【課題】三次元物体の重心を決定する方法を提供する。
【解決手段】第一の方向付けで検査プラットフォームに物体を位置付けるステップ６１５、物体が第一の方向付けにあるときに第一の軸及び第二の軸に沿って重心の位置を決定するステップ６２０、第一の軸及び第二の軸に直交する第三の軸に対して物体を回転させるステップ６２５、物体が第二の方向付けにあるときに少なくとも第一の軸又は第二の軸に沿って重心の位置を決定するステップ６３０、及び物体が第二の方向付けにあるときに、少なくとも第一の軸又は第二の軸に沿って重心の位置の変更を使用して第三の軸に沿った重心の位置を決定するステップ６３５を含む。 （もっと読む）

【課題】測定位置および方向を変える場合でも、検出器の取り付けを変更せずに検出器ホルダの取り付け方向のみを変更すればよく、測定点が測定平面からずれない真円度測定装置の実現。
【解決手段】ベース21と、載置されたワーク32を回転する回転台22と、回転台の回転軸に対して平行に伸び、回転台の回転軸とワークの測定点を含む測定平面に平行に移動可能なコラム24と、コラムに沿って移動可能に支持されたキャリッジ25と、キャリッジに取り付けられた検出器ホルダ29と、測定子31が測定平面で変位可能なように、検出器ホルダに取り付けられた検出器30と、を有し、検出器ホルダは、測定平面に垂直な回転軸を中心とした異なる回転位置でキャリッジに取り付け可能で、異なる回転位置に取り付けても測定子が測定平面で変位可能な状態が維持される真円度測定装置。 （もっと読む）

【課題】従来の較正方法と比べてあまり時間がかからない較正を適用するより正確な位置測定システムを提供する。
【解決手段】位置測定システムは、第１部分ＥＧおよび第２部分ＥＳと、計算ユニットと、を備える。第１部分および第２部分は、第２部分に対する第１部分の位置を表す位置信号を提供することによって第２部材に対する第１部材の位置を決定する。計算ユニットは、位置信号を受信するための入力端子を含む。計算ユニットは、使用中、位置信号に変換を適用して第２部材に対する第１部材の位置を表す信号を得るように、および、変換に調整を適用して第１部分または第２部分あるいは両方のドリフトを少なくとも部分的に補償するように、構成される。調整は、第１部分または第２部分あるいは両方のそれぞれの所定のドリフト特性に基づく。所定のドリフト特性は、第１部分および／または第２部分の１つ以上の基本形状を有する。 （もっと読む）

【課題】測定値のばらつきが小さく精度の良い角型電池の外形測定装置を得る。
【解決手段】電池７の垂直方向の外周面を把持しかつ７の水平方向の位置決めを行い、かつ電池姿勢を垂直に位置決めする側面位置決め機構２２と、７の水平方向の外周面に当設可能であって７の水平面の垂直方向の位置決めをする水平面位置決め機構２３と、搬送治具８に７を載置面から切り離す手段２０を備え、７の垂直方向の外形を測定する際に、２２により７の水平方向の位置決めと姿勢を垂直に位置決めし、かつ２０により載置面から７を切り離した状態で、垂直方向外形測定手段１２により７の垂直方向の外形を測定し、７の水平方向の外形を測定する際に、２３により７の垂直方向の位置決めをし、かつ２０により載置面から７を切り離した状態で、水平方向外形測定手段１３により７の水平方向の外形を測定する角型電池の外形測定装置。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の歪曲を適切に補償した検査領域の設定方法を提供する。
【解決手段】ステージに測定対象物を配置し、測定対象物に対する第１特徴オブジェクトを含む基準データを呼び出しＳ１２０、測定対象物に対する測定データを獲得しＳ１３０、測定データのうち、第１特徴オブジェクトと対応する第２特徴オブジェクトを抽出し、第１特徴オブジェクトの平面的形状と前記抽出された第２特徴オブジェクトの平面的形状とを比較して幾何学的変形を確認しＳ１４０、Ｓ１５０、幾何学的変形を定量化して前記測定対象物の垂直方向の変化量を算出しＳ１６０、変化量に基づいて検査領域を設定するＳ１７０。 （もっと読む）

【課題】座標測定装置ならびに座標測定装置を用いて測定する方法
【解決手段】本発明は座標測定装置（１０）を用いて加工物の幾何形状を測定する方法およびこの装置自体に関する。本発明によれば、測定作業は異なる種類の装置を必要とすることなく最適に実行され、これにより関連作業に対して最適利用である１つまたは複数のセンサを使用できる。 （もっと読む）

【課題】被検物の形状測定において、測定プローブと被検物との位置合わせ作業を簡単に
行うことが可能な構成の形状測定装置を提供する。
【解決手段】被検物に対して光プローブ２０を相対移動させて、光プローブ２０により得
られた情報から被検物の三次元形状を非接触で測定するように構成された形状測定装置に
おいて、光プローブ２０を被検物に対して所定の位置となるように移動させる門型構造体
１０と、被検物を少なくとも２つの回転軸方向に回転させる支持装置３０とを有して構成
される。 （もっと読む）

