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Fターム[2F065LL05]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 光学系 (17,149) | レンズ;レンズ系 (2,973) | 変倍レンズ (254)

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【課題】リアルタイムコンテキスト生成機能を含むマシンビジョンシステムプログラム編集環境を提供する。
【解決手段】編集に現実的なコンテキストを生成するために、パートプログラムのすべての先行命令の実行を必要とせずに、前に保存されたデータを使用する代理データ動作が、特定の命令セットの実行に取って代わる。代理データは、パートプログラムに記録される動作の実際の実行中に保存し得る。実行の編集モードは、そのデータを代理と置換して、そのデータを生成するであろう動作を実行する。コンテキスト生成で大量の時間節約を達成し得、それにより、編集は動作コンテキスト内で行うことができ、動作コンテキストは略リアルタイムで正確性のために繰り返しリフレッシュし得る。これは、マシンビジョンシステムの固有のユーザインタフェースを使用して、比較的未熟なユーザによる都合のよいプログラム変更をサポートする。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造で容易に対象エリア、又は測定対象の画像が取得できると共に対象エリアの測定が行える画像測定装置を提供する。
【解決手段】投光光軸26と照明光29を射出する光源27とを有し、前記投光光軸を経て前記照明光を投射する投光光学系5と、受光光軸15と撮像素子13とを有し、測定対象からの再帰反射光29′を前記受光光軸を経て撮像素子で受光する受光光学系6と、前記撮像素子で撮像されたデータを処理する制御演算装置7とを具備し、前記投光光学系は前記投光光軸を測定対象に向け前記照明光を投射する投光ユニット25と、該投光ユニットを高低方向、水平方向に回転し、前記照明光の投射角を変更する投射角変更手段23,33と、前記受光光軸に対する前記投光光軸の方向角を検出する方向検出手段24とを有する。 (もっと読む)


【課題】走査型白色干渉計を用いて試料の表面形状を測定する際に、少ないデータ数で精度よく試料の表面形状を測定できるようにするデータ処理方法を提供する。
【解決手段】走査型白色干渉計のデータ処理方法は、干渉計で得た動画ファイルデータを読み出し、それぞれの画素において時間軸方向のデータに基き、ヒルベルト変換を用いて、時間軸上での位置で、干渉計の光路差が0になる走査距離に対応した干渉波形の最大のピークの位置を求め、それを全画素で表わす。 (もっと読む)


【課題】試料の表面形状の測定精度を大幅に向上させることのできる、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】対物レンズの下にビームスプリッター及びミラーを配し、試料表面を含めて、マイケルソン型などの干渉計を構成し、試料までの距離又はミラーまでの距離をピエゾアクチュエーターで走査し、それによりできる干渉波形をCCDカメラで撮影して動画ファイルデータとして記録し、データ収集間隔をナイキスト間隔(干渉波形の周期の1/2)よりも広く取って試料の表面形状を測定する、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法において、得られた収集波形についてヒルベルト変換を行い、包絡線と位相を得、こうして得られた位相が0になる走査位置と試料の表面高さとの関係を用いて位相が0になる走査位置から試料表面の高さを算出する。 (もっと読む)


【課題】試料の表面形状を測定する際に、干渉波形の包絡線と位相との両方に基き試料の表面形状を算出できるようにした走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】撮影した動画ファイルデータに基づき、試料の表面上の位置に対応する各画素において、ヒルベルト変換を用いて干渉波形の包絡線と位相を算出し、包絡線がピークになる走査位置と、位相が0になる走査位置を算出し、両位置の差から、試料表面の反射光の位相変化による位置ずれの値を検出し、その値の大きさから、その画素の試料表面が他の画素の試料表面と同種であるか異種であるかを判定し、同種のもの同士で干渉波形の位相が0になる走査位置のずれの平均値を算出しておき、各画素で、位相が0になる位置から対応する試料の表面上の物質での位相が0になる走査位置のずれの平均値を引くことで、反射光の位相変化の影響が消されて試料の表面形状が測定される。 (もっと読む)


【課題】試料を詳細かつ適切に評価することができる形状測定装置、及び形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる形状測定装置は、観察窓51と、基板54とを有する試料保持ユニット11と、観察窓51又は基板54を介して、試料53を加圧するシリンダ56、57と、試料51の形状を測定するため試料51を照明するとともに、照明光の焦点位置を光軸方向に走査可能な共焦点光学系30と、共焦点光学系30を介して、試料保持ユニット11に保持された試料からの反射光を検出するラインセンサ15〜17と、焦点位置を光軸方向に走査した時での検出結果によって、形状を測定する処理部18と、を備え、観察窓51の表面51aに焦点位置を合わせて、観察窓51の表面形状を測定するものである。 (もっと読む)


