【課題】光干渉信号出力をセンサ信号とするセンサには、構成が簡単で、センサ部分の無電源化が可能なホモダイン干渉方式があるが、安定な動作を得るには、使用部品に対し厳しい工作精度と熱膨張対策が必要であると共に、センサ信号として変動できる位相範囲は±９０度以内に限られていた。
【解決手段】干渉計の入力を周期性光パルスとし、参照光パルスの前半と後半で位相を９０度（直交位相）異なる位相とし、計測光パルスと干渉させることにより、９０度異なる２つの干渉出力値ｉ１、ｉ２を得て、その参照光と計測光の値ｒ、ｓとから、参照光と計測光の位相差をθとして、２つの余弦値ｃｏｓθ１、ｃｏｓθ２を算出して余弦曲線上に位置を定め、その角度θ１、θ２を求めることによって、干渉光の強度変動、位相動作点変動の影響を除外するとともに、１周期前との角度の差分を積算して、センサ出力とすることにより、センサ信号として変動できる位相範囲が、±９０度（半波長）を超えることを許容する光ファイバセンサを提供する。 （もっと読む）

【課題】小型化の３次元形状データ取得装置の光学測定ヘッドを提供する。
【解決手段】投射光学系および撮像光学系は、プリズム型偏光ビームスプリッタ１４と、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７と、プリズム型偏光ビームスプリッタ１４とワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７との間に配置される結像光学系１５とを有し、ＭＥＭＳ１３と撮像手段１６は、互いにプリズム型偏光ビームスプリッタ１４の偏光分離面を挟み互いに交差する方向に配置され、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７は、ＭＥＭＳ１３から出射され結像光学系１５を透過した光を透過し、ミラー１８により被測定物表面に投射され被測定物表面で反射された光は、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７の偏光分離面で結像光学系１５に向けて反射させる構成とし、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７の偏光分離面と、ミラー１８の反射面とは互いに非平行とした。 （もっと読む）

【課題】回折格子を用いて計測を行う際に、相対位置を予め定められた相対位置からの絶対位置として容易に計測する。
【解決手段】エンコーダ１０Ｘは、第１部材６に設けられ、格子パターン１２Ｘａ及び基準パターン１３ＸＡが形成された回折格子１２Ｘと、計測光ＭＸ１，ＭＸ２を供給するレーザ光源１６と、第２部材７に設けられ、計測光ＭＸ１，ＭＸ２を格子パターン面１２Ｘｂにθｙ方向（Ｘ方向）に対称な角度で傾斜させて入射させる傾斜ミラー３２Ｘ，３４Ｘと、計測光ＭＸ１，ＭＸ２の回折格子１２Ｘによる回折光ＤＸ２，ＥＸ２を受光する光電センサ４０ＸＡ，４０ＸＢと、を有する。 （もっと読む）

【課題】帯状体の走行を継続させながら省スペースでメンテナンスを行うことができるエッジ位置検出装置を提供する。
【解決手段】帯状体１０の一方の面側に、直線偏光を投射する投光器２と偏光フィルタを介して光を受光する受光器４とを配置し、帯状体１０の他方の面側に、投光器２から投射される直線偏光が入射され、入射された直線偏光の偏光方向を偏光フィルタの透過軸に一致する方向に変化させて反射する偏光反射板３を配置する。そして、受光器４の各受光素子で得られた受光量が帯状体１０の幅方向でする位置を検出し、その位置を帯状体１０のエッジ位置として検出する。 （もっと読む）

