【課題】 走査型露光装置のマスクステージ、あるいはウエハステージにおいて、走査方向と直交する方向の変位を測定する測定手段を含むリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】 フレーム１５に固定されたビーム源１７から発せられたビームはステージに固定された反射型の格子２６により２つのビームに分割される。さらに、それぞれのビームは透過型の第２の格子１８，１９、第３の格子２４，２５、１／４波長板２２，２３を透過後、反射型の格子２６でビームを１本にし、センサに入射させる。センサはビームの干渉の強度変動を感知し、ステージの変動量を測定する。 （もっと読む）

【課題】測定精度を向上させた形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明では、パターン投影系により被検物に対して投影パターンが無い状態での光源からの光を照射し、第１および第２の撮像光学系により第１および第２の測定画像を撮像取得する第１のステップ（ステップＳ１０１〜Ｓ１０３）と、パターン投影系により被検物に対して所定の投影パターンを投影し、第１および第２の撮像光学系により第３および第４の測定画像を撮像取得する第２のステップ（ステップＳ１０４〜Ｓ１０６）と、第１〜第３の測定画像における輝度を用いて第４の測定画像における輝度を補正した補正画像を作成する第３のステップ（ステップＳ１０７〜Ｓ１０９）と、第３のステップで作成した補正画像に基づいて被検物の三次元形状を測定する第４のステップ（ステップＳ１１０）とを有している。 （もっと読む）

【課題】 ＰＳＭ技術を改良すること。
【解決手段】 発明は、物体に縞を投影し、位相シフト法を使用して前記物体の外面をレリーフとして３次元測定するコンピュータ化された光学的方法に関し、縞の物体への４つの投影軸が使用され、各投影軸の原点は事実上の四面体の４つの頂点のそれぞれに実質的に位置する照明点とみなされ、物体は前記四面体の中心に実質的に配置され、撮影は４つの撮影軸に沿って実質的に位置する４つの撮影点から行われ、撮影軸のそれぞれは４つの三つ組投影軸により形成される４つの三面体の１つの中線であり、４つの撮影点は、各撮影点において、各像が三つ組投影軸の３つの照明点により照明できる物体の３つの表面のそれぞれの少なくとも一部を含むような物体からの距離に位置し、三つ組投影軸の中線は前記撮影点の撮影軸を定め、６対の照明点により照明されかつ定められる６つの表面のそれぞれの像の組はコンピュータ装置に取り込まれる。発明はまたそれに対応するシステムに関する。 （もっと読む）

【課題】
クラリネットやサクソフォーン等のシングルリード楽器のリードは様々なメーカから市販されているが、その多くは演奏会でそのまま使用できるものは少なく、不満足なものが大半であった。
【解決手段】
鳴りの良いリードは振動先端領域の厚さがリードの中心軸に対してほぼ左右対称で、且つなだらかに分布している。
従来この厚さ分布状況は厚さ計で多数点計測すれば得ることはできたが、非常に手数と時間を要し、頻繁に行うことや、多数のリードを対象に計測することは難しかった。 本発明は従来リードに利用されたことのないモアレ現象を適用したコンパクトな厚さ分布検査装置であり、装置にリードを置けば即座に厚さ分布を可視化し把握できる。厚さ条件から外れるものに関しては検査を繰り返しながら対称になるまで厚い方を削り込めばよい。これによって極めて高い成功率で鳴りの良いリードに調整できる。
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【課題】 位置合わせ用マークの位置計測精度を向上させる。
【解決手段】 移動可能なステージ上のマークに照明光を照射し、該マークからの光束により撮像手段上に該マークの像を形成し、該撮像手段の出力に基づいて生成される信号波形からマークの位置を計測する。また、ステージ位置を計測するステージ位置計測手段と、撮像期間中の照明光強度を連続的に計測する光強度計測手段と、撮像期間中のステージ位置の変化と照明光強度の変化とに基づいて前記信号波形を補正する信号波形補正手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】成形ガラス板若しくはパネルの光学的ひずみを定量的に分析するための光電子的な方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、反復模様がその表面に配された平坦な剛性表面から入射され光電子装置へ反射される光線によって成形ガラス板上に形成された前記模様のデジタル画像を、前記光電子装置を使用して取得するステップと、前記成形ガラス板の表面上に形成された前記模様の前記デジタル画像を、少なくとも１つのアルゴリズムによりプログラムされ、前記光電子装置からデジタル化された像を受信することが可能なコンピュータへ電子的に送信するステップとを含み、前記少なくとも１つのアルゴリズムが、前記分析のために選択された領域での、前記平坦な垂直表面上に配された前記反復模様のうちの隣接する所定数の模様から成る集団における見掛け上の模様のばらつきの最大変化率を計算することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】物体の三次元形状を迅速に精度良く計測する。
【解決手段】物体２に正弦波状の光パターンを投射するとともに、光パターンが投射された物体２を撮影し、その撮影画像に基づいて物体２の三次元形状を計測する三次元形状計測装置であって、短波長の光パターン２０及び長波長の光パターン３０の各々を物体２に投射するプロジェクタ３と、短波長の光パターン２０及び長波長の光パターン３０が投射された物体２を撮影するカメラ４と、カメラ４で撮影された画像に基づいて、短波長の光パターン２０の相対位相及び長波長の光パターン３０の相対位相を算出し、算出した長波長の光パターン３０の相対位相に基づいて、短波長の光パターン２０の相対位相と絶対位相との間のオフセット値を求め、該オフセット値と、算出した短波長の光パターン２０の相対位相とに基づいて、物体２までの距離Ｚを求める制御部５とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シャドウモアレを用い、測定対象物の形状に関係なく複数の照明部を選択的にオン／オフさせて測定対象物の３次元形状を測定する。
【解決手段】格子１１０の移送部材１２１と、格子移送機構１２２と、リニアガイド１２３と、からなる格子移送部１２０と、格子移送部１２０の上部に設置さたビームスプリッター部１３０と、ビームスプリッター部１３０の一側に設置さた第１照明部１４０と、ビームスプリッター部１３０を透過する反射イメージを撮影する結像部１５０と、結像部１５０を中心に所定の角度で斜めに設置さた複数の照明部１６０を設けると共に、それらを制御する制御部１７０を設け装置を構成する。撮影された反射イメージから対象物１０２の３次元形状を得、測定対象物１０２の形状に応じて照明部１６０のオン／オフを制御する。 （もっと読む）

