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Fターム[2F065PP24]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 装置全体の構造 (6,881) | 測定器の形態 (1,547) | 顕微鏡 (429)

Fターム[2F065PP24]に分類される特許

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【課題】一方主面に薄膜が形成された透明で平板状の基材の厚みを計測する厚み計測装置および厚み計測方法において、薄膜の光学的特性に影響されることなく、基材の厚みを高精度に計測する。
【解決手段】対物レンズ455の合焦位置FPを、ブランケットBLの下面BLtよりも下方位置Zminから上面BLfよりも上方位置Zmaxまで、一定の刻みΔZでステップ的に上昇させながらその都度撮像を行う。撮像位置と受光強度との関係において、ブランケットBLの上面BLfおよび下面BLtに対応するピーク間の距離から、ブランケットBLの厚みDzを求める。 (もっと読む)


【課題】有底の凹部の状態を非破壊で検査し、製造コストを低減させる。
【解決手段】本発明のウエハ50のビア孔51の検査方法は、有底のビア孔51が表面に形成されたウエハ50に被転写材料を塗布し、この被転写材料をビア孔51内に充填させ、被転写材料を硬化させた後、ウエハ50から離型させることでビア孔51がビア像71として転写されてなる被転写体70を形成する転写工程と、ビア像71の表面を観察することでその表面形状の画像データを作成する表面観察工程と、ビア像71の画像データに基づいてビア像71の形状を評価し、ビア孔51内の状態を検査する検査工程とを備えたところに特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】マシンビジョンシステムのパートプログラム編集環境内で編集初期化ブロックを利用するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】パートプログラムの編集初期化ブロックを定義及び利用する方法が提供される。パートプログラムは、一部を測定するための複数のステップを備え、編集インタフェースに表示される。編集インタフェースに、編集初期化ブロックに含めるステップを選択する選択肢が提供される。パートプログラムが保存された後に、編集のためにパートプログラムが呼び出されると、追加のステップがパートプログラムに追加される前に編集初期化ブロックが実行され得る。編集初期化ブロックにない初期パートプログラムステップによって取得されたデータの少なくともいくつかは、編集初期化ブロックを実行して決定されたデータに関連する推定データに基づいてもよい(例えば、基づいて変更されてもよい)。 (もっと読む)


【課題】半導体基板の欠陥検査において、高精度かつ効率的に、可視光透過性を有する半導体基板の表裏面への焦点位置合せを行うこと。
【解決手段】
半導体基板の欠陥検査装置は、焦点位置合わせマークが表面に形成された可動ステージと、可視光を可動ステージに向けて照射する光源と、可動ステージに対向して設けられた対物レンズと、対物レンズが結像した画像を電気信号に変換する光電変換素子と、焦点位置合わせマークの可動ステージ上の位置および被検査物となる半導体基板の厚さが登録され、可動ステージと対物レンズの位置関係を制御する制御装置を備えている。制御装置は、登録された焦点位置合わせマークを基準にして半導体基板の裏面側の焦点位置合わせを行い、登録された半導体基板の厚さを基準にして半導体基板の表面側の焦点位置合わせを行う。 (もっと読む)


【課題】さらに付加的な情報の取得が可能で、かつ堅牢な装置構造と高度な測定精度とを有する光干渉測定技術の提供。
【解決手段】光干渉測定装置は、光源1からの出発ビーム2を測定ビーム3と第1の参照ビーム4aとに分割するビームスプリッタ5aと、光の重ね合わせ手段と、第1の検出器8aとを備える。重ね合わせ手段と第1の検出器8aとは互いに連携する。物体7によって反射された測定ビームと第1の参照ビームとが第1の検出器の検出面で重ね合わされる。ビームスプリッタ5aは、出発ビーム2を測定ビーム3と、第1の参照ビーム4aと、少なくとも第2の参照ビーム4bとに分割する。重ね合わせ手段と互いに連係する第2の検出器8bが備えられ、物体7によって散乱させられた第1の受信ビーム4b’としての測定ビームと第2の参照ビーム4bとが第2の検出器8bの検出面で重ね合わされる。 (もっと読む)


