【課題】光学系の高さを低くするとともに、回折格子からの０次光の影響を低減して計測精度を向上する。
【解決手段】Ｘ軸のエンコーダ１０Ｘは、第１部材６に設けられ、Ｘ方向を周期方向とする回折格子１２Ｘと、可干渉性のある計測光ＭＸ１及び参照光ＲＸ１を供給するレーザ光源１６と、第２部材７に設けられ、計測光ＭＸ１を回折格子１２Ｘに向けてリトロー角から所定角度ずれた角度で反射する傾斜ミラー３２ＸＡと、回折格子１２Ｘからの回折光と参照光ＲＸ１との干渉光を検出する光電センサ４０ＸＡと、光電センサ４０ＸＡの検出信号を用いて第１部材６に対する第２部材７のＸ方向の相対移動量を求める計測演算部４２Ｘと、を備える。 （もっと読む）

【課題】計測対象物の物理情報を高精度に得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】計測装置３３は、光源１からの光を計測対象物３に入射させる計測光と参照面４に入射させる参照光とに分割するビームスプリッタ２ａと、前記計測対象物３で反射された前記計測光と前記参照面４で反射された前記参照光とを合成して合成光を生成するビームコンバイナ２ｂとを有し、前記合成光に基づいて前記計測対象物３の物理情報を得るように構成されている。前記計測装置３３は、前記計測光と前記参照光との空間コヒーレンスを変更するコヒーレンス制御部１０を備える。 （もっと読む）

【課題】回折格子を用いて計測する際に、干渉用の光学系をコンパクトに配置可能として、かつ格子パターン面の高さ変化に対する干渉光強度の低下を抑制する。
【解決手段】エンコーダ１０Ｘは、第１部材６に設けられたＸ軸の回折格子１２Ｘと、計測光ＭＸ１，ＭＸ２を回折格子１２Ｘの格子パターン面１２Ｘｂにほぼ垂直に入射させるレーザ光源１６と、第２部材７に設けられて、回折格子１２Ｘから計測光ＭＸ１によって発生する回折光ＤＸ１を回折格子１２Ｘに再度入射させる直角プリズム２６Ａと、回折光ＤＸ１によって発生する回折光ＤＸ２と他の回折光ＥＸ２との干渉光を検出する光電センサ４０Ｘと、を備える。 （もっと読む）

【課題】計測装置の測長軸の調整を不要とし、簡便な取り付け及び光学素子の汚染防止の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置であって、光源からの光を分割させる光分割素子と、前記参照面、前記被検面及び前記光分割素子を内部に収納すると共に、前記内部において前記参照面及び前記光分割素子を固定するハウジングと、前記ハウジングの外部に設けられ、前記光分割素子から前記参照面までの第１の光路長と前記光分割素子から前記被検面までの第２の光路長とが等しくなるときの前記被検面の位置を示す測長基点を表示する第１の表示部と、前記ハウジングの外部に設けられ、前記第２の光の光路に平行な軸を示す測長軸を表示する第２の表示部と、前記参照面と前記被検面からの反射光との干渉信号から前記参照面と前記被検面との間の距離を算出する処理部と、を有することを特徴とする計測装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】検出用走査を行うことなく、ワンショット撮影により、高さ方向のダイナミックレンジの大きい、被検面の１ライン上の微細な凹凸形状情報を容易に取得し得る、形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】 空間的にインコヒーレントで広帯域スペクトルを有する光を射出する面状の光源１０からの照明光を、対物レンズ１３Ａ、Ｂを介して参照面１４および被検面２０に照射し、得られた参照光と測定光を干渉させ、その干渉光をスリット１６Ａにより線状に整形し、分光器１６により分光し、２次元撮像手段１７により得られたスペクトル干渉情報に基づき被検面２０の形状を解析する。光源１０、被検面２０、スリット１６Ａ、および光源１０、参照面１４、スリット１６Ａは各々互いに共役である。被検面２０を介する系路の光路長と、参照面１４を介する経路の光路長との間にオフセットが設けられる。 （もっと読む）

【課題】管内面の状態や寸法によらずに管内面を検査することができる管内面検査装置およびその検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態は、管２内面の検査箇所にパターンを有するパターン光Ｐ１を管２内面の周方向にわたって投影する投影手段１１と、検査箇所に投影され反射されたパターン光を反射パターン光Ｐ２として投影する表示手段１２と、反射パターン光Ｐ２の形状を観測する観測手段１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】透過率の再現性が高い分光素子を用いながら、適正にレーザ光源の光量制御が可能な情報取得装置およびこれを搭載する物体検出装置を提供する。
【解決手段】情報取得装置１は、発光装置１０と、受光装置２０と、を備える。発光装置１０は、レーザ光源１１０と、コリメータレンズ１２０と、リーケージミラー１３０と、リーケージミラー１３０によって反射されたレーザ光をドットパターンを有するレーザ光に変換するＤＯＥ１４０と、リーケージミラー１３０を透過したレーザ光を受光して受光量に応じた検出信号を出力するＦＭＤ１６０と、リーケージミラー１３０とＦＭＤ１６０との間に配置され、リーケージミラー１３０を透過したレーザ光の光量を減衰させるフィルタ１５０と、ＦＭＤ１６０の検出信号に基づいて、レーザ光源１１０の発光量を制御するＡＰＣ制御部２１ｂと、を有する。 （もっと読む）

