【課題】ノイズの少ない方法で、容易には測定できない位相特性を測定し、また、振幅特性を強調された方法で
測定する。
【解決手段】振幅及び位相を有する分析対象波面に対して、フーリエ変換処理を行い、該分析対象波面に対応する複数の異なる位相変化された変換波面を取得し、該複数の位相変化された変換波面の複数の強度マップを取得し、該複数の強度マップを用いて該分析対象の三次元画像形成波面の振幅及び位相を表示する出力を取得する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された凹部の形状を、非破壊、非接触にて検査する技術を提供する。
【解決手段】基板検査装置１００は貫通ビアＷＨ（凹部）が形成されている基板Ｗを検査する。基板検査装置１００は、ポンプ光の照射に応じて、基板Ｗに向けてテラヘルツ波を照射する照射部１２と、プローブ光の照射に応じて、基板Ｗを透過したテラヘルツ波の電場強度を検出する検出部１３と、テラヘルツ波が基板Ｗの貫通ビア形成領域を透過する透過時間と平坦領域を透過する透過時間との時間差を取得する時間差取得部２４と、該時間差に基づいて貫通ビアＷＨの深度を算出するビア深度算出部２６とを備える。また、基板検査装置１００は、ビア深度算出部２６により算出した貫通ビアＷＨの算出深度と、干渉法を利用する深度測定装置１６によって測定した貫通ビアＷＨの実測深度とに基づいて、貫通ビアＷＨの形状を示す形状指標値を取得する形状指標取得部２７を備える。 （もっと読む）

【課題】デバイスが形成されている半導体基板の全面について厚さムラを短時間で検査することができる検査装置を実現する。
【解決手段】本発明による検査装置は、半導体基板（７）のデバイス形成面とは反対側の裏面（７ａ）に向けて、前記半導体基板に対して半透明な照明光を照射する照明手段（１，２，３）と、半導体基板の裏面に入射し、デバイス構造面（７ｂ）で反射し、前記裏面側から出射した照明光を受光する撮像手段（１５）と、 撮像手段からの出力信号を用いて厚さムラを検出する信号処理装置（２０）とを具える。信号処理装置は、前記撮像手段からの出力信号を用いて、半導体基板に形成されているデバイスの半導体基板の裏面側から撮像した２次元画像を形成する手段（２１）と、撮像されたデバイスの２次元画像と基準画像とを比較し、画像比較の結果に基づいて前記半導体基板の厚さムラを検出する厚さムラ検出手段（２２，２３，２４）とを有する。 （もっと読む）

【課題】ライン状（線状）の撮像領域を用いて移動する計測対象物の撮像を行う際にも、高輝度な照明光を用いることなく明るい画像を取得することが可能な三次元形状計測装置を提供する。
【解決手段】この表面実装機１００は、各々がＸ１方向に並べられるとともにＸ１方向と直交するＹ２方向にライン状に延びるライン状撮像領域６３ａ〜６３ｆを含み、部品１２０を撮像する二次元イメージセンサ６３と、二次元イメージセンサ６３に対してＸ１方向に相対的に移動する部品１２０に向けて正弦波状の光強度分布を有するパターン光Ｇを投影する照明部６１と、二次元イメージセンサ６３が、ライン状撮像領域６３ａ〜６３ｆを用いて部品１２０の領域Ｐ１を順次撮像する場合に、領域Ｐ１の画像信号を、投影されたパターン光Ｇが有する周期Ｌの２分の１の積分範囲ｄで積算する制御を行う撮像制御部７３とを備える。 （もっと読む）

【課題】高空間分解能で且つ高周波数分解能を有する分布型光ファイバセンサを提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、空間分解能に基づく第１パルス光ｆ_１と周波数分解能の逆数に基づく第２パルス光ｆ_２とを位相差θを設けて合成した検査光ｆを光ファイバ１２の一端部１２ａに射出する検査光生成部２６，２７と、一端部１２ａから射出されるブリルアン散乱現象に係る光からスペクトルＶを検出する検出部３０と、ブリルアン周波数シフト量を計測する計測部４０と、を備え、検査光生成部２６，２７は、位相差θが異なる複数の検査光ｆを生成し、検出部３０は、ブリルアン散乱現象に係る光から各検査光ｆに対応するスペクトルＶをそれぞれ求める検波部３１と、スペクトルＶ同士を合成する合成部３６と、を有し、計測部４０は、合成スペクトルＶ_Ｓに基づいて前記周波数シフト量を計測することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査感度を向上させることができるパターン検査装置を提供する。
【解決手段】第１の検出データと前記第１の遅延データとから解像限界以下のパターンのデータを抽出する第１の抽出部３３と、前記抽出された第１の検出データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の検出データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第１の出力変位演算部３４ａと、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第２の出力変位演算部３４ｂと、前記第１及び第２の出力変位演算部による演算結果に基づいて、パターン欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】第１表面に対向する第２表面による反射像の影響を受けずに被評価物体の表面形状を精度よく評価することができるようにする。
【解決手段】評価装置は、評価対象である板ガラスなどの被評価物体３の表面３ａに映し出されたストライプパターン１を、ＣＣＤカメラ２によって撮像するように構成されている。ストライプパターン１は、光源の発光面に設けられている。また、被評価物体３の裏面３ｂには、屈折率が被評価物体３の屈折率に近い反射抑制層２０が、裏面３ｂに接するように配置されている。ＣＣＤカメラ２によって撮像された画像は、演算装置としてのコンピュータ４に取り込まれ、コンピュータ４によって画像解析が行われる。 （もっと読む）

