【課題】構造物表面に存在する凹凸構造の影響を極力回避し、構造物に生じた劣化箇所をより高い精度で透視する。
【解決手段】ミリ波帯の電磁波イメージングシステムであって、構造物表面の画像を撮像する画像撮像装置と、撮像した画像から構造物表面の凹凸の程度を分析する分析装置と、分析装置が分析した凹凸の程度に応じてミリ波帯の電磁波の周波数を特定する制御手段と、 ミリ波帯の電磁波を構造物に照射する電磁波発生装置と、ミリ波帯の電磁波の反射波を検知する１次元検波器アレイと、移動距離を計測する距離センサと、前記１次元検波器アレイが検出した反射波の強度を数値化する計測装置２と、距離センサが計測した移動距離と、前記計測装置が数値化した反射波強度とを対応付けた、構造物の透視イメージを表示する表示装置３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】サンプルと基準点との間の距離を測定する方法および装置を提供する。
【解決手段】検査されるサンプル（１２）と少なくとも基準点（１９，２１）との間の距離（Ｚ）を測定する方法は、信号をサンプル（１２）の第１の電位に変調し、一次粒子ビームをサンプル（１２）に供給し、二次粒子ビーム、および二次粒子ビームの粒子の第２の電位に変調信号を検出し、検出された変調信号を、基準信号と比較するという工程を有する。装置は、信号をサンプル（１２）の第１の電位に変調する変調ユニット（２２）と、サンプル（１２）に当たる一次粒子ビームを発生させるビーム発生器（２）と、二次粒子ビームの粒子と二次粒子ビームの粒子の第２の電位に変調された変調信号を検出する検出器（１９，２０，２１）と、検出された変調信号を基準信号と比較する評価ユニット（２５）とを有する。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭ装置等において、観察画像からパターンの配線幅などの各種寸法値を計測してパターン形状の評価を行うための撮像レシピを、ＣＡＤデータから変換されたＣＡＤ画像を用いた解析により自動生成して生成時間の短縮を図った撮像レシピ作成装置及びその方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡を用いて半導体パターンをＳＥＭ観察するための撮像レシピ作成装置において、ＣＡＤデータを基に画像に変換してＣＡＤ画像を作成するＣＰＵ（ＣＡＤ画像作成部）１２５１を、画像量子化幅決定処理部１２５１１と明度情報付与処理部１２５１２とパターン形状変形処理部１２５１３とで構成する。 （もっと読む）

【課題】実装済みプリント基板のように反りを有する測定対象の距離計測を行う場合においても、測定対象の全領域で高精度な寸法計測が可能なＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】測定対象物１０３にＸ線を照射して該測定対象物の透過Ｘ線を撮像する平坦な受光面のＸ線撮像手段１０４と、測定対象物１０３を平坦な受光面のＸ線撮像手段１０４に対して平行に移動させる移動手段１０５と、移動手段１０５の移動距離と受光面のＸ線撮像手段１０４での測定対象物１０３上の基準領域の撮像位置の移動距離を測定する移動距離測定手段と、前記移動距離測定手段にて測定される測定対象物の移動距離と、前記基準領域の透過画像の撮像位置の移動距離より、前記測定対象物の透過画像の単位画素ごとの撮像倍率を算出する撮影倍率算出手段とを備え、算出される単位画素ごとの撮像倍率を用いて前記透過画像の移動距離の距離補正を行い、前記測定対象物上の距離を求める。 （もっと読む）

【課題】電磁波を利用した高炉内原料レベル測定装置の校正を、高炉に装着したたまの状態で簡単に実施できるようにすること。
【解決手段】電磁波を発振部１から伝播管２を通して高炉Ｂ内に放射し、高炉内原料Ｃ上面からの反射波を受信することによって発振部１から高炉内原料Ｃ上面までの距離を測定する高炉内原料レベル測定装置Ａにおいて、伝播管２から高炉Ｂの途中の箇所であって、発振部１から測定不能距離Ｌ以上離れた位置に校正用反射板３ａを挿入・退避可能な機構を設ける。通常のレベル測定時には校正用反射板３ａを退避させておき、校正時に校正用反射板３ａを伝播管２から高炉Ｂの途中の箇所に挿入させて校正処理を行う。校正用反射板３ａとしては、スライド式ゲート弁３のゲート板を用いる。スライド式ゲート弁３の開閉操作は遠隔操作で行う。 （もっと読む）

【課題】計測されるべき対象物（２１０）をマイクロ波放射線を使用して計測する解決策を提供する。
【解決手段】フィードバック結合された能動ユニット（１００）によって発振エネルギを発生する。この解決策は、少なくとも一つの発振器で共振を発生することを含む。各発振器は、少なくとも一つの開放共振器（２００）を含み、各共振器は、計測されるべき対象物（２１０）を共振器の機能的部分として使用することによって、少なくとも一つの能動ユニット（１００）に連結され、計測されるべき対象物（２１０）により、計測されるべき対象物（２１０）の表面（２１２）の位置に応じた共振周波数を各発振器で発生する。計測部分（４２０）は、計測されるべき対象物（２１０）の少なくとも一つの特性を各発振器の共振周波数に基づいて決定する。 （もっと読む）

パターンを走査する為の装置および方法。方法は、（ｉ）第１走査路に沿ってパターンと相互作用する等の為に荷電粒子ビームを導くステップと、（ｉｉ）第２走査路に沿ってパターンと相互作用する等の為に荷電粒子ビームを導くステップと、を含む。ビームとの相互作用の結果、パターンは、その特性の一つを変える。第１走査路と第２走査路間の距離は、荷電粒子径より大きくてもよい。第１走査路と第２走査路の各々は、複数の連続したサンプルを含み、第１走査路と第２走査路との間の距離は、隣接したサンプル間の距離より大きくてもよい。走査路の位置は、測定間、特に、測定セッション間で変更してもよい。荷電粒子ビームの横断面は、楕円面でもよい。
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