説明

Fターム[2G001AA01]の内容

Fターム[2G001AA01]に分類される特許

201 - 220 / 2,457


【課題】車両を持ち上げた際に枠体構造物が浮き上がることを防止し、かつ、安定的な走行を行うことができる搬送装置を提供する。
【解決手段】車両100が内部を通過できる金属製の枠体構造物2と、枠体構造物2に軸支されて地面に敷設される2本の軌条上を走行するための車輪100aと、車輪100aに回転駆動力を付与する走行モータ22と、枠体構造物2において、互いに対向して装着された一対の昇降部材7と、昇降部材7にそれぞれ設置されており、互いに対向する側に張り出す車両把持部材5とを備え、車両把持部材5で車両100の車輪3を保持しつつ昇降部材7を上昇させて車両100の車輪100aを持ち上げた状態で車両100を搬送する搬送装置1であって、枠体構造物2に軸支されて車輪100aに従動する補助輪6と、枠体構造物2における補助輪6を軸支する部分の上部において、昇降部材7の上下動を行う昇降用アクチュエータ8とを備える。 (もっと読む)


【課題】 蛍光X 線分析装置において高精度な分析結果を得る方法及び装置を提供する。
【解決手段】 半導体基板を酸蒸気に暴露する工程と、酸蒸気に暴露された前記半導体基板の表面の不純物を酸溶液で走査回収する工程と、前記走査回収した酸溶液を前記半導体基板上で濃縮乾燥させ濃縮乾燥物に変える工程と、前記濃縮乾燥物を全反射蛍光X線分析で測定し第一の測定値を得る工程と、前記半導体基板を酸蒸気に暴露する工程の後に、前記半導体基板上で前記濃縮乾燥物の位置とは異なる位置を全反射蛍光X線分析で測定し第二の測定値を得る工程と、前記第二の測定値を用いて前記第一の測定値の精度の確認を行う工程とにより半導体基板の分析を行う方法。 (もっと読む)


【課題】試料の実像だけでなく、電子回折像も観察することができる光電子顕微鏡を提供すること。
【解決手段】光源からの光を試料に照射することにより前記試料から放出される光電子を対物レンズを介して結像し、拡大像を得る光電子顕微鏡において、前記対物レンズに、2以上の電極を備えさせ、2以上の前記電極を、前記光が2つの電極間を通るように設置する。このような構成をした光電子顕微鏡は、試料の実像だけでなく、電子回折像も観察することができる。 (もっと読む)


【課題】第1の格子と第2の格子の2つの格子を平行に配列し、この格子を用いて位相コントラスト画像を取得する放射線画像撮影装置において、2次元位相情報を有する高画質な位相コントラスト画像を取得する。
【解決手段】第1の格子および第2の格子のいずれか一方の格子を、位相コントラスト画像を構成する1つの画素に対応する所定の範囲内に複数の単位格子UG1,UG2が配列されたものとするとともに、その各単位格子UG1,UG2を構成する単位格子部材22が互いに異なる方向に延びるものとし、その所定の範囲内の複数の単位格子UG1,UG2に対応する画素部によって検出された複数の検出信号に基づいて、位相コントラスト画像の1つの画素の画素信号を生成する。 (もっと読む)


【課題】センサーパネルとシンチレータ層の周囲の筐体の端部からセンサーの光電変換素子端までの距離が短い放射線検出装置を提供する。
【解決手段】光電変換素子を含むセンサーパネル101およびセンサーパネル101上のシンチレータ層103の側面を、放射線検出装置の筐体106内に設けられた封止部105に封止樹脂203を介して接続することで、光電変換素子と筐体106外側との距離を短くすることができ、かつ、シンチレータ層103側面における耐湿性を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】X線反射率法および中性子反射率法において、均一ではない、面内の場所ごとに異なる構造を持つ薄膜・多層膜について、表面や界面、特定深さ位置における2次元の電子密度分布および核散乱長密度分布を画像化する方法及びその装置を提供する。
【解決手段】本発明では、微小ビームを作製してXYスキャンを行う方法によらず、通常のX線反射率法および中性子反射率法において用いられるものと同じサイズのビームを用い、数学的な画像再構成のアルゴリズムによって、表面や界面、特定深さ位置における2次元の電子密度分布および核散乱長密度分布の画像が得られる装置を開発した。 (もっと読む)


【課題】ピッチズレが抑制された狭ピッチで高アスペクト比な微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンをエッチングして形成された凸部の少なくとも頂上部に第1の絶縁層が設けられ、基板凹部に、下記の化学式(1)および化学式(2)(R、R、Rは、アルキル基)で表される基を含むオルガノポリシロキサンを有する第2の絶縁層を形成して凹部の底部に金属を有するシード層を形成し、前記凹部に電気めっきにより金属を充填してめっき層を形成する微細構造体の製造方法。
(もっと読む)


