【課題】露光時の走査方向の違いによって生じるスキャン精度の差異を求めることが可能
な表面検査装置を提供する。
【解決手段】露光によって作製されたパターンを有するウェハを照明光で照明する照明系
２０と、パターンで反射した照明光を検出する受光系３０および撮像装置３５と、撮像装
置３５により撮像されたウェハの回折画像からパターンの線幅を求め、走査方向によるパ
ターンの線幅の差を求める検査部４２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】鏡面反射が酷い計測対象物であっても、簡単な構造により低コストで高精度かつ高速に表面の凹みや大きな疵などの三次元的欠陥を検査することが可能な三次元表面検査装置の提供。
【解決手段】計測対象物Ｘを撮影するカメラ装置３と、曲面状に配設されて計測対象物を覆うフィルタ膜と、フィルタ膜の曲面状に沿って周期的な強度分布を持つ曲面状強度分布のパターン光を投影し、フィルタ膜を介して計測対象物に投影する曲面パターン光投影手段５と、カメラ装置３により撮影された画像に対し、曲面状強度分布を直線状強度分布に変換するデコード処理を行うことで、計測対象物の表面の三次元的欠陥を検出する欠陥検出手段１３とを含む。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で広い計測レンジと高い計測精度とを実現した計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置は、第１光源、第２光源、第１検出器、第２検出器及び算出部を備える。第１光源は第１波長と第２波長との間で波長が走査された走査区間を含む第１光を生成する。第２光源は第３波長の第２光を生成する。第１検出器は第１光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第１干渉縞を検出する。第２検出器は第２光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第２干渉縞を検出する。第３波長は第１波長及び第２波長の合成波長より短い。算出部は第１時刻において第２干渉縞の位相のデータから第２干渉縞の次数が算出できなくなった場合に、第１時刻より後の走査区間における第１干渉縞の位相の変化に基づいて第１時刻以降における第２干渉縞の次数を算出し、該算出された第２干渉縞の次数を用いて第１時刻以降における被検面の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】正確に測定位置を制御でき、かつセンサの取り付け位置調整機構や位置調整作業を必要とせずに測定位置の制御精度を保つことができるレーザー高さ測定装置を提供する。
【解決手段】レーザー光Ｌ１を照射するレーザー光照射部６１および対象物で反射されたレーザー光を検出する反射光検出部６２を有するレーザー高さセンサ６と、レーザー高さセンサ６を平面内で移動させるセンサ移動機構（ヘッド駆動機構４１〜４３）と、所定の較正位置（光入射軸ＡＯ上）に配置された画像カメラ（部品カメラ５）と、レーザー光Ｌ１を減衰しつつ透過する減光フィルタ７１と、レーザー高さセンサ６を較正位置ＡＯに位置決めしてレーザー光Ｌ１を照射し、減光フィルタ７１を透過したレーザー光を画像カメラ５で撮像してレーザー光画像を得るレーザー光撮像手段と、座標位置の補正値をレーザー光画像上でのレーザー光の位置に基づいて求める補正値取得手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】透過率の再現性が高い分光素子を用いながら、適正にレーザ光源の光量制御が可能な情報取得装置およびこれを搭載する物体検出装置を提供する。
【解決手段】情報取得装置１は、発光装置１０と、受光装置２０と、を備える。発光装置１０は、レーザ光源１１０と、コリメータレンズ１２０と、リーケージミラー１３０と、リーケージミラー１３０によって反射されたレーザ光をドットパターンを有するレーザ光に変換するＤＯＥ１４０と、リーケージミラー１３０を透過したレーザ光を受光して受光量に応じた検出信号を出力するＦＭＤ１６０と、リーケージミラー１３０とＦＭＤ１６０との間に配置され、リーケージミラー１３０を透過したレーザ光の光量を減衰させるフィルタ１５０と、ＦＭＤ１６０の検出信号に基づいて、レーザ光源１１０の発光量を制御するＡＰＣ制御部２１ｂと、を有する。 （もっと読む）