【課題】毛髪表面の断面形状(表面輪郭形状)、毛髪表面の段差を高精度に測定できる形状測定装置の実現。
【解決手段】測定すべき毛髪に向けて走査ビームを投射する対物レンズ13を含み、毛髪からの反射光を受光して毛髪表面の共焦点画像を撮像する共焦撮像装置と、複数の毛髪を、その長手軸線方向であるX軸方向に支持すると共にX軸と直交するY軸方向そって所定の間隔で整列支持する毛髪支持手段15と、X軸方向及びY軸方向に移動可能で、前記毛髪支持手段を支持するステージ14とその駆動手段と、対物レンズとステージとの間の相対距離を変化させる手段16と、共焦点撮像装置から出力される画像信号に基づき、毛髪表面の断面画像情報及び/又は毛髪表面に存在する段差の大きさを示す段差情報を出力する信号処理装置10とを有する。ステージは、測定される毛髪の本数及び測定点の座標情報に基づき、ジグザグ状に設定された移動経路に沿って移動する。 (もっと読む)


【課題】画像の領域の大きさを使用者の操作精度によらず容易かつ均一に得ることが可能な画像処理装置および画像処理プログラムを提供する。
【解決手段】画像データに基づく初期画像IMにおいて抽出される領域A4が表示部260の画像表示領域261に表示される。表示された領域A4に外接する外接矩形Pが作成される。作成された外接矩形Pが表示部260の画像表示領域261に表示されるとともに、作成された外接矩形Pの予め定められた部分の寸法または面積を示す特徴量が算出される。使用者は、入力装置を用いて表示部260の画像表示領域261に表示された外接図形Pを回転させることができる。 (もっと読む)


【課題】所望の計測部分の幾何的な物理量を選択的にかつ容易に取得することが可能な画像処理装置および画像処理プログラムを提供する。
【解決手段】対象物画像データに基づいて対象物画像OIが表示されるとともに、指定画像データに基づいて対象物画像の特定部分に対応する計測部分指定画像AIが表示される。使用者による操作部の操作により、表示される計測部分指定画像AIが対象物画像OIに相対的に移動される。計測部分指定画像AIが対象物画像OIの特定部分に移動された場合、その特定部分に対応するように予め設定された計測対象物の計測部分の物理量が計測される。 (もっと読む)


【課題】画像から所望の領域を容易に抽出可能な画像処理装置および画像処理プログラムを提供する。
【解決手段】画像データに基づく初期画像IMが表示部260に表示される。使用者が初期画像IMにおいて抽出すべき領域を含む抽出範囲を指定することにより、抽出範囲内で設定された抽出条件に基づいて一または複数の領域が抽出される。抽出された一または複数の領域から、領域に関する特徴情報に基づいて特徴領域が選択される。選択された特徴領域が抽出領域として決定される。使用者が初期画像IMにおいて抽出すべき他の領域を含む抽出範囲を指定することにより、抽出範囲内で設定された抽出条件に基づいて一または複数の領域が抽出される。抽出された一または複数の領域から、領域に関する特徴情報に基づいて特徴領域が選択される。選択された特徴領域は、既に決定された抽出領域に加えられる。 (もっと読む)


【課題】複数の視野に分割された対象を高精度に測定することができるマシンビジョン検査システムおよびその位置測定結果の決定方法を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システムは、第1動作状態においてスケールベースの測定により第1対象FE1の位置を測定する。第2動作状態では、第1対象から第2対象に至る途中で重複画像CIA〜CICを撮影し、画像相関を利用して重複画像CIA〜CICの相互の画像変位を測定し、第1対象の位置と画像変位のセットとを合わせて第2対象FE2の位置を測定する。 (もっと読む)


【課題】点状対象物の3次元位置決め用の顕微鏡装置と顕微鏡法を提供する。
【解決手段】顕微鏡装置には、点状対象物を、焦点配光40、40’の形態で2つの別個の画像空間に結像する2つの結像光学系26、26’と、且つそれぞれの画像空間で配置された検出面27、27’の検出点にて、分析可能な光点を捕捉する2つの検出ユニット28、28’と、2つの検出面27、27’の検出点を相互にペアで対応させ、且つ2つの光点を分析することによって点状対象物の横方向x−y位置および軸方向z位置を確認する評価ユニットと、が含まれる。2つの結像光学系には、それぞれの検出ユニットの検出面に垂直な検出軸に対して、それぞれの焦点配光を斜めに向ける光学手段が含まれる。2つの焦点配光の傾斜が相互に反対であることにより、点状対象物のz位置の変化に応じて2つの光点が、反対方向にシフトする。 (もっと読む)


