説明

Fターム[2F067AA18]の内容

Fターム[2F067AA18]に分類される特許

1 - 3 / 3


【課題】半導体ウェハが大型化した場合における、検査装置における(1)ステージの加速・減速制御の複雑化、(2)スループット低下、(3)ステージ反転動作時のステージ支持台の振動増大(分解能劣化)等の問題を解決する。
【解決手段】ウェハ6を回転させ、回転するウェハ6に対して走査型電子顕微鏡1から電子ビームを照射し、ウェハ6から放出される2次電子9を検出する。検出された2次電子9は画像処理部において、AD変換16され、画像データ並べ替部17において並べかえられ、画像演算18されて表示される。これによってステージ4をX方向、Y方向に大きく移動することなく、ウェハ6の全ダイの画像情報を取得することが出来る。 (もっと読む)


【課題】装置構成の複雑化を抑制しつつ、断面平均測定方式を併用するとともに、厚肉管での測定精度の劣化を抑制する。
【解決手段】平行2ビーム測定方式にて管状材1の芯ぶれ量および肉厚を算出する場合、回転制御部24は、ライン状放射線源12から出射されたライン状放射線ビームBLが管状材1を斜めに横切るように線源容器11を回転させ、断面平均測定方式にて管状材1の肉厚を算出する場合、回転制御部24は、ライン状放射線源12から出射されたライン状放射線ビームBLが管状材1を垂直に横切るように線源容器11を回転させる。 (もっと読む)


【課題】 回転ステージの回転振れを測定するため、SEM等で拡大観察可能な測定円の描画を好適に行って回転同期振れRROの測定を高精度に行い、描画補償により描画真円度を高める。
【解決手段】 回転ステージ41に載置した基板11に偏向制御したビームEBを照射して所定パターンの露光を行う露光装置40において、回転ステージ41を回転させつつ基板11上の回転中心付近にビームEBを照射し、基板11上に全体がSEM等で拡大観察可能な小径の測定円5を描画し、該測定円5の計測より回転同期振れRROを測定し、実描画に反映する。 (もっと読む)


1 - 3 / 3