【課題】偏光解析を用いながら、複数の傾斜面の各傾斜方向の違いを識別できる３次元計測装置、および３次元計測方法を提供する。
【解決手段】３次元演算部４の傾斜算出部４１は、ワーク台座６によってカメラ３の撮像方向とワークＷの表面との相対角度を第１の状態に設定してカメラ３が生成した撮像データに基づいて、透過光Ｌ３の偏光状態を検出し、この検出した偏光状態に基づいて、ワークＷの表面の第１の傾斜角および第１の方位角を求め、ワーク台座６によって相対角度を第１の状態から第２の状態に変化させた後にカメラ３が生成した撮像データに基づいて、透過光Ｌ３の偏光状態を検出し、この検出した偏光状態に基づいて、ワークＷの表面の第２の傾斜角および第２の方位角を求め、傾斜補正部４２は、第１の傾斜角と第２の傾斜角との差に基づいて、第１の傾斜角または第１の方位角を補正する。 （もっと読む）

【課題】切削部の境界が明確に検出できる溶接ビード切削幅測定方法を提供する。
【解決手段】溶接ビード切削部１１を照明装置で照射し、照射された領域をカメラ３で撮影し、その撮影画像を画像処理装置４で処理して溶接ビード切削幅を測定する溶接ビード切削幅測定方法において、前記照明装置として、溶接ビード切削部に対し左側から照射する左側照明装置１と右側から照射する右側照明装置２との２つを用い、左側からの照射と右側からの照射を交互に行う。 （もっと読む）

【課題】転位や積層欠陥などの結晶欠陥を容易かつ精度よく検出する。
【解決手段】単結晶基板上に化合物半導体層をエピタキシャル成長させたエピタキシャル成長基板１７の上方より励起光を照射して励起した後に、フォトルミネッセンスによる発光強度のマッピングをエピタキシャル成長基板全体に渡って行う座標変換手段としてのＸＹ座標変換手段１１２と、座標変換手段１１２により座標に分割された複数のピクセルのそれぞれとこれに隣接する複数ピクセルとの差を用いて、欠陥検出すべきピクセルが欠陥ピクセルかどうかを順次検出する欠陥検出手段１１３とを有している。 （もっと読む）

【課題】２つの空間に位置する対象物体の各々の位置を検出することのできる光学式位置検出装置を提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置１０には、Ｚ軸方向の一方側Ｚ１に向けて位置検出用光源１２が配置され、Ｚ軸方向の一方側Ｚ１に受光部３１０、３２０を向けた第１光検出器３１および第２光検出器３２がＺ軸方向で離間した位置に配置されている。第１光検出器３１での受光結果から第２光検出器３２での受光結果を差し引く等、第１光検出器３１での受光結果に対して第２光検出器３２での受光結果分を補正すれば、第１空間１０Ｒ１に位置する対象物体Ｏｂ１で反射した検出光の強度を導出することができ、かかる強度の導出結果を利用すれば、第１空間１０Ｒ１に位置する対象物体Ｏｂ１の位置を導出することができる。また、第２光検出器３２での受光結果に基づいて第２空間１０Ｒ２に位置する対象物体Ｏｂ２の位置を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の部品が任意に配置されている場合であっても、部品の配置による見え方の相違を吸収して大きさや形状等の外観を検査する。
【解決手段】複数の部品を撮影した画像をブロブ処理し、抽出されたエッジから求まるエッジ接線ベクトルを用いてエッジ接線画像に変換し、サンプルエッジ接線画像に対するマスターエッジ接線画像の畳み込み処理により抽出された個々のブロブに基づいて、マスター部品の所定部位のサイズ、位置ｘｍ、及び角度θｍを定めたテーブルを用いて、検出されたサンプル部品の位置ｘｓ及び角度θｓに対応するサイズを補完計算して、検出されたサンプル部品の所定部位のサイズと比較して、サンプル部品を検査する。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高いパターン投影を実現する。
【解決手段】計測装置と照明装置、撮像装置の位置関係を較正するキャリブレーションを行う（Ｓ１０１）。二次元パターン光の投影面内での輝度の不均一補正処理を行い（Ｓ１０２）、低下したピーク輝度を補償するための光源光量の調節を行う（Ｓ１０３）。計測対象物に二次元パターン光を投影し（Ｓ１０４）、反射された二次元パターン光を撮像装置で撮像する（Ｓ１０５）。撮像装置側の影響で生ずる二次元パターン光の輝度変化及びパターンエッジの位置ずれを、取得した二次元パターン画像に対し不均一補正処理を適用して補正する（Ｓ１０６）。補正処理した二次元パターン画像を基に、計測装置は計測対象物のそれぞれの測定点における奥行き方向の距離情報を取得して距離計測処理を行う（Ｓ１０７）。 （もっと読む）

