【課題】ＳＯＩ基板表面上の薄膜の厚さを、分子汚染に伴う問題を回避するとともにシステムの複雑性を伴うことなく高精度で測定する方法およびシステムを提供する。
【解決手段】シリコン−オン−インシュレータ（ＳＯＩ）基板などの多層構造基板の上の薄膜について単一波長偏光解析（ＳＷＥ）を行うこのシステムは、上記多層構造基板の表面層の厚さ以下の吸収距離を有する測定用ビームを用いる。例えば、ＳＯＩ基板の場合は、上記表面シリコン層の厚さ以下の吸収距離をもたらす波長をもつように測定用ビームを選ぶ。このシステムには、スループットを損なうことなく測定の精度を高めるように同時並行クリーニング動作を行うクリーニング用レーザを備えることができる。測定用ビーム源は、測定用ビームの吸収距離が前記表面層の厚さ以下になりクリーニング用ビームの吸収距離がその表面層の厚さ以上になるように、測定用ビームを一つの波長で、クリーニング用ビームをそれよりも大きいもう一つの波長でそれぞれ生ずるように構成する。
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【課題】 薄膜の膜厚を１分間に１万点以上の測定を基板全面にわたって行う検査を可能とする。
【解決手段】 透明基板２上に形成された薄膜３に対してレーザ光を照射し、基板の測定領域全体に渡って基板内の多数の同一ポイントでの透過強度を透過光強度モニタ４、反射光強度を反射光強度モニタ５で測定する。反射率をＲとし透過率をＴとしてＡ＝１−（Ｒ＋Ｔ）の値からＡ値と膜厚の関係から膜厚を測定し評価する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面への透光性膜の成膜、又は基材の表面に成膜された透光性膜の膜処理を行う基材処理装置において、透光性膜の膜物性のリアルタイム測定を実施し、高精度な膜物性制御を行う。
【解決手段】基材処理装置１は、基材１０の表面への透光性膜の成膜、又は基材１０の表面に成膜された透光性膜の膜処理を行っている基材１０に対して、透光性膜側から光Ｌを照射する光照射手段５０と、成膜中又は膜処理中の基材１０からの光Ｌの反射光Ｒを受光し、反射光Ｒに含まれる、透光性膜の表面で反射される第１反射光と、透光性膜と基材１０との界面で反射される第２反射光との干渉光を検出し、ピークバレー法により透光性膜の膜物性を測定する膜物性測定手段６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】検査装置による検査結果の確認を容易にして当該確認作業に要する時間を低減させると共に、検査装置の構成を簡素化する。
【解決手段】１台のＣＣＤカメラ６を用い、検査のための三次元計測用の撮像と、テクスチャデータを得るための二次元撮像用の撮像を行う。三次元計測用の撮像を用いた三次元演算手段２８による計測値に基づき、クリームハンダの三次元形状を示す三次元モデルデータを、三次元データ格納手段３０に格納する。一方、二次元実画像のデータ（テクスチャデータ）を、二次元データ格納手段３１に格納する。このとき両データは同一座標系で表現されており、当該座標系を維持したまま、制御手段７からの制御信号によりマッピング手段３２が二次元実画像のデータを三次元モデルデータにマッピングし、制御手段７は、表示手段２７の表示画面に濃淡情報を有する三次元画像を表示する。 （もっと読む）

【課題】 搬送系におけるＯＶＤのバタツキ、うねりによるあばれやＯＶＤの若干の位置のあばれに影響を受けず、安定したＯＶＤの欠陥検査を可能とするＯＶＤ画像検査方法及び画像検査装置を提供する。また、併せて、ＯＶＤ検査ビューアを提供する。
【解決手段】 ＯＶＤを検査する検査装置であって、ＯＶＤとして形成される画像の中の少なくとも１つの特定画像を発現させるように設計した特定の観察角度に対応して設計された、少なくとも１つの光源と、前記光源からの照射により発現させた前記少なくとも１つの特定画像を撮像する撮像部と、前記撮像した少なくとも１つの特定画像を、検査内容に応じて画像処理をする情報解析部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 露光時のウエハなどの基板表面形状測定において、露光ショット間に生じる表面形状測定値のオフセットを低減させる。
【解決手段】 基板上の少なくとも一部を照明し、前記照明された基板から反射された光を検出することによって、前記基板の表面形状を測定するために、前記基板に形成される複数の露光ショットの大きさ及び配置の少なくともいずれかに基づいて前記照明する領域を変更する変更手段と、前記複数の露光ショットの大きさ及び配置の少なくともいずれかに基づいて前記光を検出する複数の検出点の位置及び個数を決定する決定手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】大面積の基材に塗布された透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する方法を提供すること。
【解決手段】基材１表面に対し斜め方向から照射光Ｘを照射し、斜め方向に出射する反射光の光路上に凸レンズ２が配置されており、この凸レンズ２の作用によって基材１の像３が結像される。凸レンズ２の光軸２ａは前記基材１の表面の法線１ａに対して傾いており、像３も基材１表面の法線１ａに対し傾いた位置に結像する。そして、この像３をカメラで撮影して画素に対応する領域ごとに反射光強度を測定する。次に、測定された反射光強度から塗布ムラを検出する。 （もっと読む）