【課題】被測定物の大きさに拘わらず、プローブの接触を確認しながら測定を実行することができる三次元測定機を提供する。
【解決手段】被測定物を載置するテーブルとプローブとを三次元方向へ相対移動させる相対移動機構１３と、相対移動機構の駆動を指令する携帯可能な操作盤３０と、操作盤からの指令に基づき相対移動機構を駆動させるとともに、プローブからの信号を取り込んで被測定物の形状を求める制御装置４０とを備える。プローブの近傍にはカメラ２０が取り付けられ、操作盤３０には、表示部３４と、カメラによって撮像された画像を表示部に表示する制御部３８とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】被検物を高精度に測定する。
【解決手段】測定装置１１の傾斜回転テーブル１４は、被検物が載置され、回転軸Ｌ１を中心に回転駆動する回転テーブル２１と、回転テーブル２１が回転可能に装着され、水平方向に延びる傾斜軸Ｌ２を中心に傾斜駆動する傾斜テーブル２２を備える。また、傾斜回転テーブル１４は、傾斜テーブル２２に対する回転テーブル２１の変位を測定する変位センサ３１乃至３３と、傾斜テーブルの鉛直方向の変位を測定する変位センサ３４を備える。本発明は、例えば、傾斜回転テーブルを有する測定装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】回転自在の測定用テーブル上において、良好な測定精度を維持しつつ、測定位置における被測定物の高さを簡易な操作により調整可能とする。
【解決手段】ワークＷの高さを調整する高さ調整装置１０が、測定用テーブル２上に昇降自在に設けられた昇降体８２と、昇降体を支持するとともに、測定用テーブル表面に対して傾斜した傾斜面８１ａを有し、当該傾斜面の昇降体に対する相対移動により昇降体を昇降させるテーパブロックとを備え、昇降体は、前記被測定物を支持する球状部材１０２と、傾斜面に回転自在に当接するローラ１０３とを有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】ワークが比較的大きな重量を有する場合であっても、仮置きされたワークを測定用テーブル上の測定位置に精度良く設置可能とする。
【解決手段】 表面形状測定装置１が、測定時にワークＷが載置される測定用テーブル２と、ワークが仮置きされる仮置き用テーブル４と、仮置き用テーブル上のワークを測定用テーブル上の所定位置まで搬送する搬送機構５とを備え、搬送機構は、ワークを支持する一対の支持アーム１５と、ワークと係合することにより、当該ワークと支持アームとの水平方向の相対位置を定めるガイドパネル１６とを有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】輸送制限の問題および精度低下の問題を解決できる測定機を提供すること。
【解決手段】ガイド部２と載置テーブル部５とが振動伝達部材６によって着脱可能に連結されるので、画像測定機をガイド部２、可動部３、および載置テーブル部５等に分割することが可能となり、各部材２，３，５を分割輸送することができる。そのため、輸送制限にかかることなく画像測定機を大型化することが可能となる。また、ガイド部２側で生じた振動も載置テーブル部５側で生じた振動も、振動伝達部材６を介して他方に伝達させることができるので、各側２，５に設けられた測定部と被測定物ｍとの間の相対振動を抑えることができ、相対振動による精度低下を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】レベルセンサのプロセス依存型オフセット誤差を正確に修正する費用有効性の高い方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗ（たとえば基板を支持するための基板テーブルを備えたリソグラフィ装置内の基板）を露光する方法には、第１及び第２のセンサ１０，１１を使用して少なくとも１つの基板Ｗの一部の第１及び第２の高さ測定を実行するステップと、測値の差に基づいてオフセット誤差マップを作成し、且つ、記憶するステップと、第１のセンサ１０を使用して高さ測定を実行することによって、前記基板Ｗ（又は前記部分と類似した処理が施された他の基板）の複数の部分のハイト・マップを作成して記憶し、且つ、オフセット誤差マップによってこのハイト・マップを修正するステップと、前記基板Ｗ（又は他の基板）を露光するステップが含まれている。 （もっと読む）

【課題】貫通孔を有するワークを、貫通孔が所定軸方向に平行となるように、短時間で載置可能に構成された形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置は、貫通孔１２ａを有するワーク１２を載置可能に構成され且つＸ軸及びＹ軸に回転可能に構成された回転テーブル１３ａ、貫通孔１２ａの一方側からＺ軸に平行に光を照射する光源１３ｂ、貫通孔１２ａの他方側に配置され且つ貫通孔１２ａを通過した光源１３ｂからの光を受光してその受光した光に基づく輝度を測定するＣＣＤカメラ１８ａ、回転テーブル１３ａによるワーク１２の回転角度をＣＣＤカメラ１８ａにて測定された輝度に基づき制御する制御部３５を備える。制御部３５は、回転テーブル１３ａによりワーク１２を所定角度ずつ回転させる毎に、ＣＣＤカメラ１８ａにより輝度を測定させ、その輝度が最大となる角度に回転テーブル１３ａの回転角度を設定する。 （もっと読む）

