な位置調整を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】光弾性計測法を用いて、例えば、チェーンのリンクプレートなどのような組立体の構成部品の歪み、形状、内部応力及び外観などを精度良く検査することのできる検査装置を提供する。
【解決手段】透明又は半透明な被検知体Ｍと被検知体Ｍに対して検査光を照射する光源と検査光の進行方向上であって光源と被検知体Ｍとの間に配置された第１偏光手段１１０と被検知体Ｍに対して第１偏光手段１１０と反対方向の検査光の進行方向上に配置された第２偏光手段１２０とを有し、検査光が第１偏光手段１１０及び第２偏光手段１２０を通ることによって生じる干渉模様を撮像する撮像手段１４０とを有し、光源が積層式の有機ＥＬ照明板１３０であることによって前記の課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】少ない投影パターン数で、形状変化が急激な計測対象や不連続な計測対象の高精度な形状計測を可能とする。
【解決手段】三次元形状計測装置は、三次元形状計測を行う計測対象に周期性パターンを投影するパターン投影手段と、前記パターンを投影された計測対象の撮影画像を撮影する撮影手段と、前記計測対象の撮影画像からパターンの位相情報を算出する位相情報算出手段と、前記計測対象の撮影画像からパターンのデフォーカス量を算出するデフォーカス量算出手段とからなり、前記パターンの位相情報とパターンのデフォーカス量に基づき、計測対象の三次元形状を計測する。 （もっと読む）

【課題】形状の変化幅が数μｍを超えるような被検面を短時間で測定することが可能で、かつ装置構成が簡易なミロー型干渉計装置を得る。
【解決手段】光源部１０は、その出力光の可干渉距離が５０μｍ以上１０００μｍ以下となる中コヒーレント光源が用いられる。また、参照ミラー１４は、光透過率が８０％以上９８％以下となるように形成されている。さらに、ビームスプリッタ１６の光軸Ｚ方向の厚みｔ_Ｂが、上記出力光の可干渉距離の２分の１よりも大となるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】鏡面反射面の形状を測定する方法が提供される。
【解決手段】ターゲット面１４２に配置されたターゲット１４０の表面１４４に表示されたパターンを測定面１２２に配置された鏡面反射面１２４から反射させる。反射の画像が撮像面１５４において記録される。撮像面１５４に対する鏡面反射面１２４上の複数の点の位置が決定される。反射の画像上の複数のフィーチャ位置とパターン上の複数のフィーチャ位置との間の第１の関係が決定される。複数の点の位置を初期状態として用いて、鏡面反射面の表面プロファイル及び第１の関係を含む第２の関係から鏡面反射面の形状が決定される。 （もっと読む）

【課題】光沢面を持つ被測定物や複雑な形状の被測定物であっても正確にパタンを読み取ることができ、形状認識能力の高い形状測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】左カメラ用測定パタンと右カメラ用測定パタンを作成し、プロジェクタ５で被測定物９に作成した測定パタンを投影し、左カメラ１及び右カメラ３で測定パタンが投影された被測定物９を撮影し、左カメラ１で撮影した画像と右カメラ３で撮影した画像を照合して被測定物９の形状を測定する。 （もっと読む）

【課題】追従部の摺動抵抗が可動部の位置精度へ与える影響を小さくすることができる同期移動装置を提供すること。
【解決手段】架台２にビーム支持体５１を介して支持されたＸ軸ビーム５２に移動可能に設けられた可動部であるＸスライダ５３と、Ｘ軸ビーム５２に回転自在に支持された送りねじ軸５４１と、これに螺合されたナット部材５４２と、Ｘスライダ５３およびナット部材５４２を連結するフローティングユニット７と、架台２に移動可能に設けられてフローティングユニット７に接続された追従部である追従スライダ８２とを備える。フローティングユニット７は、Ｘスライダ５３に固定された第１の部材７１と、ナット部材５４２に固定された第２の部材７２と、これらに介在して設けられ送りねじ軸５４１の振れ運動を吸収する中間部材７３とを有し、追従スライダ８２は第２の部材７２にワイヤ８３により接続されている。 （もっと読む）

【課題】 干渉光学系を移動するだけで位置決めができ、迅速に精度よく膜厚を測定することができる光干渉計及びそれを用いた膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】 波長スペクトルの狭い狭波長帯域をもつ狭波長帯域の光源１１から射出された光束は、光束分岐手段２０を経て光束分割合成手段３１に入射し、参照光路３０の光束は、参照鏡３４で反射し、光束分割合成手段３１に入射し、測定光路５０に分割された光束は、被検物６０の面で反射し、光束分割合成手段３１に入射し、光束分割合成手段３１で、参照光路３０の光束と測定光路５０の光束とが合成され、合成された光束は、光束分岐手段２０を経て光電変換手段７０に入射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、再使用紙管を多コップ巻取機に用いても、糸条の巻き取り異常が起こることなく、正常に巻き取りが可能で、解舒性に優れたチ−ズ巻きパッケ−ジを提供することができ、その結果、紙管のコストダウン、紙管の廃棄および省資源に寄与できる紙管の使用方法を提供することにある。
【解決手段】
少なくとも１回以上糸条の巻き取りに使用した再使用紙管を多コップ型巻き取り機用の紙管として用いるに際し、該紙管の外径寸法を非接触で測定する寸法測定装置で測定し、該紙管の外径寸法差で区分した後、区分した紙管単位で使用することを特徴とする糸条巻き取り用再使用紙管の使用方法。 （もっと読む）

【課題】所定の繰り返しパタンとなるように表面が設計された基板の形状を、高精度かつ高速度で測定する形状測定装置を提供する。
【解決手段】所定の繰り返しパタンとなるように表面が設計された基板２の形状を測定する形状測定装置１において、空間領域及び／又は時間領域でのコヒーレントな光を、基板２の表面に照射する照射部１０と、照射部１０により照射された基板２の表面による回折光を受光する撮像素子１５と、撮像素子１５による受光結果に応じて、基板２の表面の形状を測定する測定処理部１６とを備える。 （もっと読む）