【課題】被測定対象であるウエハなどの平板の表面と背面との形状差である厚みムラの凹凸判定を干渉縞を用いて測定することは複雑であった。
【解決手段】ウエハ５を光源１の照明光によりコリメータレンズ４を通して照明し、ウエハ５から反射した該照明光の反射光を干渉縞として撮像手段３により撮像し、該干渉縞からウエハの厚みムラ測定する際、撮像手段３により撮像して得られた画像に対し、所定サイズに区分けした複数の検査領域を対応させ、該検査領域内に存在する干渉縞の間隔が所定数を越えていると、当該被測定体の厚みムラが予め設定した許容値を越えていると判定し、また光源１と撮像手段３とが光軸中心線Ｌ_０に対する角度を等しく変化させると干渉縞の生成に変化が生じ、この変化によりウエハの凹凸を判定する。 （もっと読む）

【課題】物体を撮像してその物体の３次元形状と表面色とを計測する技術において、その撮像時間を短縮する。
【解決手段】まず、物体の３次元形状を計測するため、ＣＣＤにより、その物体を撮像し、その撮像結果から、その物体を表す全体画像を構成する複数個の画素のいずれかを間引いて形成される画素間引き画像を取り出す。その取り出された画素間引き画像に基づき、物体の３次元形状を計測する。同じ物体の表面色を計測するため、ＣＣＤにより、３次元形状計測のための撮像に連続して、その物体を撮像し、その撮像結果から、その物体を表す全体画像を構成する複数個の画素のいずれも間引かずに形成される画素非間引き画像を取り出す。その取り出された画素非間引き画像に基づき、物体の表面色を計測する。これにより、高いテクスチャ解像度が確保されつつ、撮像時間が短縮されてテクスチャマッピング精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】波長走査の前後に基準面を機械駆動する機構を付加することにより、被測定体の表面に半波長以上の高さの段差が存在しても、不確定さなしに二次元表面形状を決定可能とする。
【解決手段】出力光の波長λを時間的に変化させ得るレーザ光源１と、レーザ光源１からの光束を平行光束とした後、基準板４の基準面４’上、被測定面７上および既知の段差Hのゲージブロック８の上面９上に導くコリメータレンズ３と、基準板４の基準面４’を光束に平行に波長の数分の一ずつ平行移動させる駆動機構５と、基準面４’、被測定面７およびゲージブロック８からの光束の光干渉により得られた干渉縞情報を撮像するＣＣＤカメラ１２とを備えた干渉計装置を用いて干渉縞による形状・段差を測定する。 （もっと読む）

【課題】 保持ヘッドの保持面と基板ステージの角度を実際の使用状態に近い状態で正確かつ容易に測定するのに好適な保持ヘッドの角度測定方法を提供する。
【解決手段】 真空吸着ヘッド１の吸着面を平行プリズム９の上面に接触させ、短波長同軸照明１２からの光を平行プリズム９に入射する。そして、平行プリズム９に入射された光のうち上面で反射した光と、上面を透過して吸着面で反射した光により形成される干渉縞をＣＣＤカメラ１１で測定する。これにより、干渉縞の態様から、真空吸着ヘッド１の吸着面と基板ステージ２の平行度θを正確に測定することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被検面で反射した被検光束の光路を折り曲げる反射面の面精度誤差に依らずに、その被検面の形状を高精度に測定することのできるＰＤＩの原理を利用した面形状測定方法、及び面形状測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の面形状測定方法は、点光源（３ａ）から射出した理想的球面波の一部で被検面（５ａ）を照明すると共に、その被検面（５ａ）で反射した被検光束（ＬＷ）の光路を反射面（３）で折り曲げて前記理想的球面波の他の一部と干渉させ、それによって生じる干渉縞のデータを前記被検面の形状データとして取得する測定系を用いた面形状測定方法において、前記理想的球面波による前記被検面の照明領域を、マスクＭで部分領域に制限してその部分領域の形状データを取得することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 リニアイメージセンサの出力から微小径の棒状体の縁部における単色光のフレネル回折パターンを解析して前記棒状体の径を求めるに際し、その誤検出を確実に防ぐことのできる棒状体の測定方法を提供する。
【解決手段】 光路中に位置付けられた棒状体により受光量が低下したリニアイメージセンサにおける受光セルの情報からその遮光領域の幅を求めると共に、上記遮光領域での受光量の総和の情報を求め、この受光量の総和の情報と、この情報に関して予め前記遮光領域の幅に応じて定めた閾値とを比較して、前記遮光領域に前記棒状体の径方向のエッジにおける回折光だけが回り込んでいる計測条件が成立しているか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】青色光に感受性を有する透明被膜の膜厚ムラを、自動的に、かつ、精度良く検出する方法とその方法に適用する装置とを提供すること。
【解決手段】波長５００〜５７０ｎｍの緑色光と波長５８０〜６３０ｎｍの赤色光を含む光を照射し、これら光の反射光強度を、波長ごとに、かつ、照射範囲を多数の小領域に分割してその小領域ごとに測定し、小領域ごとに、緑色光の反射光強度と赤色光の反射光強度の差を算出し、多数の前記小領域の間で前記強度差同士を比較し、周囲の小領域に比べて前記強度差が大きいまたは小さい小領域を膜厚ムラのある領域として抽出する。 （もっと読む）