【課題】設置スペースが限られていても測定しやすい干渉計を提供すること。
【解決手段】レーザ光源２からの光Ｌ１を参照面７２１に入射させるとともに被測定物４に入射させ、偏光面が直交する参照光Ｌ４および測定光Ｌ５を得、それらの合波光Ｌ６を射出するセンサヘッド７が、レーザ光源２などを備える本体部１０に、可撓性を有する偏波保存ファイバ３０９により接続されているので、センサヘッド７を適宜の位置に配置でき、設置スペースが限られていても簡単に被測定物４の変位量を測定できる。また、センサヘッド７が、偏光面を保存して導光する偏波保存ファイバ３０９により本体部１０と接続されているので、センサヘッド７から射出された合波光Ｌ６が偏波保存ファイバ３０９を透過する際に、参照光Ｌ４および測定光Ｌ５の偏光面が互いに直交した状態のまま保存される。そのため、合波光Ｌ６から被測定物４の変位量を正確に測定できる。 （もっと読む）

【課題】噴霧粒子を撮像し、画像処理を行い、粒子径および粒度速度を同時に測定する噴霧粒子撮像解析システムおよび解析方法を提供すること。
【解決手段】噴霧粒子撮像解析システムは、噴霧粒子の集合（Ｍ）に光を照射する光源部（１、２）と、噴霧粒子の前記集合を所定の時間間隔で撮像する撮像部（３、４）と、撮像部によって撮像された画像を記録する記録部と、制御部（８）とを備え、制御部が、画像から粒子を検出し、粒子の粒子径及び円形度を求め、円形度が所定のしきい値以上である粒子を焦点深度内の粒子の候補として選択し、連続測定した２枚の画像の相互相関から平均速度を求め、連続測定した２枚の画像における全粒子の組み合わせについて粒子速度を求め、粒子速度と平均速度の方向が一致し、粒子径が一致し、且つ、粒子速度が平均速度に対して所定範囲内にある粒子を対応する粒子として決定する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の屈曲した被検査面や湾曲した被検査面に対して適正な照明を与えるとともに、従来技術の問題点を抑制する欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象物１の被検査面に明・暗・明パターンを作り出すべく被検査面を覆うように照明する円弧状照射面を有する照明手段２と、前記被検査面における明・暗・明パターンの暗部領域を撮像する撮像手段３と、前記照明手段と前記撮像手段とを一体的に保持する保持手段５と、前記保持手段と前記被検査面との相対位置を変更設定する位置決め手段６と、前記撮像手段によって取得された撮影画像における前記暗部領域から、画像処理を用いて前記被検査面上の欠陥を検出する欠陥検出手段７４とを備える欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】 指示器を操作する人の手ブレに起因する画面上の指示点のブレを軽減することができる指示器システムを提供する。
【解決手段】 この指示器システムは、互いの位置関係が既知の４つ以上の光源をもつ光源セットを有する指示器２と、指示器２が指し示す方向を横切って仮想的に設定される指示器２の操作範囲７と、光源を撮像するカメラ３０と、撮像した画像から求めた指示器２の位置と角度に基づいて指示器２が操作範囲７内で指し示す第１の指示点位置８を算出し、第１の指示点位置８に基づいて表示装置で表示するための第２の指示点位置９を演算する演算装置４と、第２の指示点位置９を指示点１として画面５０に表示する表示装置５とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、湾曲した板状体の検査装置及び検査方法に関し、湾曲した板状体の全面を略均一に検査して、その欠陥検出を正確に行うことにある。
【解決手段】複数の曲率を有する湾曲した板状体へ向けて光を照射する光源と、光源と板状体との間に配設され、該光源から板状体へ向けて照射された光を透過・遮断するための所定の明暗パターンが形成されたパターン形成部材と、板状体を反射した光源からの光を受光する受光センサと、を設け、受光センサに受光された光の受光パターンに基づいて板状体を検査する装置において、パターン形成部材に形成された所定の明暗パターンを、受光センサでの受光パターンの間隔周期が該受光センサの分解能に対して所定の下限複数倍から所定の上限複数倍までの範囲内になるように、板状体の曲率に合わせて粗密にする。 （もっと読む）

【課題】複眼撮像装置において、狭いスペースに容易に進入させることができ、模様のない一様な表面を有する被写体であっても容易に正確な３次元形状を取得する。
【解決手段】複眼撮像装置１は、人の口腔内に進入可能な小型に形成された撮像装置本体２と、撮像した画像の画像処理装置３とを備える。撮像装置本体２は、複数の光学レンズＬ１１、Ｌ１２・・Ｌ３３が同一平面上に配置されてなる光学レンズアレイ６と、個眼像ｋ１１、ｋ１２・・ｋ３３を撮像する固体撮像素子７と、光学レンズアレイ６上に接着された回折光学素子８と、回折光学素子８へレーザ光９を出射するレーザ光源装置１０とを備える。回折光学素子８は、表面に形成された微小な凹凸により入射されたレーザ光９を反射し、被写体の表面に多数の輝点（パターン像）を格子状に映し出す。画像処理装置３は撮像された各輝点毎に撮像装置本体２と輝点との距離を算出し、被写体の３次元形状を推定する。 （もっと読む）

