【課題】エンコーダシステムを用いたステージを位置決めする場合、スケール間に存在する幾何学的誤差に起因する計測誤差を低減する。
【解決手段】可動体に配置された複数のセンサと、構造体に取り付けられた複数のスケールとを有し、前記可動体の変位を検出することによって前記可動体の位置を計測する計測装置であって、前記複数のスケールは、第１方向における前記可動体の変位を検出するための２つの第１スケールと、前記第１方向とは異なる第２方向における前記可動体の変位を検出するための２つの第２スケールとを含み、２つのセンサによる検出値とが等しくなるように前記可動体を前記第１位置から前記第２位置に移動させたときに前記２つの第１スケールに対向している２つのセンサによってそれぞれ検出される変位の間の差に基づいて、前記２つの第１スケールの間に存在する幾何学的誤差に起因する計測誤差を低減する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】オブジェクト表面上のポイントの三次元位置情報を測定する好適な装置および方法を提供すること。
【解決手段】一実施形態において、上記方法は、スペクトル分布を有する２つの放射ソースを提供する工程と、上記ソースの各々で上記表面を照射して第１の縞パターンを生成する工程と、上記第１の縞パターンを第２の位置に移動させる工程と、第１のラップされたサイクルマップを生成する工程と、該第１の縞パターン中の縞数を推定する工程と、該第１の縞パターンを変化させる工程と、該第２の縞パターンを第２の位置に移動させる工程と、第２のラップされたサイクルマップを生成する工程と、該第２の縞パターン中の縞数を推定する工程と、上記第２の縞パターンおよび上記第２のラップされたサイクルマップ中の推定された縞数に応答して位置情報を判定する工程とを含む。 （もっと読む）

様々な計測システムおよび計測方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】より小さいターゲット上のより正確な測定 を行うことができる、改善されたメトロロジ方法および基板上の複数のターゲットの特性を測定するように構成されたメトロロジ装置等を提供する。
【解決手段】メトロロジ装置を配置してオフアクシス照明モードで複数のターゲットを照明する。１つの１次回折ビームのみを用いてターゲットのイメージを得る。ターゲットが複合格子である場合、回折格子のイメージの強度からオーバーレイ測定値を得ることができる。イメージフィールド内の格子の位置変動に起因するエラーについてオーバーレイ測定値を補正することができる。 （もっと読む）

統合された視覚及び表示システムは、表示面を通じて見るために表示画像を送信するように構成された表示画像形成層と、表示面の法線に対して狭い範囲の角度の、表示面上又は表示面の近くの１つ以上の物体からの反射を含む、赤外光を結像するように構成された結像検出器と、物体を照らすために赤外光を放射するように構成された視覚システムエミッターと、対向する上面及び／又は下面を有し、視覚システムエミッターから赤外光を受信し、上面及び下面からＴＩＲによって赤外光を導き、表示面の法線に対して狭い範囲の角度の外側の物体上へ赤外光を投影するように構成された、可視光及び赤外光を伝達可能な導光路とを具備する。
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【課題】測定面の傾斜量を高精度に測定する。
【解決手段】光源１より測定面２へ照明光２０を照射し、その反射光を回折格子８に入射させる。回折格子８より生じる±１次の回折光２２は光学ユニット３の一対の回折格子９に入射し、測定面２の傾斜量に応じた光路差を持つ２つの回折光２３を生じる。各回折光２３を集光光学素子１０により受光素子４に集光させると、上記光路差により干渉光を生じる。この干渉光の強度変化を測定することで上記光路差を求めて、測定面２の傾斜量を計算する。 （もっと読む）

【課題】被加工物の上面高さを計測する計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】被加工物Ｗに向けて白色光を発光する白色光源６１と、発光した光が有する各波長を回折する回折手段６２と、回折された光の中央部を遮蔽して光を環状に形成するマスク手段６３と、形成された環状の光の像をリレーするリレーレンズ６４と、伝達された環状の光を集光して被加工物に照射する対物レンズ６５と、マスク６３手段とリレーレンズ６４との間に配設され被加工物に照射された光の反射光を分光するビームスプリッター６６と、分光された反射光における光軸を通る波長の反射光を通過させる光分別手段６７と、通過した反射光を回折光に変換する回折格子６８と、回折された回折光の波長を検出する波長検出手段６９と、波長検出手段６９からの波長信号に基いて被加工物Ｗの高さ位置を求める制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】微小穴の内径等の微細形状の測定に際して、測定の非接触化による高精度化を図ると共に、光量変化の検出という単純な検出原理によるシステムの簡素化、低価格化を図る。
【解決手段】側面がセンシング面１２Ｂであるコア１２のみで構成され、該コア１２の端面１２Ａ、または、前記センシング面１２Ｂとコア端面１２Ａとの間の該コア１２内、もしくは該コア端面１２Ａの外側の少なくともいずれか一つに反射面を有する光ファイバ１０を備え、前記センシング面１２Ｂへの誘電体ワーク１６の近接により生じる、前記光ファイバ１０に入射され、前記反射面で反射されて戻ってきた光の減衰を検出する。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】広帯域波長の照明を用いて結像性能を向上させることが有効である。そこで、従来の屈折型光学系より広帯域波長の照明が使用可能な反射型光学系を用い、更に良好な収差状態を得られるレンズ外周部の円弧形状のスリット状視野にする。しかしこの方式は、受光面での各検出画素寸法の違いによる明るさの差と、センサの出力配列を視野内の位置座標に対応付けることが課題である。課題を解決するために、明るさの差及び座標を画素位置に応じて個別に補正する。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの微細化に対して、プロセスマージンが狭小な場合でも半導体パターンの形状計測を高精度で行うことができるパターン形状計測方法を提供する。
【解決手段】パターン形状計測方法において、ベストマッチとなる計算波形が選出不可能な場合は、形状パラメータの内、少なくとも１つのパラメータを、パターン形状計測に依らない計測方法を用いる他計測装置にて得られた情報に基づいて固定値とし、再度、ライブラリと検出波形のマッチングを行い、ベストマッチとなる計算波形を選出するステップと、ベストマッチした計算波形より対象パターンの形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】プロダクトフィーチャと同じ感度を受けるオーバーレイエラーを決定する方法を提供する。
【解決手段】オーバーレイエラーの決定に用いるマークはサブフィーチャ（４６）を含んでおり、このサブフィーチャはプロダクトフィーチャの最も小さいピッチとほぼ同等である最も小さいピッチを有する。これにより、歪みおよび収差に対する感度はプロダクトフィーチャのものと同じになる。しかしながら、マークが現像されるとサブフィーチャは組み合わされ、より大きいフィーチャの輪郭のみが現像される。 （もっと読む）