【課題】 スキップ信号が読み込まれない場合であっても、工具の移動を確実に停止させることができる工具長測定方法及び工具測定装置を提供する。
【解決手段】 工具を４所定位置から所定方向に移動させて、前記工具４によりレーザー光６を遮光したときの、前記工具４の前記所定位置からの移動量に基づいて前記工具の長さを測定する工具長測定方法において、前記工具４がレーザー光６を遮光していることを示すスターティック信号Ｂが検知されたとき、前記工具４のレーザー装置本体５へ接近する方向への移動を停止する。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置では検出倍率を上げて微細欠陥検出感度を向上させるため、焦点深
度が浅くなり、環境変動によって結像位置がずれ、欠陥検出感度が不安定になる課題があ
る。
【解決手段】被検査基板を搭載して所定方向に走査するＸＹステージと、被検査基板上の
欠陥を斜めから照明し、その欠陥を上方に配した検出光学系で検出する方式で、この結像
状態を最良の状態に保つために、温度及び気圧の変化に対して、結像位置変化を補正する
機構を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】塗工パターンの幅方向および搬送方向の測定の同時性を実現し、光軸方向の距離変動の影響も無くすことができる塗工パターンの測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】 シートに塗工された塗工パターンの形状測定方法において、
1）シートの搬送方向に直交して水平ラインの撮影方向に複数のカメラを並べ、前記シートを前記複数のカメラで撮影する工程、
2）撮影した映像の水平走査信号または垂直走査信号の少なくとも一方を水平走査に同期させ前記複数のカメラの水平走査信号を順次切り替えて画像処理手段に取り込む工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高精度な変位測定装置を提供する。
【解決手段】移動物体１０２の変位量を測定する変位測定装置１００であって、
発光領域１０１から発せられた光束で移動物体１０２を照射する光源と、移動物体１０２の移動方向において複数の受光領域を備え、移動物体１０２の凹面１０３により反射された光束を結像させて受光するフォトダイオードアレイ１０４、１０５と、光束を結像させてフォトダイオードアレイ１０４、１０５に形成された発光領域像１０６の移動量から、移動物体１０２の変位量を測定する測定手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】 連続移動する測定対象物の三次元形状を、位相シフト法により高速に測定すると共に、垂直解像度や深度を柔軟に設定できる構成とする。
【解決手段】
被測定対象物に対して斜め上方から、投影方向に沿って光の強度が正弦波状に変化する格子縞を投影する格子縞投影器１と、鉛直上方に位置しエリアセンサ６を備えたカメラ２と、被測定対象物を一定方向へ移動させるステージ３とを備え、格子縞は位相が互いにπ／２ずつシフトした４つの帯状領域に分かれており、エリアセンサ６上の各帯状領域につき一本の水平ライン、計４本から画像を読出し、位相シフト法の原理を用いて位相を算出して高さに変換し、被測定対象物の三次元形状を測定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトマスクの特性を検出することができるフォトマスクの特性検出装置およびフォトマスクの特性検出方法を提供する。
【解決手段】被検出体に形成されたパターンの光学像に基づいて検出データを作成する検出データ作成部と、前記パターンに関する参照データを作成する参照データ作成部と、特性の検出対象となるパターンに対応する参照パターンと、前記参照パターンの位置情報と、を前記参照データから抽出する抽出部と、前記参照パターンに基づいて特性を検出する領域を設定するとともに、前記位置情報に基づいて前記検出データから前記特性の検出対象となるパターンを抽出する第１の領域設定部と、前記特性を検出する領域における前記特性の検出対象となるパターンの特性を受光面上に結像された光学像を光電変換することで検出する検出部と、前記検出された特性を集計する集計部と、を備えたことを特徴とするフォトマスクの特性検出装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】測定に要する時間の増加を招くことなく、被測定物の測定対象に対する光学的な設定の異なる複数の測定データを得ることのできる測定装置を提供する。
【解決手段】撮像素子１７からのライン反射光Ｒｌの取得データに基づいて被測定物の表面形状を計測する測定装置１０である。ライン反射光Ｒｌを撮像素子１７の受光面に結像させる複数の結像光学系（３３、３４）と、ライン反射光Ｒｌを分岐して各結像光学系へと導く光束分岐機構３２とを備え、各結像光学系は、被測定物の測定対象に対する光学的な設定が互いに異なるものとされ、撮像素子１７は、受光面上において複数のセグメントが設定されているとともに各セグメントが複数の領域に区画され、各セグメントにおける少なくとも１つ以上の領域を受光領域とし、各結像光学系は、分岐されたライン反射光Ｒｌを撮像素子１７の受光面において互いに異なるセグメントの受光領域へと結像させる。 （もっと読む）