【課題】 エンコーダで位置を計測しつつ、移動体を所望の方向へ精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動装置により、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するエンコーダ６２Ａの計測値とそのエンコーダによって計測されるスケール３９Ｙ₁の平面度に関する情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。この場合、駆動装置は、そのエンコーダの計測値に含まれるスケールの平面度に起因する計測誤差をスケールの平面度に関する情報に基づいて補正した補正後の計測値に基づいて、ウエハステージを所定方向に駆動することが可能である。従って、スケールの凹凸に影響を受けることなく、エンコーダを用いてウエハステージを精度良く所定方向に駆動することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に被検面の形状を計測することが可能な計測装置を提供すること
【解決手段】計測装置は、光コム光源１０１から射出された光束を、被検光束と参照光束に分割するＰＢＳ１５と、前記参照光束と前記被検光束の光路長差を変化させる遅延素子９と、前記被検光束と前記参照光束が干渉して形成する干渉縞を撮像する撮像素子２４と、遅延素子が光路長差を変化させて撮像された干渉縞の信号に基づいて被検面２３の位置を算出する解析器２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】太陽光などの投光波長以外の光を極限まで制限して、投光波長のみを受光できるようにする。
【解決手段】干渉膜を使った平面板の干渉フィルタを用いて広い視野の検出手段を構成すると、平面板の干渉フィルタへの入射角に応じて透過帯域の移動が起こり、所望の信号強度を得ることが困難となる。この発明は、干渉フィルタの形状を球面状にして全視野の受光光線を干渉フィルタの入射面に対して垂直に入射するようにして、透過帯の移動をなくし、所望の信号強度を得るようにした。また、受光レンズの第一主点と球面状干渉フィルタの球面中心とを一致させて配置することにより、干渉フィルタへ入射する反射光の入射角を０°にして透過帯域が変化しないようにした。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い横座標の校正方法によって横座標を校正する形状計測装置、及びその横座標校正方法を提供する。
【解決手段】複数の開口が形成され、これら複数の開口の配列によって校正パターンを形成するアパーチャー板２０をワークＷの被検面Ｗｓの前面に配置する。この開口を通過すると共に、被検面Ｗｓで反射され、再度開口を通過した測定光Ｌｍを撮像素子５によって検出する。撮像素子上にて結像した校正パターンの横座標位置と、予め計測されている校正パターンの基準横座標位置とを、演算装置７によって比較することによって、形状計測装置１の横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】小型化可能で高精度な形状測定が可能な光学式測定装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源２０１が出力したビーム状の測定用光２１６は第２円錐ミラー２０７によって放射状の測定用光に変換され、ケース１０１の第２開口部１０２を通って出力された後、測定対象物２２０で反射され、第１開口部１０３を通ってケース１０１内へ入り、第１円錐ミラー２０９によって反射された後、受光レンズ２１３を介して光検出素子２１４で検出される。処理部２４０は、光検出素子２１４で検出された測定用光に基づいて測定対象物の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備え、分機器８０は測定ビームＢ１と参照ビームＢ２の光量比を連続的に変化させて調整する調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】計測装置の測長軸の調整を不要とし、簡便な取り付け及び光学素子の汚染防止の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置であって、光源からの光を分割させる光分割素子と、前記参照面、前記被検面及び前記光分割素子を内部に収納すると共に、前記内部において前記参照面及び前記光分割素子を固定するハウジングと、前記ハウジングの外部に設けられ、前記光分割素子から前記参照面までの第１の光路長と前記光分割素子から前記被検面までの第２の光路長とが等しくなるときの前記被検面の位置を示す測長基点を表示する第１の表示部と、前記ハウジングの外部に設けられ、前記第２の光の光路に平行な軸を示す測長軸を表示する第２の表示部と、前記参照面と前記被検面からの反射光との干渉信号から前記参照面と前記被検面との間の距離を算出する処理部と、を有することを特徴とする計測装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】内径の異なる種々の穴形状を精度良く測定できる測定装置を提供すること。
【解決手段】被測定領域の少なくとも一部の面の法線方向とは異なる方向から前記被測定領域に照明光を照射することで被測定領域に帯状の照明領域を形成する照明系と、前記照明系による照射方向と前記帯状の照明領域における長手方向等を含む面からはずれた位置から照明領域の散乱光を受光する受光系と、受光系の受光結果に基づいて被検面の形状を算出する演算部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡素化を図りつつ、対象物を短時間で高精度に検査することができる。
【解決手段】撮像手段１１と対象物Ｔとの間に光軸Ｏに交差する方向に向けて光線Ｌを放射する光源１２と、光源１２から放射された光線Ｌを撮像手段１１の光軸Ｏ方向に沿って対象物Ｔ側に向けて反射するハーフミラー１３と、ハーフミラー１３と対象物Ｔとの間に光軸Ｏと同軸に配置され、外周面１４ａにハーフミラー１３により反射された光線Ｌが入射する円錐状または円錐台状の内ミラー部材１４と、内ミラー部材１４よりも大径の円錐台状の孔部１５が光軸Ｏと同軸に貫設され、孔部１５の内周面１５ａに内ミラー部材１４の外周面１４ａにより反射された光線Ｌが入射する外ミラー部材１６とを備え、外ミラー部材１６は、内ミラー部材１４の外周面１４ａから孔部１５の内周面１５ａに入射した光線Ｌを、対象物Ｔの外周面Ｔ１に垂直に入射するように反射する検査装置１０を提供する。 （もっと読む）