光源（１０４）により放射される光放射の異なる波長の焦点が、測定される表面（１１６）の法線（１１８）の方向において、異なる高さに合うように、光放射処理ユニット（１１２）が、測定される表面（１１６）の法線（１１８）とは異なる方向から、異なる波長を測定される対象（１１４）に向ける。可能性のある偏光子（１２０、１２２）が、表面（１１６）の法線（１１８）に垂直な方向に、反射された光を偏光させる。光放射処理ユニット（１１２）は、測定される対象（１１４）から受けた偏光された光放射を検出器（１０８）に向ける。信号処理ユニット（１２４）が、検出器（１１２）により提供された信号に基づいて、検出された放射から、放射の強度が最も高い波長を決定し、決定された波長により表面（１１６）の位置を決定する。両側から対象（１１４）を測定するとき、測定される対象（１１４）の厚みが、表面の位置を使用して決定可能である。
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【課題】被測定物体に模様や外乱光の影響を受けない三次元形状測定装置及びその方法を提供することを目的とする。
【解決手段】高輝縞と、高輝縞より輝度の低い低輝縞とが交互に位置する縞パターン光を被測定物体２に投影する投影手段３と、縞パターン光の反射を受像し画像データを出力するカメラ４と、画像データから三次元座標データを生成する計算機５を有する三次元形状測定装置において、計算機５は、画像データの高輝縞及び低輝縞の所定部分で輝度の差が所定値以上であるかどうかの合否を判断する輝度差判断手段５０と、否と判断された所定部分の輝度を調節した一部修正縞パターン光を作成する輝度調節手段５１と、一部修正縞パターン光を被測定物体に投影することを投影手段３に命令する再投影命令手段５２と、一部修正縞パターン光の反射を受像し画像データを出力する再受像命令手段５３を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】単一のアライメントマークを使用して、および／または非対称アライメントマークを調整して、アライメント位置を捕捉することの可能な改良されたアライメントシステムを提供する。
【解決手段】アライメントシステムにおいて、２つの重なり合う、相対回転されたアライメントマーカの像を作り出す自己参照干渉計を用いる。検出器が像のフーリエ変換が干渉させられる瞳面における強度を検出する。干渉された次数における強度変化として示される、２つの像の回折次数間の位相差から位置情報が得られる。回折次数のどちらかのサイドの２つの位置で強度を測定することにより非対称性もまた計測可能である。 （もっと読む）

【課題】 短い時間で正確な欠陥検査ができる外観検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】 ステージ２に載置される検査対象部品３に対してＣＣＤカメラ１２により２次元画像を撮像し、この撮像画像に対し制御部１５により２次元画像処理して欠陥検査を行い、この欠陥と判定された部分に対して、さらに高さ情報を用いて欠陥の再判定を行う。 （もっと読む）

【課題】半導体ターゲットのオーバレイなどの特性を測定する装置および方法の提供。
【解決手段】一般に、次数選択された画像化および／または照射が実行され、測定システムを用いてターゲットから画像を収集する。一実施において、調節可能な空間変調は本システムの画像化経路のみに提供される。他の実施において、その空間変調は本システムの照射経路および画像化経路の両方に提供される。特定の実施において、その空間変調は±ｎの回折次数を有する、隣接するグレーティングを画像化するために用いられる。隣接するグレーティングは半導体ウエハの異なる層または同一の層内であってよい。構造物間のオーバレイは通常、グレーティングの対称中心間の距離を測定することによって見出される。この実施形態の場合、ｎ（ｎはゼロではない整数）の所定の選択に対して±ｎの次数のみが選択され、グレーティングはこれらの回折次数を用いてのみ画像化される。 （もっと読む）