【課題】粗大粒を有した材料の内部応力を短時間かつ高精度に測定可能な方法を提供する。
【解決手段】本発明の内部応力の測定方法は、被測定物に放射光X線を照射する照射工程(S1)と、被測定物から透過したX線回折のゲージ体積を2次元スリットにより制限する制限工程(S2)と、制限されたゲージ体積中の回折スポットを2次元X線検出器により検出する検出工程(S3)と、被測定物を移動させて照射工程から検出工程までを繰り返す工程(S4)と、検出された回折スポットに基づいてゲージ体積中心に相当する位置の回折角を決定する解析工程(S5)と、を備える。解析工程では、回折スポットの位置と回折強度とを関係を放物線近似し、かつ、放物線の頂点に対応する位置の回折角の値をゲージ体積中心に相当する位置の回折角に設定することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】分析チャンバ内の雰囲気をヘリウムガスで置換する際のヘリウムガス消費量を低減可能な蛍光X線分析装置を提供する。
【解決手段】
蛍光X線分析装置において、試料Sに一次X線を照射するX線源12と、前記一次X線の照射により試料Sから放出される蛍光X線を検出するX線検出器13と、前記一次X線と蛍光X線の光路を内包する分析チャンバ10と、分析チャンバ10内にヘリウムガスを導入するヘリウムガス導入手段17と、分析チャンバ10内のヘリウムガス濃度を測定するヘリウムガス濃度測定手段18と、ヘリウムガス濃度測定手段18によるヘリウムガス濃度の測定結果に基づき、分析チャンバ10内のヘリウムガス濃度が予め定められた目標値となるようにヘリウムガス導入手段17を制御する制御手段31とを設ける。 (もっと読む)


【課題】管端溶接部における亀裂状欠陥を非破壊検査で検出するための非破壊検査用標準供試体を提供する。
【解決手段】管端溶接部における亀裂状欠陥を非破壊検査で検出するための非破壊検査用標準供試体10であって、炭素鋼で形成され、貫通孔15を有する供試体本体12と、貫通孔15に挿入され、CrーMo鋼で形成された管体14とを備え、管体14の外周面と、供試体本体12における貫通孔15の内周面との間に隙間17が設けられ、管体14の長手方向における一端側の外周面と、供試体本体12の貫通孔の長手方向における一端側の内周面との間を全周に亘って溶接した溶接部18を有し、溶接部18は、隙間17に重量比で50%NaNOと50%KNOとを混合した腐食液を注入し、応力腐食割れにより導入された亀裂状欠陥を有している。 (もっと読む)


【課題】製品基板毎に態様の異なる被爆量を好適に管理すること。
【解決手段】電子部品が実装された基板の撮像要部をX線で撮像するX線撮像装置に用いられるX線被爆量管理システムにおいて、前記基板Wを製品毎に特定する基板特定手段と、特定された製品基板に係る累積被爆量Hを演算する累積被爆量積算手段とを備えている。X線撮像を実施する際の累積被爆量Hが個々の製品基板毎に演算されるので、例えば、再検査や、抜き打ち検査が生じて、被爆量が製品基板毎に異なるような事態が生じても、各製品基板が上限値を超えて被爆しないように管理することができる。 (もっと読む)


【課題】衝撃ノイズによる誤動作を防止しつつ、X線の照射開始を自己検出する。
【解決手段】画素37を制御するための走査線47が行毎に、信号電荷を読み出すための信号線48が列毎に配設された撮像領域51を有するFPD25と、蓄積動作と読み出し動作とを行わせるゲートドライバ52と、X線の照射開始を検出する制御部54と、制御部54がX線の照射開始を検出したときに、蓄積動作が開始するようにゲートドライバ52を制御する制御部54と、画素37から選択された検出画素61を有し、制御部54は、検出画素61が接続された信号線48から少なくとも2回連続して第1の電圧信号Vout1及び第2の電圧信号Vout2を取得し、これらの差に基づいて、照射開始の検出を検出する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、1回のX線の照射で測定試料SMのより広い面積を分析し得るX線分析装置および該方法を提供する。
【解決手段】本発明のX線分析装置は、電子ビームEBを生成する電子ビーム生成部1と、電子ビーム生成部1によって生成された電子ビームEBの進行方向に沿って配置された複数の4重極レンズ2と、複数の4重極レンズ2を通過して射出された電子ビームEBと衝突することによってX線を生成するX線ターゲット3と、X線ターゲット3によって生成されたX線から所定のエネルギーを持つX線を抽出して測定試料SMに照射するX線分光結晶4と、X線分光結晶4によって抽出され測定試料SMを透過した透過X線を検出するX線検出部5とを備え、複数の4重極レンズ2は、電子ビームEBを互いに同じ第1方向に発散するとともに互いに同じ第2方向に収束する。 (もっと読む)