【課題】
多点で変位を同時に光学的に行おうとした場合、各種光学式変位計を多数用いる方法で多点の同時変位検出を行うことができるが、各センサはそれぞれ、レーザ等の光源、投射レンズ、受光レンズ、受光素子、処理回路、電源等を持ち、また、各センサの出力を受けるための多チャンネルＡＤ回路や出力を処理するコンピュータおよびソフトウエアが必要であり、センサの数が多くなるほど非常に高コストになっていた。
【解決手段】
一端に色収差をもつレンズを備えた光ファイバと、他端に、一本が光源につながり、もう一本が検出器につながる光ファイバを備えた光ファイバカプラとを備えた多数のプローブと、多数のプローブの光源側の光ファイバを並べ、白色光または複数波長光を投入する光源と、多数のプローブの検出器側の光ファイバを並べ、そこに対向配置したカラーカメラとを備える多点変位検出装置とした。 （もっと読む）

二次元光路分布の絶対測定を行う装置であって、本装置は、複数の波長を有する光を物体（２６）に照射する光源（４）と、物体の少なくとも一部分の画像を形成する干渉計（１２）であって、この少なくとも一部分の画像は広帯域干渉図形を含む、干渉計（１２）と、干渉計と光通信を行い、広帯域干渉図形を複数の狭帯域二次元干渉図形（７２、７４、７６）にスペクトル的に分離するハイパースペクトル撮像装置（３０）と、狭帯域干渉図形を空間的に位置合わせする位置合わせ装置（３８）と、各狭帯域干渉図形内の対応する画素から一次元強度信号を抽出する抽出装置と、物体上の各点における周波数を、各点に関連付けられた一次元強度信号から計算する計算装置（１００）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 移動体ＲＳＴのＹ軸方向の位置情報を、干渉計１６ｙと、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ₁）、（２４Ｂ，２６Ｂ₁））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。 （もっと読む）

【課題】 粗微動ステージにおいて、微動ステージの位置を高精度に計測する。
【解決手段】 粗動ステージＷＣＳに保持された微動ステージＷＦＳのＸＹ平面内での位置情報の計測には、微動ステージのＸＹ平面に実質的に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対向して配置され、該グレーティングに計測ビームを照射するヘッドを含むエンコーダシステムが用いられる。そして、微動ステージは、駆動系によって、エンコーダシステムで計測された位置情報に基づいて、単独で、若しくは粗動ステージと一体で駆動される。この場合、エンコーダシステムのヘッドを微動ステージ（グレーティング）に近接して配置することができ、これにより、エンコーダシステムによる微動ステージの位置情報の高精度な計測が可能になる。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果に基づいて移動体が駆動される。この場合、アーム部材からグレーティングＲＧに計測ビームを照射する構成が採用されているので、ステージ定盤にエンコーダシステムを設ける場合とは異なり、移動体の駆動に起因する悪影響はない。従って、移動体を精度良く駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】大型化したウエハの搬送を容易にする。
【解決手段】 露光装置は、ＸＹ平面に沿って移動可能であるとともに、互いに接近及び離間が可能な第１部分と第２部分とを含む粗動ステージＷＣＳ１と、ウエハＷを保持するとともに、粗動ステージＷＣＳ１によって少なくともＸＹ平面内で相対移動可能に支持される微動ステージＷＦＳ１と、粗動ステージＷＣＳ１に支持されている微動ステージＷＦＳ１を単独で若しくは粗動ステージＷＣＳ１と一体で駆動する駆動系と、を備える。また、露光装置は、粗動ステージＷＣＳ１との間で、微動ステージＷＦＳ１の受け渡しが可能なリレーステージＤＲＳＴを備えている。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果と、レーザ干渉計を用いてアーム部材７１の変動を計測する第２計測系の計測結果と、に基づいて移動体が駆動される。この場合、駆動系は、第１計測系の計測結果に含まれるアーム部材の変動に起因する計測誤差を、第２計測系の計測結果を用いて補正する。 （もっと読む）

ウエハステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）の位置情報は、定盤（１４Ａ、１４Ｂ）の下方に配置された計測バー（７１）が有する、複数のエンコーダヘッド、Ｚヘッドなどにより、微動ステージ（ＷＦＳ１，ＷＦＳ２）の下面に配置されたグレーティングを用いて、計測される。従って、ウエハステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）の位置情報の高精度な計測が可能となる。また、ウエハステージのガイド面が所定のクリアランスを介して並べて配置された２つの定盤（１４Ａ，１４Ｂ）によって形成されているので、定盤が一体である場合に比べて、１つ１つの定盤の取り扱いが容易になるとともに、定盤近傍のメンテナンスなどが容易になる。
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