【課題】凹部の内側の情報に関する測定精度を向上させる。
【解決手段】形状測定装置は、撮像素子５と、複数の光学素子を含み、撮像素子５と共役な共役面１０を、複数の光学素子の配列方向に対して鋭角または鈍角の関係となるように形成する結像光学系６と、測定対象面に対して結像光学系６の少なくとも一部を移動可能な走査部と、走査部の位置情報及び撮像素子５の画像情報に基づいて、測定対象面の位置情報を取得する位置情報取得部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】従来の干渉計に比べて高精度な移動体の位置情報の計測を可能にする。
【解決手段】露光装置は、基板を保持して、ＸＹ平面内で移動し、ＸＹ平面に交差する反射面１３４を有するステージＷＳＴと、計測装置２０Ｙ’とを備えている。計測装置は、ステージＷＳＴの上方に配置され反射面１３４を介して入射した光ビームを回折させて反射面１３４に戻す固定スケール１３５と、反射面１３４に戻された光ビームを検出する検出部（１２４Ａ、１２４Ｂ、１２６、２８）と、を有する。計測装置は、固定スケール１３５からの戻りビームを、再度反射面１３４を経由させることで得られる前記光ビームの複数の回折ビームの干渉光を前記検出部で検出することで、ステージＷＳＴのＹ軸方向の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】 異なる２つの物体の回転ずれを計測する際に、従来と比較して計測時間の短い検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】 異なる２つの物体にそれぞれ形成された格子マークが重なることによって生じる干渉縞を用いて、前記２つの物体の相対的な回転ずれ量を求める検出装置において、前記干渉縞を検出する検出器と、該検出器で検出された前記干渉縞の傾きから前記異なる２つの物体の相対的な回転ずれ量を求める演算部と、を有することを特徴とする検出装置。 （もっと読む）

【課題】ラインイメージセンサーと同等の機能を有する比較的安価な受光装置を提供する。
【解決手段】所定の波長域に渡り分光された光の波長を検出する受光装置１０であって、ホトデテクター１４２と、ホトデテクター１４２に入光する光を規制する開孔１４３ａを有するマスク１４３を備えた受光手段１４と、光を波長域に渡り分光した回折光を受光手段１４に向ける回折格子１１と、回折格子１１を作動し波長域に渡り分光した回折光を選択的に該マスク１４３の開孔１４３ａに位置付ける作動手段１２と、回折格子１１の作動位置を検出する位置検出手段１３とを具備している。 （もっと読む）

【課題】位置測定装置における可動部材をできる限り他の部材と機械的に接続せずに成る高精度の位置測定装置を提供すること。
【解決手段】検出ユニット２０と信号ユニット３０を構造的に分離されたユニットとして形成し、検出ユニット２０を測定標準１０に対して少なくとも１つの測定方向ｘに沿って変位可能に配置し、光源から照射されるビームを信号ユニット３０から検出ユニット２０の方向へ照射し、少なくとも１対の部分ビームを検出ユニット２０から信号ユニット３０の方向へ照射し、検出ユニット２０及び信号ユニット３０を互いに平行な平面内に配置し、信号ユニット３０と検出ユニット２０の間におけるビームの少なくとも一部の拡がり方向を前記平面に対して垂直に配向するよう構成した。 （もっと読む）

【課題】高い回折効率を示し、精度良く位置検出を行える変位検出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】台形または矩形のレリーフ形状をした回折格子を用いる。また、可干渉光を出射する光源部と、光源部から出射された光束を二つの光束に分割する光束分割部と、を含み、二つの光束をＰ偏光として回折格子上に照射させる照射光学系と、二つの光束が回折格子により回折されることによって生じる二つの第１回折光をそれぞれ反射し、回折格子上にＰ偏光として再入射させる反射光学系を備える。また、回折格子に再入射した二つの第１回折光が回折されて生じる二つの第２回折光を干渉させる干渉光学系と、干渉光学系により干渉した光を受光する受光部と、受光部において取得した干渉信号に基づいて、回折格子の位置情報を検出する位置検出部を備えるものとする。そして、回折格子のレリーフの周期を、回折格子に入射する可干渉光の波長の１．５倍以下とする。 （もっと読む）