【課題】ユーザにとっての利便性により優れた情報処理装置及び情報処理方法を提供すること。
【解決手段】本技術に係る第1の側面である情報処理システムは、1つの検体を同一方向に切断することによって得られた複数の切片が離散的に載置されたスライドを撮影して得た画像データを取得する取得部と、前記取得された画像データにおける個々の前記切片を含む同一形状の複数の検体領域を検出して、個々の前記検体領域それぞれの前記画像データの座標空間における位置を相対的に示す位置情報を算出する検出部と、前記算出された位置情報を記憶する第1の記憶部と、前記記憶された位置情報をもとに前記検体領域間での表示の切り替えを行う制御部とを具備する。 (もっと読む)


【課題】被計測物が様々な屈折率で、かつ様々な厚さの透明媒質の下に配置されていても、その被計測物の高さを容易に計測する。
【解決手段】高さ計測装置1は、照明光から分岐された第1照明光を被計測物6に導く対物レンズ24と、照明光から分岐された第2照明光を参照ミラー28に導く対物レンズ26と、第2照明光の光路長を調整する移動部36と、被計測物6及び参照ミラー28で反射される2つの照明光の干渉像を撮像する高速度カメラ12と、対物レンズ24と被計測物6とを光軸方向に相対移動するピエゾ駆動装置18と、を備える。 (もっと読む)


【課題】光学素子の欠陥を簡便に発見、測定することのできる欠陥計測方法を提供する。
【解決手段】第一の観点に係る欠陥計測方法は、測定対象に光源から光を照射し、収束光にして測定対象に入射し、測定対象又は光源を、収束光の焦点が測定対象の一方の面から他方の面に至るまで移動させ、測定対象の一方の面と測定対象中に存在した欠陥との間の距離を計測し、距離に測定対象の屈折率を乗じた値を求め、一方の面からの前記欠陥の深さを計算する。 (もっと読む)


【課題】カメラに取り付けられた画像センサのチルトを求めるための、改善された方法を提供する。
【解決手段】カメラ12における画像センサ10表面の、カメラ12のレンズ基準面26に対するチルトを求めるための方法であり、画像センサ10に光を送るステップと、画像センサ10から反射した光を受けるステップと、反射光における干渉パターンを特定するステップと、干渉パターンの特徴を特定するステップと、干渉パターンにおいて特定された特徴の位置に基づいて画像センサ10表面のチルトを求めるステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】抗菌剤の抗菌性能の評価に要する時間および費用を低減する。抗菌剤の抗菌性能の評価において、細菌培養を行うことなく間接的な方法によって簡易な評価方法を提供する。さまざまな形状の抗菌加工品の各部位の抗菌性能を評価する方法を提供する。
【解決手段】本願発明の抗菌の抗菌性能の評価方法は、抗菌剤の少なくとも一部が表面から露出してなる抗菌加工品の抗菌性能を評価する評価方法であり、抗菌加工品の表面上に設定した関心領域の画像を取得し、関心領域において表面から露出する抗菌剤の露出の程度を表す露出率を画像から求め、予め求めておいた露出率と抗菌加工品の抗菌性能との相関関係に基づいて、画像から求めた露出率に対応する抗菌性能を求め、求めた抗菌性能によって抗菌加工品の抗菌性能を評価する。 (もっと読む)


【課題】欠陥座標に含まれている誤差を低減可能な光学式検査装置を提供する。
【解決手段】チャンネルが配列されたラインセンサと、ウエハをステージに載せてラインセンサに対して移動させる移動手段と、行列の行毎に1つ且つ列毎に1つ擬似欠陥ダイが形成され擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が列方向に一列に形成されている座標管理用ウエハを検査したのを受けてチャンネル上に結像した擬似欠陥のステージ上の位置を擬似欠陥ステージ座標Xs0として検出するステージ位置検出手段と、擬似欠陥ステージ座標Xs0を擬似欠陥ダイ座標に変換する座標変換手段と、設計座標に対する擬似欠陥ダイ座標の差分ΔXを算出する差分算出手段と、擬似欠陥ステージ座標Xs0に対して差分ΔXが一定の振幅A1で振動し直線L1に沿って増加又は減少する座標誤差特性パターンCP1を取得する特性パターン取得手段とを有する。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成を採用しつつ検出光量ムラの発生を抑制可能とした走査型検出測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の走査型検出測定装置は、レーザ光を射出する発光素子と、発光素子から供給されるレーザ光を走査しつつ標本に照射する走査光学系と、標本から生じる光を検出する検出光学系と、発光素子と走査光学系との間に設けられレーザ光の一部を発光素子に向けて反射させる反射光学素子と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


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