【課題】従来の形状測定装置は、被測定物体の幅方向に変位計を複数台設置して凹凸を測定していたので、幅方向の分解能が粗いという問題があった。また、スポット光と光走査装置を用いて、被測定物体の幅方向にこの光スポットを走査し、撮像装置で走査されたスポット光を撮像する方法が提案されていたが、撮像装置の受光信号のレベルが低い、または、測定範囲内の受光レベル差が大きく、安定した測定ができないという問題があった。
【解決手段】被測定物体に垂直でかつ幅方向にスリット状の光を照射するスリット光光源と、スリット光源と反対側に配置される撮像装置と、被測定物体に垂直でかつ搬送方向にスリット状の光を照射するスリット光光源と、スリット光源と反対側に配置される撮像装置と、撮像素子上の結像座標を被測定物体の測定座標に変換する座標変換器と、顕在形状演算器を備えた。 （もっと読む）

【課題】ＣＣＤカメラの飽和露光量を超える過大な入力光量に対して、最短時間で測定可能なＣＣＤカメラ信号を得ることが可能な測定装置、及びその応答時間の短縮方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ＣＣＤカメラ１ａの露光時間を制御する測定装置１００の応答時間の短縮方法であって、ＣＣＤカメラは、異なる透過率の２つ以上のフィルタ出力を同時に使用し、入力光量の最小値を検出する第１の透過率の大きいフィルタ出力の測定範囲の最大値（飽和値）と、第２の透過率の低い第２のフィルタ出力の測定範囲の（最小値）とがラップするような透過率とし、第１のフィルタ出力が飽和している場合には、前記第２のフィルタ出力から、前記第１の透過率と前記第２の透過率との比率から、前記第１のフィルタ出力に換算した露光時間の補正ゲインを求め、一回の制御周期（測定周期）で入力光量を検知し、次の制御周期で第１のフィルタの露光時間を更新する。 （もっと読む）

【課題】安価で小型の変位・ひずみ分布計測光学系と計測手段を提供すること。
【解決手段】複数の撮像素子を使用することで、光学素子の数を減らし、２次元の変位・ひずみ分布計測を行うことができる装置を小型にすることができる。さらに、計測対象物の近傍に鏡を設置することにより、撮像素子の数を減らし、さらに小型の装置とすることができる。 （もっと読む）

【課題】より高い分解能を得ることが可能な変位センサを提供する。
【解決手段】センサヘッド１００は、レンズ１０（対物レンズ）と、レンズ１０を変位させるための振動子８と、フォトダイオード２（受光部）と、反射光の光路上に位置するピンホール７ａが形成された絞り板７と、レンズ９（コリメートレンズ）とを備える。光軸Ｘは、レンズ９，１０の光軸であるとともに、ピンホール７ａの中心軸に対応する。遮光部材１３は、ピンホール７ａの中心軸に対して反射光の光路が傾いた状態で、反射光にピンホール７ａを通過させる。遮光部材１３を省略し、レーザダイオード１の光軸をピンホール７ａの中心軸に対して傾けてもよい。これにより、フォトダイオード２からの受光信号に対する電気的ノイズあるいはスペックルの影響を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】外乱による信頼性の低下を抑えた分光特性測定装置とその制御方法、分光特性測定方法、及び光路長差伸縮機構を提供する。
【解決手段】本発明は、被測定物の測定点から多様な方向に向かって発せられた光を一つにまとめた後、分割光学系によって第１反射部と第２反射部に導き、前記第１反射部と前記第２反射部の相対位置に影響を及ぼす外乱を推定し、該外乱を解消するように前記第１反射部と前記第２反射部の少なくとも一方を移動させることにより前記第１反射部によって反射された第１反射光と前記第２反射部によって反射された第２反射光の光路長差を伸縮させつつ、前記第１反射光と前記第２反射光を結像光学系によって同一点に導き、その点の干渉光強度変化に基づき前記被測定物の測定点のインターフェログラムを求め、このインターフェログラムをフーリエ変換することによりスペクトルを取得する。 （もっと読む）