【課題】光学定位装置の設置が簡単で、使用が容易となる光学定位装置及びその定位方法の提供。
【解決手段】光学定位装置は、被測定装置６の空間中における第一軸方向、第二軸方向、第三軸方向の座標位置を定位し、メインフレーム２、校正装置４を備え、メインフレーム２上には第一、第二光学感知ユニット８、１０、処理ユニット１４を設置し、光学定位方法は、第一、第二光学感知ユニット８、１０は第一距離を隔て、第一、第二光学感知ユニット８、１０は、校正装置４をそれぞれ感知し、処理ユニット１４は、校正ステップを執行し、第一、第二光学感知ユニット８、１０は、被測定装置６をそれぞれ感知し、処理ユニット１４は定位ステップを執行し、これにより、光学定位装置は、固定距離を隔てる第一、第二光学感知ユニット８、１０を使用し、校正装置４を経て校正後、視差原理を使用して、被測定装置６の座標を計算し、被測定装置６を定位する。 （もっと読む）

【課題】共焦点顕微鏡はニポウディスクを回転することによって、光が撮像面をスキャンするが、得られる画像はニポウディスクの回転速度とカメラのフレームレート（シャッタースピードはフレームレートと同じと仮定）により、異なるものとなる。例えば、ニポウディスク１回転で４枚の画像か得られる場合に、ニポウディスクなどの光学素子の特性が、回転している位置によって異なると、輝度が不定期に変化するフリッカとして現れる。
【解決手段】高さ測定部に１垂直同期信号毎に時間差を持ったフレームバッファを複数段設け、それぞれの画像の画素毎に平均を行い、その平均画像を用いて、高さ測定を行う。なお、好ましくは、フレームバッファの段数はニポウデイスクが１回転分の映像枚数である。 （もっと読む）

【課題】基準画像または比較画像の出力に対して遅れることなく、対象物までの距離を基準画像および比較画像からリアルタイムで求めることができる撮像装置を提供する。
【解決手段】マッチング処理部４０は、２つの各撮像部から順次入力される第１および第２の画素データ間の差分を合計した差分積算値を入力ラインごとに算出する第１の処理部４４０と、２つの各撮像部からｎライン遅延して順次入力される第１および第２の画素データ間の差分を合計した差分積算値を入力ラインごとに算出する第２の処理部４５０と、第１のライン処理部４４０で求めた積算値を垂直方向に積算した値から第２のライン処理部４５０で求めた積算値を垂直方向に積算した値を引いたＳＡＤを求める差分絶対値和算出部４６０とを備え、ＳＡＤに基づいて基準画像中の照合エリアに対応する対象エリアを求める。 （もっと読む）

【課題】画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】第１の方向に沿って第１の画素ピッチで配列した複数の第１の画素を有し、被検査体の光学像の第１の画像データを出力する第１のセンサと、第１の方向と略直交する第２の方向に並列して設けられ、第１の方向に沿って第１の画素ピッチで配列し且つ第１の方向において第１の画素位置から第１の画素ピッチの１／Ｎ（Ｎは１以上の整数）だけずれた位置に配置された複数の第２の画素を有し、被検査体の光学像の第２の画像データを出力する第２のセンサと、第１の画像データ及び第２の画像データに基づいて被検査体の欠陥を検出する欠陥検出部と、を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】エンコーダステージ位置測定の正確なキャリブレーションを実現する。
【解決手段】ステージのエンコーダ位置測定システムをキャリブレーションするためのキャリブレーション方法において、エンコーダ位置測定システムが、エンコーダ格子、ならびにエンコーダ格子と協働する、水平および垂直方向の位置感度を示すセンサヘッド出力信号をそれぞれがもたらす少なくとも２つのセンサヘッドを含む方法であって、ａ）センサヘッドがエンコーダ格子に対して、またはその逆に移動されるように、ステージを移動させること、ｂ）移動させることの間に、２つのセンサヘッドによって、エンコーダ格子に対するステージの位置を測定すること、ｃ）２つのセンサヘッドのセンサヘッド出力信号から垂直位置データマップを求めること、ｄ）垂直位置データマップから水平位置データマップを計算すること、およびｅ）計算された水平位置データマップを利用することによって、エンコーダ位置測定システムをキャリブレーションすることを含む方法。 （もっと読む）

【課題】複数の測定対象物の測定が可能な変位センサを提供すること。
【解決手段】コントローラ１０は、トリガが発生する毎に、サンプルトリガ蓄積数分の測定データを第１の記憶回路１３に記憶するとともにデータアドレスをカウントアップする。トリガ発生毎に測定データを第１の記憶回路１３に記憶することで、複数の測定対象物の高さの測定が可能となる。データアドレスはトリガの発生回数に対応する。従って、データアドレスに基づいてトリガの発生回数、即ち測定対象物の数をカウントすることが可能となる。 （もっと読む）