【課題】レベルセンサのプロセス依存型オフセット誤差を正確に修正する費用有効性の高い方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗ（たとえば基板を支持するための基板テーブルを備えたリソグラフィ装置内の基板）を露光する方法には、第１及び第２のセンサ１０,１１を使用して少なくとも１つの基板Ｗの一部の第１及び第２の高さ測定を実行するステップと、測値の差に基づいてオフセット誤差マップを作成し、且つ、記憶するステップと、第１のセンサ１０を使用して高さ測定を実行することによって、前記基板Ｗ（又は前記部分と類似した処理が施された他の基板）の複数の部分のハイト・マップを作成して記憶し、且つ、オフセット誤差マップによってこのハイト・マップを修正するステップと、前記基板Ｗ（又は他の基板）を露光するステップが含まれている。 （もっと読む）

【課題】レンズ等の測定物の高傾斜部分を高精度で測定する。
【解決手段】レンズ１１を測定機１のＹ軸周りに傾けた第１の設置状態とする（Ｓ３−１）。レンズ１１を第１の設置状態から設計座標系のＺ軸を中心として９０度回転させて第２の設置状態とする（Ｓ３−８）。第１及び第２の設置状態のそれぞれについて、レンズ１１の設計上の頂点座標を通るＸ軸方向の直線上に表面のＸＹＺ軸の座標を測定して第１の測定データ群を取得し、レンズ１１の設計上の頂点座標を通るＹ軸方向の直線上に表面のＸＹＺ軸の座標を測定して第２の測定データ群を取得する（Ｓ３−４，Ｓ３−１１）。第１及び第２の設置状態のそれぞれについて、１及び第２の測定データ群を使用して設計形状との差を算出する。算出した設計形状との差を合成する（Ｓ３−１５）。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の測定位置を測定センサに対して正確かつ簡単に位置決めすることができる測定装置を提供する。
【解決手段】測定装置１は、焼結部品２の寸法を測定する測定センサ３，３と、測定センサ３，３が取り付けられた固定部１０と、焼結部品２を保持する治具２０とを有する。固定部１０には、治具２０を測定ポイントへ案内するためのガイド溝１３を二次元平面上に形成すると共に、焼結部品２の測定位置Ａ〜Ｐ，Ａ〜Ｐを測定ポイントに一致させるように治具２０を固定部１０に対して位置合わせする位置決め溝１４を、ガイド溝１３の溝幅及び溝深さより大きくガイド溝１３上に形成する。そして、ガイド溝１３の溝幅より大きく、位置決め溝１４より小さいボール２６を、固定部１０側へ付勢する圧縮ばね２５を、治具２０に設ける。 （もっと読む）

【課題】一度に広範囲の被検査物表面形状を検査できる表面形状検査装置及び表面形状検査方法を提供する。
【解決手段】被検査物５の表面の凹凸を増幅する凹凸形状増幅部材１と、凹凸形状増幅部材１の下面を被検査物５の表面に沿わせるように当接させる透明板２と、被検査物５の表面の検査対象部分を凹凸形状増幅部材１に対して相対的に移動させる回転機構７と、凹凸形状増幅部材１によって増幅された被検査物５の表面の凹凸を光学的に検出するカメラ３及びコンピュータ４とを有する。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を招くことなく、プローブ間で共用して測定できる測定範囲を維持できる測定装置を提供する。
【解決手段】被測定物を載置したＸＹステージと、複数種のプローブ９Ａ，９Ｂ，９Ｃを有するプローブホルダ２０と、ＸＹステージとプローブホルダ２０とを相対移動させる相対移動機構とを備える。プローブホルダ２０には、傾斜状に配置された２本のガイドレール３１，３２を有し、少なくとも２つ以上のプローブ９Ａ，９Ｂを、選択的にプローブ切替位置ＣＰに対して位置決め可能かつ退避可能に進退させるプローブ切替機構３０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】スケール、スケールベース、及びベースの熱膨張等による伸縮で生じるスケールベースの変形を防いで、スケールによる高精度な変位測定を可能とする。
【解決手段】スケールベース１１２は、スケール１１６で測定される測定方向（Ｙ方向）の複数箇所Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３でベース１１０に固定され、該固定される箇所Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３間のスケールベース１１６にスリット１１４が設けられ、前記スケール１１６は該スケールベース１１２の該固定される箇所Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の２箇所以上において該スケールベース１１２により支持され、且つ、該スケールベース１１２は、該固定される箇所Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３以外の位置において該ベース１１０との間、及び該支持する箇所以外の位置において該スケール１１６との間、のそれぞれに空隙Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３を有する。 （もっと読む）