【課題】参照用光源から出射された参照光が検出光出射空間に漏れてしまうことを防止しつつ、光検出器での参照用光源の検出強度を適正なレベルに抑えることができる光学式位置検出装置、および位置検出機能付き機器を提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置１０では、対象物体により反射した検出光Ｌ３の一部を光検出器３０により受光した結果、および検出対象空間１０Ｒを介さずに光検出器３０に入射した参照光Ｌｒの強度に基づいて対象物体Ｏｂの位置を検出する。光検出器３０と、参照光Ｌｒを出射する参照用光源１２Ｒとは、受光ユニット３５を構成しており、参照用光源１２Ｒから出射された参照光Ｌｒが検出対象空間１０Ｒに漏れることを回避する。受光ユニット３５では、参照用光源１２Ｒから出射された参照光Ｌｒを、強度を低下させた状態で光検出器３０に入射させるため、光検出器３０での参照光Ｌｒの検出強度のレベルを低く抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】 基板に実装された部品を検査する基板検査方法に関わり、より詳細には正確な端子領域を検出して部品の実装状態を検査することのできる基板検査方法を提供する。
【解決手段】印刷回路基板上に形成された部品の端子のチップ位置設定方法は基板上に形成された部品の端子と隣接して形成されたハンダに対して測定された測定高さを設定された基準高さと比較して仮象チップラインを設定することと、端子の長さ方向に沿って端子の幅方向に関する中心ラインを設定することと、仮象チップライン及び中心ラインの交差点から中心ラインによる測定高さを用いて端子のチップ位置を設定することと、を含む。従って、より正確な端子のチップ位置を獲得することができる。 （もっと読む）

【課題】低コストでありながら操作性及び機能の優れた干渉対物レンズ装置、及び当該干渉対物レンズ装置を備えた光干渉測定装置を提供する。
【解決手段】光出射部１０から出力された光をワークＷに対して収束させる対物レンズ３１と、対物レンズ３１よりもワークＷ側に配される参照ミラー３２と、対物レンズ３１を透過してきた光を、参照ミラー３２を有する参照光路とワークＷを配置した測定光路とに分岐させると共に、参照ミラー３２からの反射光とワークＷからの反射光とを合成して干渉光として出力させる分岐合成部材３３と、参照ミラー３２からの反射光又はワークＷからの反射光の何れか一方の他方に対する光量を調節する光量調節手段（液晶パネル３４及び制御部７０）を備える。 （もっと読む）

【課題】生体細胞のような位相物体の観察に用いられてきた従来の位相差顕微鏡に代わって、広くて深い測定視界を持ち、位相差の干渉画像が鮮明に得られる、単純で簡便な位相物体画像の識別、検査の方法と装置を提供する。
【解決手段】可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。また、位相物体の位相差を含めて異なる形状の複数形状粒子群を形状ごとに数や挙動や位置を自動計測するために、多重マッチトフィルタ法を含んだ位相差画像を検査する。 （もっと読む）