【課題】X線検出領域を挟んで搬送方向の上流側と下流側に搬送コンベア分割されている場合でも、上流側コンベアと下流側コンベアとの隙間から落下する被検査物からの落下物がX線検出領域内に侵入しないX線異物検出装置を提供する。
【解決手段】被検査物Wを所定の搬送方向Yに搬送する搬送コンベア8と、搬送コンベア8により搬送される被検査物WにX線を照射するX線発生部21と、被検査物Wを透過したX線を検出するX線検出部22とを備え、搬送コンベア8がX線検出領域Aを挟んで搬送方向Yの上流側(上流側コンベア8a)と下流側(下流側コンベア8b)とに分割されたX線異物検出装置1において、X線発生部21によるX線照射中はX線検出領域A内に被検査物Wからの落下物Dが侵入しないように、X線検出領域Aに向けて常にエアーを吹き付けるエアー吹付け手段31を備えた。 (もっと読む)


【課題】非破壊かつオンラインで金属層の結晶粒径及び粒径分布を評価する方法を実現する。
【解決手段】結晶組織を有し特定の面方位においてX線に対して回折ピークを持つ金属層にX線を照射して得られる回折ピークを入手するステップA、回折ピークに基づいて面積平均コラム長及び体積平均コラム長を求めるステップB、面積平均コラム長及び体積平均コラム長から結晶粒径の対数正規分布を求めるステップCを具備する。 (もっと読む)


【課題】A/D変換後の画像補正を複雑にすることなく、適切な濃度階調が描出された高画質なX線画像を得る。
【解決手段】放射線の照射終了後、FPDの撮像領域における一次元の入射線量の分布である線量プロファイルを測定する。線量プロファイルの最大値と最小値の差Δdであるコントラストに基づいて、信号電荷を読み出す際のゲインの値を決定する。ゲインは、コントラストが大きい場合には小さい値に、コントラストが小さい場合には大きい値に決定される。コントラストが小さい場合にゲインを大きくすることで、A/D変換器のダイナミックレンジを有効利用できる。 (もっと読む)


【課題】屋外に配置されている構造物の表面に付着している物質の正確な量がより簡便に分析できるようにする。
【解決手段】ステップS101で、屋外に配置された測定対象となる構造物の表面に直接X線を照射する。次に、ステップS102で、元素の蛍光X線測定を行い元素の第1蛍光X線強度を得る。次に、ステップS103、X線の吸収量が既知の基材に対象となる元素が既知の含有量で含まれている内標準試料を構造物に重ねた状態で、内標準試料を通して構造物の表面にX線を照射する。次に、ステップS104で、元素の蛍光X線測定を行い上記元素の第2蛍光X線強度を得る。 (もっと読む)


【課題】被検査物に突き刺さることを確実に防いでX線が漏洩する危険性を更に低減し、簡素な構成とすることで低コストとなるX線遮蔽カーテンを備えること。
【解決手段】筐体3と、筐体3内の搬送路に被検査物を搬送するベルトコンベア8と、ベルトコンベア8により搬送される被検査物にX線を照射するX線発生部11と、被検査物を透過したX線を検出するX線検出部12と、搬送路にベルトコンベア8の搬送方向Yと直交して設けられた水平軸22と、水平軸22にその基端側が取り付けられることでこの水平軸22に揺動可能に吊り下げられたカーテン片23が、水平軸22に複数の短冊状に設けられたX線遮蔽カーテン20とを備えたX線異物検出装置1において、X線遮蔽カーテン20を、カーテン片23が鉛直よりも搬送方向Yの下流側に揺動可能に設けるとともに、搬送方向Yの上流側への揺動を規制する構成とした。 (もっと読む)


【課題】容易に精度良く鋼種判定を行うことができる断面略円形の鋼材の鋼種判定方法を提供する。
【解決手段】鋼種判定方法は、X線を照射する照射部21及び蛍光X線を検出する検出部22を具備した測定部2を、予め定めた分析必要時間だけ鋼管4の外周面に沿って鋼管4に対して相対移動させながら照射部21からX線を鋼管4に照射すると共に鋼管4から放射される蛍光X線を検出部22によって検出する検出ステップと、検出ステップによって検出された蛍光X線に基づいて鋼管4の組成を算出する算出ステップと、算出ステップによって算出された組成によって鋼管4の鋼種を判定する判定ステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】アッテネータのみを移動させるだけの簡単な構造でコストダウンを図り、試料の測定領域の面積を可変して精度のよい分析ができる蛍光X線分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の蛍光X線分析装置は、X線源1と、1次X線2が照射された試料Sから発生する2次X線4を検出する検出手段9と、試料を回転させる試料回転手段10とを備え、試料を回転させながら試料から発生する2次X線を検出する蛍光X線分析装置であって、試料と検出手段9との間に配置され、所定の半径の仮想円30内に2次X線を通過させる複数の絞り孔32を有し、仮想円30を通して検出手段9が見込む試料領域から発生する2次X線4を複数の絞り孔32によって通過させるアッテネータ3と、アッテネータ3を移動させるアッテネータ移動手段11とを備え、アッテネータ3の移動距離Xに応じて、2次X線4が検出される試料の測定領域の面積が可変である。 (もっと読む)


201 - 220 / 2,457