【課題】 計測対象物の表面にある物が、クラックのような凹部分であるか、バリのような小片突起物が計測対象物の表面に付着しているかを判断できる位相シフト法を提供する。
【解決手段】 縞パターンの光を計測対象物に投影し、縞パターンの投影方向と異なる方向から計測対象物を撮像した撮像画像を得る過程を、縞パターンの位相を一定間隔でずらしながら複数回実行し、撮像画像を複数の撮像装置によって撮像画像を撮像することにより、前記複数回の過程で得られた複数枚の撮像画像における同一点での明度変化に基づいて縞パターンの位相値を演算するとともに位相値から撮像画像上の各点における高さ情報を得る３次元形状計測方法において、単独の撮像装置によって撮像された撮像画像からのデータのみでは高さ情報を得ることできない範囲について、複数の撮像装置によって撮像される撮像画像からのデータを比較することにより、高さ情報を得る。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の表面の色の明暗に依存することなく、測定対象物の全表面の形状を測定することができるようにする。
【解決手段】２値化投影パターンを投影された測定対象物からの反射光画像を撮像し、該撮像した反射光画像を用いて空間コード画像を生成する空間コード化法により上記測定対象物の３次元形状を測定する３次元形状測定方法において、２値化投影パターンを投影された測定対象物からの反射光画像を異なる露光時間で撮像し、該異なる露光時間で撮像した反射光画像を合成して多重シャッタースピード画像を生成し、該多重シャッタースピード画像に基づいて空間コード画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、構造光を用いた物体検出方法及びこれを用いたロボットを提供する。
【解決手段】 所定の構造光が投射された地点の高低差を測定する段階、及び前記測定された高低差を用いて底物体を検出する段階を含む。これにより、ロボットの作業に影響を及ぼすことができる底物体を検出でき、底物体に対する区別された作業付与が可能であり、底物体の存在が感知されない状態でも底物体に対する作業付与が可能である。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな構造で、ＸＹＺ軸方向の移動量および移動方向の高精度化と高分解能化が実現できる変位測定装置を提供する。
【解決手段】計測基準面である２次元回折格子１と、回折光を検出するセンサ・ユニット２を有する。センサ・ユニット２は、２次元回折格子１に対して垂直に配置された２次元回折格子２１と、レーザー光源２２と、レーザー光を２次元回折格子１および２次元回折格子２１に垂直に入射させるとともに、２次元回折格子１および２次元回折格子２１からの回折光を対物レンズ２６によって干渉させる光学系と、干渉光を検出するフォトダイオード４１ないし４４等からなるセンサを有する。 （もっと読む）

【課題】指の指紋などの生体特徴を２次元のイメージセンサを使用して安定に入力することのできる小型で低廉な画像読取装置を提供する。
【解決手段】複数の受光素子がマトリクス状に配列された２次元イメージセンサ１を備えた画像読取装置において、指７を２次元イメージセンサ１の上面から一定の距離で非接触状態に保つ複数の隔壁２２が、多数のスリット２１を形成するように２次元イメージセンサ１の上面に形成されている。突起を成す隔壁２２が設けられているため、２次元イメージセンサ１の上面に押し当てられた指７は、その腹部が平坦になるほど比較的強く押し当てられても、２次元イメージセンサ１の上面から一定の距離で非接触状態に保たれ、その状態で、指７の皮膚表面から放射される放射光による画像が２次元イメージセンサ１によって撮像される。 （もっと読む）

【課題】
リソグラフィ装置におけるレベルセンサまたは高さセンサのキャリブレーションのための改良方法を提供する。
【解決手段】レベルセンサによって得られる基板位置測定のプロセス依存性を低減させるべく、複数のレベルセンサデバイスにおける測定値間の差を補い、かつ前記基板の特性に対応する、前記レベルセンサシステムについての少なくとも１つのキャリブレーション値を取得することと、少なくとも１つのキャリブレーション値に基づき、前記複数のレベルセンサデバイスを用いて、基板の表面の位置を測定する。 （もっと読む）

【課題】位相差測定の精度を高める偏光干渉位相差検出手段を提供すること。
【解決手段】干渉距離測定または干渉変位測定のための検出手段。検出手段は、互いに直交偏光し、偏光感度を有する光線屈折素子に向けて配向される対象物光路出力光線および参照光路出力光線を受け取る。光線屈折素子は、これらの直交偏光光線の一方または両方を屈折させ、これらの光線の間に所望の発散角度を形成する。分離光線は、合成偏光板に入射される。この合成偏光板から射出する光線は、同様に偏光されて干渉する。干渉する分離光線により、干渉縞が形成される。受光素子アレイの干渉縞の空間位相が、干渉計の対象物光線および参照光線の間の位相差とされる。 （もっと読む）