【課題】反射画像の輝度を適切な輝度に調整することができ、被計測物の三次元形状を正確に計測することが可能な三次元形状計測装置を提供すること。
【解決手段】三次元形状計測装置１００は、輝度が正弦波状に変化する縞状の光パターンを異なる位相で複数回、被計測物に投影する投影手段１０と、光パターンが投影された被計測物の反射画像を撮像する撮像手段２０と、被計測物の反射画像を基に、被計測物の三次元座標を計測する計測手段３１と、を有し、光パターンを被計測物に投影する前に、投影手段１０より所定の光を被計測物に投影し、所定の光が投影された被計測物の反射画像における各画素の輝度階調値と、所定の光の輝度階調値と、を基に、被計測物の光の最大反射率を算出する反射率算出手段３２と、最大反射率に応じて、撮像手段２０が受光する受光量を調整する調整手段３３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】比較的大きなサイズの欠陥を高感度で検出できると共に、高さ又は深さの変化量が１ｎｍ又はそれ以下の微細な欠陥も検出できる検査装置を実現する。
【解決手段】照明光源１からの照明ビームを被検査基板２１に向けて投射する対物レンズ２０と、入射した照明ビームを、互いに干渉性を有する第１及び第２のサブビームに変換すると共に、基板の表面で反射したサブビーム同士を合成し、基板表面の高さ又は深さと関連する位相差情報を含む干渉ビームを出射させる微分干渉光学系１６と、出射した干渉ビームを受光する光検出手段２８と有する。微分干渉光学系のリターデーション量は、ｍを零又は正の整数とした場合に、第１と第２のサブビームとの間に（２ｍ＋１）π又はその近傍の位相差が形成されるように設定し、前記光検出手段から出力される出力信号のバックグランドの輝度レベルがほぼ零となる検査状態において基板表面を照明ビームにより走査する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出される。しかる後、得られた検出信号を信号処理アルゴリズムを用いて解析処理し、検出信号の波形の形状に関する判定量が求められ（ステップ３０２〜３１０）、その判定量に基づいて複数のマークの検出結果の再現性が評価される（ステップ３１２）。そして、その解析結果に基づいて複数の照明条件及び結像条件が最適化される（ステップ３１４）。これにより、検出結果の再現性を向上するようにアライメントマークの検出条件を最適化することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】焦点位置を高速に移動させることなく、測定対象物の表面に形成されるレーザ光の照射スポットを小さく保つことができる３次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】
レーザ光を出射するレーザ光源１０と前記レーザ光を反射して走査するミラー３０を設ける。レーザ光源１０とミラー３０の間にスポット形成器２０を設ける。スポット形成器２０は、前記レーザ光を平行光に変換するコリメートレンズ２２、前記平行光をリング状の輪帯光に変換するフィルタ２３、前記輪帯光を集光する第１リレーレンズ２４及び第２リレーレンズ２５を備える。さらに、測定した測定対象物までの距離の平均値を算出して、前記算出した平均値に応じてスポット形成器２０を前記レーザ光の光軸方向に移動させる移動装置２０ａを設ける。 （もっと読む）

【課題】
レーザ暗視野方式の基板検査装置では，照明光の可干渉性が高いことにより，酸化膜(透明膜)が表面に形成された基板の検査においては膜内多重干渉による反射強度の変動が生じる。また，金属膜が表面に形成された基板の検査においては，金属膜の表面粗さ(ラフネス，グレインなど)による散乱光が干渉して背景光ノイズが大きくなり，欠陥検出を感度低下させていた。
【解決手段】
指向性の良いブロードバンド光源（スーパーコンティニュアム光源など）を用いた低干渉かつ高輝度な照明により上記課題を解決する。また，従来のレーザ光源も併用し，光源を使い分けることでウエハの状態に応じて高感度な検査を可能とする。さらに，調整機構を設けた照明光学系により，両光源の照明光学系を共通化し，簡略な光学システムで上記効果を実現する。 （もっと読む）

【課題】 光源からの光を測定対象や光検出器の受光面へ位置合わせを行う際に、位置合わせを容易に、かつ確実に行うことが可能な光学式変位検出機構のスポット光の位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 測定対象となるカンチレバー６に光を照射する光源１０と、光源１０を駆動する光源駆動回路２１と、光源１０からカンチレバー６に照射した後の光を受光し、光強度を検出する光検出器１６と、光検出器１６の検出信号を所定の利得で増幅する増幅器２２から構成される光学式変位検出機構において、光検出器１６で検出される検出感度を利得（増幅率）調整器を用いて実際に測定対象を測定する時よりも小さい値に設定して、光検出器１６の所定の位置に光検出器用位置決め機構１８により光のスポット２０の位置決めを行うようにした。 （もっと読む）