【課題】測定対象との距離の２次元分布、測定対象の傾斜角、測定対象の傾斜方向を求める。
【解決手段】計測器は、光ファイバ１と、光ファイバ１の入射軸に対して傾いた方向から走査用光を光ファイバの入射側端面に入射させる走査用レーザ３と、光ファイバ１からの光照射によって測定対象１０上に現れる照射光形状を撮影するカメラ４と、カメラ４によって撮影された照射光形状の画像から、測定対象１０との距離と測定対象１０の傾斜角と測定対象１０の傾斜方向のうち少なくとも１つを求める演算装置５とを備える。 （もっと読む）

【課題】アライメント調整を容易に行うことができるとともに、ノイズ光の発生を抑制しつつ被検光の光量を十分に確保して被測定放物面の形状を高精度に測定し得る光波干渉測定装置を得る。
【解決手段】参照基準板２と被測定放物面４１との間の光路上に球面波生成手段３を配置する。この球面波生成手段３は、被測定放物面４１の焦点位置に配置されるピンホールミラー３１を備えており、該ピンホールミラー３１は、被測定放物面４１に照射された照明用平行光束のうち該被測定放物面４１で反射され、その焦点位置に集光する光束の一部を、波面整形された球面波に変換して反射し被測定放物面４１に向けて出力するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ピニオンギヤが速く回転しても確実にギヤの歯面磨耗を検知することができ、磨耗量の検知をユーザの任意の量で確実に検知できる手段を提供する。
【解決手段】ギヤの歯面の側面を検出する第１のセンサ１及び第２のセンサ２と、を備え、ギヤを回転させたときの、第１のセンサ１の信号の変化するタイミングから第２のセンサ２の信号の変化するタイミングの時間の差が、予め設定した閾値よりも大きくなったとき、ギヤが磨耗したと判断する磨耗検知機構を構成する。 （もっと読む）

【課題】
領域内に移動物が立ち止る位置及びその位置における停止時間を自動的に測定する。
【解決手段】
領域内で移動物が停止する位置を検出する位置検出手段と、位置で移動物が停止した時間を算出する時間算出手段と、位置検出手段によって検出された位置情報と時間算出手段によって検出された時間情報を関連付けて記憶するデータ記憶手段と、記憶手段から位置情報と時間情報を読み出し、領域内の位置に対応する時間情報を統計処理する統計処理手段と、統計処理手段によって処理された情報を領域内の位置に関連付けて表示する表示処理手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】クリームはんだ内部の状態を検出することができる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】照明装置５は、クリームはんだが塗布された基板に対して所定の強度の赤外光を照射する。撮像装置６は、その赤外光が照射された基板を撮像する。制御装置９の主制御部９５は、撮像装置６の取込画像の画像データから、基板から反射された赤外光の強度分布に基づいてクリームはんだの断面形状を検出することができる。また、除去部９５ｃによりクリームはんだ表面からの反射光を除去することができるので、はんだの断面形状をより正確に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の異なる波長の光の反射光を波長毎に分離可能な撮像カメラを用い、部品の位置、形状、及び傾きを高精度で検出する。
【解決手段】作業ヘッド２０に吸着された部品２４に緑色光を照射する第１の照明部２６と、緑色の光とは異なる波長の赤色光を照射する第２の照明部２８と、第１と第２の照明部から略同時に照射された緑と赤の反射光を取り込み、各反射光を波長毎に分離して画像信号を出力する撮像カメラ２２と、撮像カメラ２２から出力された画像信号を波長毎に分離して画像処理し、作業ヘッド２０の中心軸に対する部品２４の位置、形状、及び傾きを演算する制御部５０を備えている。 （もっと読む）

【課題】各種移動体表面に形成されたマークとそれを検出するセンサとの距離変動や角度変動が生じたりあるいは速度変動が生じてもて高精度にマークを検出して各種移動体の移動量を安定して検出する。
【解決手段】２組の投光部２３ａ，２３ｂでスケール１７の移動方向でスケール１７のマーク周期の１／２周期だけずれた位置にビーム３０ａ，３０ｂを照射し、スケール１７のスリット１９を透過した光を２組の受光部２４ａ，２４ｂで受光したりあるいはスケール１７の反射マーク１８で反射した光を２組の受光部２４ａ，２４ｂで受光して１８０度位相がずれたマーク検出信号３３ａ，３３ｂを出力して２値化してオフセット変動を除去する。 （もっと読む）