【課題】表面形状の計測処理を効率的に行い、撮像装置のスループットを向上させる技術を提供する。
【解決手段】撮像装置が、被写体を保持する保持手段と、前記被写体の表面形状を計測する表面形状計測手段と、前記表面形状計測手段により計測された表面形状に合わせて撮像面を調整して、前記被写体の撮像を行う撮像手段と、前記被写体の全体領域のなかから撮像すべき対象物が存在する存在領域を特定する特定手段とを備える。前記表面形状計測手段は、前記特定手段により特定された存在領域の表面形状のみを計測する。 (もっと読む)


【課題】検査装置における伝送プロトコルは画像データの送信側と受信側が使用する伝送プロトコルに応じて最適化されている。このため、使用する伝送プロトコルが変更されると、データの分配を実行する部分の再開発が必要とされる。
【解決手段】画像データに付加情報を付して出力する撮像部と画像データを処理する画像処理部との間に画像分配部を配置する。さらに、画像分配部を、第1の伝送プロトコルにより撮像部から入力される画像データを所定のデータ形式に変換する画像入力部と、所定のデータ形式に変換されたデータの分配を制御する分配制御部と、所定のデータ形式のデータを第2の伝送プロトコルの画像データに変換して画像処理部に出力する画像出力部とで構成する。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンの上部及び下部の寸法を明確に区別して測定する。
【解決手段】基板5上に形成された凹凸パターンを拡大観察する顕微鏡1と、前記顕微鏡1を通して観察される前記凹凸パターンを撮像する撮像カメラ2と、前記顕微鏡1の対物レンズ7の視野外からその視野内に散乱光を照射する照明光学系3と、前記撮像カメラ2の画像を入力して表示部17の画面17a上に表示し、入力手段16により入力して前記表示画面17a上に指定された範囲内の前記凹凸パターンの上部及び下部のいずれか一方、又は両方の寸法を測定する制御手段4と、を備えたものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、共焦点光学系を利用して計測対象物の変位を計測する共焦点計測装置であって、光の波長による、計測対象物の変位を計測する精度の変動を抑えた共焦点計測装置を提供する。
【解決手段】本発明は、共焦点光学系を利用して計測対象物の変位を計測する共焦点計測装置である。共焦点計測装置100は、白色LED21と、白色LED21から出射する光に、光軸方向に沿って色収差を生じさせる回折レンズ1と、回折レンズ1より計測対象物200側に配置され、回折レンズ1で色収差を生じさせた光を計測対象物200に集光する対物レンズ2と、対物レンズ2で集光した光のうち、計測対象物200において合焦する光を通過させるピンホールと、ピンホールを通過した光の波長を測定する波長測定部とを備えている。回折レンズ1の焦点距離は、回折レンズ1から対物レンズ2までの距離と、対物レンズ2の焦点距離との差より大きい。 (もっと読む)


【課題】 落射照明画像用のエッジ位置測定値補正を提供する。
【解決手段】 精密マシンビジョン検査システムにおける落射照明画像エッジ位置誤差を補正するための方法が開示される。方法には、落射照明光および透過照明光を用いてワークエッジ特徴のエッジ位置測定値を比較することが含まれる。透過照明光を用いたエッジ位置測定値は、落射照明より不確実性が低い。位置補正係数が、2つのエッジ位置測定値間の差から決定され得る。位置補正係数は、落射照明光を用いて取得された画像に基づく後続のエッジ位置測定値を補正するために記憶してもよい。いくつかの実施形態において、位置補正係数は、複数のエッジ用のエッジ位置測定値の比較に基づいて決定してもよい。 (もっと読む)


【課題】チャープ光の長さに依存することなく、奥行きの計測範囲を長くすることができる3次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】3次元形状測定装置10は、波長が規則的に経時変化するチャープ光を生成して被測定物Wに対して照射するチャープ機器16と、被測定物Wを反射した反射チャープ光を所定タイミングで所定期間切り出す複数のシャッタ部22a、22b、22cと、複数のシャッタ部22a、22b、22cにより切り出された反射チャープ光と前記複数のシャッタ部22a、22b、22cの位置情報とを用いて、被測定物Wの複数領域の3次元情報を取得する3次元情報取得部26とを備え、複数のシャッタ部22a、22b、22cは、被測定物Wの基準位置に対して距離が異なるように設けられている。 (もっと読む)