【課題】被解析試料の巨視的な動きを伴った場合であっても材料や構造物などの被解析試料の微視的な領域の力学挙動を簡便に解析可能な新規な力学挙動解析システム、及び力学挙動解析方法を提供する。
【解決手段】力学挙動解析システムは、被解析試料の解析表面を少なくとも被覆し、変形自在であって、かつ、被解析試料側の少なくとも表層に所定の周期構造が形成されている表面ラベルグレーティング膜及び被解析試料からなるサンプル６０と、スポット光であるプローブ光を入射する照射手段２０と、表面ラベルグレーティング膜からの回折光を検出する受光手段３０と、被解析試料と受光手段との距離を検出する距離検出手段７０と、回折角のデータを保持する記憶手段１４と、記憶手段１４に保持された複数の前記回折角のデータから、回折格子の周期構造変化を算出し、当該周期構造変化から被解析試料の力学挙動を解析する解析手段１３と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】ラインイメージセンサーと同等の機能を有する比較的安価な受光装置を提供する。
【解決手段】検出領域における光を検出するための受光装置であって、ホトデテクターと、ホトデテクターに入光する光を規制する開孔を有するマスクを備えた受光手段と、受光手段を検出領域に渡り移送せしめる移動手段と、受光手段の移動位置を検出する位置検出手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】検出対象物が近距離にある場合においても、大きな目標物の距離情報を取得できる情報取得装置、投射装置および物体検出装置を提供する。
【解決手段】投射光学系１１は、レーザ光源１１１と、コリメータレンズ１１２と、レーザ光を分離させるハーフミラー１１３と、分離されたレーザ光をドットパターン光Ｄｐ１に変換して目標領域に投射するＤＯＥ１１４と、分離されたレーザ光をドットパターン光Ｄｐ２に変換して目標領域に投射するＤＯＥ１１５と、を備える。複数のＤＯＥ１１４、１１５を用いることにより、広い角度範囲で、目標領域にドットパターンを照射できる。これにより、情報取得装置は、検出対象物が近距離にあるような場合においても、検出対象物の距離情報を適正に取得することができる。 （もっと読む）

【課題】被計測面の高さの計測において、計測精度の高精度化と計測範囲の広範囲化との両立に有利な技術を提供する。
【解決手段】参照光と計測光との干渉光強度を検出する複数の領域が２次元状に配列された検出部と、光源からの光を第１と第２の光に分離する第１の光学系と、第１の光が平行光で入射され２次元状の光路長差を有する複数の参照光束を生成する生成部と、生成部で生成された参照光の複数の参照光束のそれぞれが対応する複数の領域に入射するように、検出部に入射させる第２の光学系と、第２の光を被計測面の計測点に集光する第３の光学系と、計測点で反射された第２の光が複数の領域のそれぞれに入射するように、検出部に入射させる第４の光学系と、複数の領域のそれぞれに入射する複数の参照光束が有する光路長と複数の領域との対応関係に基づいて、複数の領域で検出される干渉光の強度から計測点における被計測面の高さを算出する処理部を有する。 （もっと読む）

【課題】パターンが形成される物体を保持する移動体を安定して位置制御する。
【解決手段】露光装置は、ウエハを保持して所定平面内で移動するウエハステージと、所定平面内でウエハステージとは独立に移動する計測ステージと、計測ステージの位置情報を計測する干渉計システム１１８と、ウエハステージの位置情報を計測する、干渉計システム１１８に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダシステム（７０Ａ〜７０Ｆ）と、を備えている。このため、露光装置によると、干渉計システム１１８により計測ステージの位置情報が計測され、エンコーダシステム（７０Ａ〜７０Ｆ）によってウエハステージＷＳＴの位置情報が計測される。従って、パターンが形成されるウエハを保持するウエハステージを安定して位置制御することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】反射率の低い被計測物であっても輪郭を正確に計測することができる３次元計測装置を提供する。
【解決手段】
所定の波長領域を有する光を照射し被測定物で反射した反射光と基準反射光との干渉光の各波長の光強度を検出して分光干渉波形を求め、分光干渉波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行する制御手段を具備する３次元計測装置であって、被計測面が対物レンズの集光点位置と一致するように予め波形解析後の光強度のピーク位置と共焦点位置の対応をとっておき、制御手段はイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、分光干渉波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、対物レンズの集光点位置に対応する光強度を位置付け手段によって特定されたX、Y座標におけるZ座標の光強度としてメモリに保存し、該メモリに保存されたX、Y、Z座標に基づいて３次元画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】物体の位置の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで第１物体に対する第２物体の相対的な位置を測定する第１測定部１１０と、第１物体に対する第２物体の相対的な位置を求める処理を行う処理部と、を有し、処理部は、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ及び第２ヘッド１１３ａのうち一方のヘッドで以前に検出された回折格子１１１ａ、１１１ｂ上の位置を他方のヘッドの視野の中心に位置決めした状態で一方のヘッドで以前に検出された回折格子上の位置とは別の位置を一方のヘッドで検出する処理を、一方のヘッドが回折格子の全面を検出するまで繰り返して回折格子の変形量を求める第１処理と、回折格子の変形量に基づいて、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで測定された第１物体に対する第２物体の相対的な位置を補正する第２処理と、を行う。 （もっと読む）