【課題】数ｎｍから数１０ｎｍ程度の外径を有するナノカーボンチューブや外径２００ｎｍ以下のより細いナノファイバーの外径を精度良く測定する方法およびその測定装置を提供する。
【解決手段】ナノファイバーの長さ方向に対して垂直に偏向された垂直偏光を、前記ナノファイバーに投射して得られる所定散乱角度の散乱光による測定散乱光強度と、前記散乱角度から算出した計算散乱光強度とから、前記ナノファイバーの外径及び屈折率の関数で表される偏差指標を算出し、この偏差指標を最小とする前記ナノファイバーの外径および屈折率の組み合わせを求めることで、前記ナノファイバーの外径および屈折率を求めることを特徴とするナノファイバーの外径及び屈折率の測定方法である。 （もっと読む）

【課題】極厚の精密樹脂シートのシート幅方向の厚み分布を成形ロールの外周面から精密に測定できるシート厚み計測装置を提供する。
【解決手段】 本発明のシート厚み計測装置３４は、Ｔダイ５からシート状に押出された溶融樹脂を回転する成形ロール１、２の第１ニップ部３３ａに流し込むことで成形されるシート６の幅方向のシート厚さ分布を、シート６の幅方向に移動しながら成形ロール２の上面側から測定するものであり、シート６の幅方向に移動可能な１つのトラバース台９に、シート６の表面位置を検出する表面検出センサ７と、シート６の裏面位置を検出する裏面検出センサ８とを、シート６の厚み方向に対する相対位置が調整可能なように搭載し、少なくとも表面検出センサ７は投光受光の光軸が一致している光軸一致式センサであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 半導体デバイスの製造工程におけるフォトリソグラフィでの露光量およびフォーカス等の露光条件の最適化を個別かつ簡便に実現することができる技術を提供する。
【解決手段】 半導体ウェハのパターンに光を照射し、その反射による散乱光を用いてパターンの形状情報を検出する光学系により、予め作成した複数の形状変形パターンを有するＦＥＭサンプルウェハの波形を検出・保存する。パターンの変形に伴って生じるスペクトル波形上での１つ以上の特徴点を記録し、特徴点の変動モデルを求める。被測定パターンでは、上記と同様にしてスペクトル波形を検出し、波形上の特徴点の変位から、変動モデルを用いて、作成条件の変位（露光量ずれ、フォーカスずれ）を推定する。これにより、露光量とフォーカスを独立にフィードバックすることができ、高精度なプロセス制御が実現できる。 （もっと読む）

【課題】計測された回折スペクトルと特性領域における複数のシミュレートされた回折スペクトルとの類似性を比較して、格子構造パラメータを決定する方法を提供する。
【解決手段】光波散乱計測方法は、Ａ）格子構造パラメータを入力し、Ｂ）前記パラメータを基礎として入射光値に渡り回折形状を計算し、Ｃ）前記パラメータのうち１以上を増分的に変更し、Ｄ）ステップＢを繰り返し、変更された格子構造パラメータを基礎として前記入射光値に渡り追加的な回折形状を計算し、Ｅ）増分的に増大する格子構造パラメータ値の変更が回折形状内にしきい値を超える変化を発生させる、計算された回折形状の特性領域を識別し、Ｆ）計算された回折形状の特性領域をライブラリに格納し、Ｈ）サンプル基板上で光波散乱計測を実行し、入射光値に渡って散乱シグナチャを生成し、Ｇ）散乱シグナチャをライブラリ内の計算された回折形状と比較し、Ｈ）選択された類似レベルまで散乱シグナチャとマッチする、計算された回折形状を識別する。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶミラーの母材自身では反射率が低い場合が多く、光を使った母材の形状測定の際に、その光量およびコントラストを得ることが困難であった。また、複数枚での評価の際は、反射率が確保できない場合は測定不可能であった。
【解決手段】 反射用の膜を母材に成膜することにより、測定精度を落とさず測定することが出来る。 （もっと読む）

脈又は心拍を検査又は確認するための方法が提案される。該方法は、まず指のような身体部分を照射するために照射光を方向付けするステップを有する。該照射光は、光スペクトルの実質的に青色光領域にある波長又は波長帯のものである。それから、身体部分の照射の結果の照射された身体部分の光スペックルパターンが、得られ、画像化される。光スペックルパターンは、心拍を代表するものであり、該スペックルパターンから抽出されたフレームの相関により、身体部分の脈又は拍動の程度が確認され得る。
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