【課題】パターンの形状測定において、対象構造が計測可能か、又はどの程度の誤差が生じるかを分光反射率測定により事前に知る。
【解決手段】繰り返しパターンを分光検出して分光反射率を求めるとともに検出時に生じる検出波長ごとのノイズの量を求め、分光反射率の情報及び検出時に生じる検出波長ごとのノイズの量の情報と、繰り返しパターンの屈折率と消衰係数とを含む光学的材質の情報及び繰り返しパターンの形状の情報とを用いて繰り返しパターンの形状を算出して所定の精度で繰り返しパターンを計測することが可能かを評価し、評価した結果所定の精度で計測可能と判定した場合に繰り返しパターンと同一のパターンが形成された基板を順次分光検出してパターンの形状を検査するようにした。 (もっと読む)


【課題】精密ソルダレジストレジストレーション検査方法を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システムを動作させて、蛍光材料内の特徴の位置を再現可能に特定するために、蛍光画像を取得するための蛍光撮像高さを決定する方法が開示される。蛍光材料外に露出した露出ワークピース部分の高さが特定される(例えば、高さセンサまたはオートフォーカス動作を使用して)。特定された高さは再現可能である。露出部分は、蛍光材料および/または蛍光材料内に配置された特徴に対して特徴的な高さを有する。蛍光材料内部であり得る蛍光撮像高さが、特定された露出部分の高さに相対して決定される。蛍光撮像高さは、結果として生成される蛍光画像において蛍光材料内に配置された所望の特徴の検出を向上させるように決定される。様々なワークピースに対して、この方法は、従来既知の方法よりも確実に、適宜合焦された蛍光画像の自動取得を提供する。 (もっと読む)


【課題】同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき,広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 (もっと読む)


【課題】 ワークの寸法を測定するための測定設定データを容易に作成することができる測定設定データ作成装置を提供する。
【解決手段】 形状線の位置情報、寸法線の位置情報、並びに、寸法線に関連付けられた設計値及び公差からなる設計値情報を含む設計データを取得する設計データ取得手段と、ワークを含むマスター画像に対し、測定対象箇所及び測定種別を指定するための測定対象箇所指定手段と、指定された測定対象箇所について、マスター画像からエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を算出する寸法値算出手段と、算出された寸法値に近い設計値からなる設計値情報を設計データから抽出する設計値情報抽出手段と、指定された測定対象箇所及び測定種別からなる測定対象箇所情報、並びに、測定対象箇所に関連付けた設計値情報を含む測定設定データを生成する測定設定データ生成手段により構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明では、正確に測定対象平面を検出すると共に、測定時間の短縮が可能な共焦点顕微鏡装置を提供することを目的とする。
【解決手段】観察試料8の観察面に光を集束する少なくとも1つの対物レンズ7と、観察試料8と対物レンズ7との距離を所定間隔で変化させるZレボルバ16と、観察試料8と対物レンズ7との距離に応じて所定間隔を設定する測定条件情報指示部19と、設定された所定間隔で上記距離を変化させるようにZレボルバ16を駆動制御するZ駆動制御部22と、観察面からの反射光を検出する光検出器12と、上記所定間隔の距離毎に観察面上に光を二次元走査して光検出器12で検出される検出信号により平面画像を生成し、生成された複数の平面画像を用いて三次元画像を生成するコントローラ2を有する共焦点顕微鏡装置100により、上記課題の解決を図る。 (もっと読む)


【課題】検査完了までに要する時間の増加を抑制しつつ詳細な欠陥レビュー検査を可能にする。
【解決手段】基板検査装置1は、基板WをX方向へ搬送する基板搬送ユニット22と、X方向へ搬送中の基板Wにおける欠陥を検出するラインスキャンカメラ15、ラインスキャンカメラ駆動部115、欠陥検出部121および制御部101と、検出された欠陥の画像を同搬送中に取得するレビューカメラ19、レビューカメラ駆動部119および制御部101と、を備える。 (もっと読む)


【課題】電極パターンまたは配線パターンに安定的に焦点を合わせることができる画像取得装置、欠陥修正装置および画像取得方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、欠陥が生じている基板111の一部を拡大した画像を取得する欠陥修正装置100であって、基板111の一部を撮像する撮像部121と、基板111を載置したステージを移動するステージ移動部113と、対物レンズ129の基板111に対する焦点合わせを行う合焦検出部123と、ステージ移動部113を制御して、合焦検出部123が焦点合わせを行う場合に合焦検出領域から基板111の画像取得対象領域内に含まれる欠陥を退避させるステージ制御部156と、合焦検出部123による焦点合わせ後の焦点条件を固定する合焦制御部155と、合焦制御部155による焦点条件の固定後に撮像部121に基板の一部を撮像させる撮像制御部153とを備える。 (もっと読む)


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