【課題】試料表面の変位量が大きくても、フェーズラッピングの問題が生ずることなく、試料の微細な表面形状を高分解能で測定できる形状測定装置を実現する。
【解決手段】白色光源から出射した照明光は、入射光をシャーリングする第１の光路と入射光に対して可変光路長ないし可変位相量を導入してフリンジスキャンを行う第２の光路とを有する干渉光学系及び対物レンズを経て試料に入射する。試料上には、シャーリングされた参照ビームにより形成される第１の照明領域とフリンジスキャンされた測定ビームにより形成される第２の照明領域が形成される。第１及び第２の照明領域から出射した反射光は、対物レンズ及び干渉光学系を介して２次元撮像装置に入射し、２つの照明領域の画像が合成された干渉画像が形成される。フリンジスキャンにより、２つの画像を構成する反射光間に白色干渉が発生し、干渉信号を検出することで、試料の形状又は孔の深さが測定される。 （もっと読む）

【課題】従来の干渉計に比べて高精度な移動体の位置情報の計測を可能にする。
【解決手段】露光装置は、基板を保持して、ＸＹ平面内で移動し、ＸＹ平面に交差する反射面１３４を有するステージＷＳＴと、計測装置２０Ｙ’とを備えている。計測装置は、ステージＷＳＴの上方に配置され反射面１３４を介して入射した光ビームを回折させて反射面１３４に戻す固定スケール１３５と、反射面１３４に戻された光ビームを検出する検出部（１２４Ａ、１２４Ｂ、１２６、２８）と、を有する。計測装置は、固定スケール１３５からの戻りビームを、再度反射面１３４を経由させることで得られる前記光ビームの複数の回折ビームの干渉光を前記検出部で検出することで、ステージＷＳＴのＹ軸方向の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】被検物（例えば、基板の裏面と表面とに形成されたマーク）の位置を高精度に検出することができる技術を提供する。
【解決手段】被検体の位置を検出する検出装置であって、前記被検体を第１波長帯域及び前記第１波長帯域とは異なる第２波長帯域を含む光で照明する照明系と、前記被検体からの光により前記被検体の像を形成する結像系と、前記被検体の像を撮像する撮像素子と、前記照明系又は前記結像系の光路における前記第１波長帯域の光に対する透過率と前記第２波長帯域の光に対する透過率とを異ならせることで、前記撮像素子で撮像される前記被検体の像を形成する前記第１波長帯域の光の強度と前記撮像素子で撮像される前記被検体の像を形成する前記第２波長帯域の光の強度との強度差を低減する光学部材と、を有することを特徴とする検出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】測定範囲および測定精度を調整・変更可能なプローブを備えた形状測定装置を提供する。
【解決手段】ワークに直線状の光を照射する光照射部と、光照射部から照射された光のワークからの反射光を撮像する撮像素子３２と、ワークからの反射光を撮像素子３２の撮像面に結像させる結像レンズ３１と、を備え、光照射部の光照射面と、結像レンズ３１の主点を含む主平面と、撮像素子３２の撮像面とが、シャインプルーフの条件を満たした形状測定装置であって、撮像素子３２の撮像面を複数の領域（Ｓ１〜Ｓ３）に分割し、測定精度及び／又は測定範囲の大きさに応じて、複数の領域から測定に利用する領域を画像取得領域として選択する制御部１０を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸法で露光を行う露光装置の液体に接する部分に異常があるかどうかを効率的に判定する。
【解決手段】露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液体１とを介して基板Ｐを露光する露光方法において、液体１に接する接液部を光学的に観察し、得られる第１画像データを記憶する第１工程と、接液部の液体１との接触後、例えば液浸露光後に接液部を光学的に観察して第２画像データを得る第２工程と、第１画像データと第２画像データとを比較して、その観察対象部の異常の有無を判定する第３工程とを有する。 （もっと読む）