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Fターム[2G001AA01]の内容

Fターム[2G001AA01]に分類される特許

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コヒーレント散乱X線からの既知の再構成法は非厳密再構成法を使用する。本発明によると、散乱X線光子の波数ベクトル移動量qの比較的幅広いスペクトルが収集される。投影データは、x−y−q空間における線積分として解析され、投影データは、いかなる線源軌道に沿った収集にも対応するように再ソートされる。これにより、厳密螺旋形再構成アルゴリズムが適用され、冗長データがより良い画質を得るために使用されることができる。
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in−situ状態で、試料の既知の特性を測定するX線回折技術に関する。その技術は、実質的に発散するX線放射を放射するためのX線源を使用するステップを含み、発散X線放射を受けるとともに、試料に向けて発散X線放射の発散経路を向け直すことによって、平行なX線放射のビームを発生させるために前記固定されたX線源に対して配置されたコリメーティング光学素子を備えている。第1のX線検出器が試料からの回折放射を収集する。X線源及びX線検出器は、その動作中、試料の既知の特性についてのアプリオリな情報に従って、互いの相対位置、及び試料に対する少なくとも1つのディメンションが固定されている。第2のX線検出器は、特に本発明の晶相モニタリングの実施形態において、試料の既知の特性についてのアプリオリな情報に従って、第1のX線検出器に対して固定することができる。

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1つの電離粒子分析器は、1つの電離1次粒子源と、1つの荷電粒子検出器と、且つ、電離可能なガスを前記粒子源と前記検出器の間に有している。前記分析器は、更に、前記粒子源と前記検出器の間に位置する荷電粒子妨害装置を具えている。該荷電粒子妨害装置は、第1の構成において、荷電粒子の通過を妨げ、且つ非荷電粒子を通す様な電位に維持される様に準備されている。
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集積回路(IC)のようなパターン化された表面の領域を検査するための測定技術および装置。X線、中性子、粒子ビームまたはガンマ線の励起放射を、ICの2次元のサンプル領域に向かわせ、サンプル領域からの発光(たとえば、X線蛍光−XRF)を検出する。放射源、検出器およびサンプル領域によって形成される平面放射路内にマスクを配置する。マスクは、1つの実施形態では、サンプル領域に対して相対的に可動である。マスクは、2次元のサンプル領域の第1の軸に平行に配置されたときに、サンプル領域に向かう励起放射、およびサンプル領域からの発光放射を、平面放射路に実質的に制限する細長い開口を有する。発明は、ICの活動領域内の構造の特性を、その領域外のサンプル領域を用いて、予測的に測定することを可能にする。
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導管を通じてサイズ排除フィルタにサイズ排除フィルタを通過するには大きすぎる対象バインダの溶液(好適には水溶液)を送ることと、次に対象バインダがフィルタ上に集まった後に同一の導管を通じてサイズ排除フィルタに一以上の潜在的な薬剤化学物質の溶液(好適には水溶液)を送ることを包含する、対象バインダと潜在的な薬剤化学物質の間の結合をスクリーニングするための方法である。潜在的な薬剤化学物質は、サイズ排除フィルタを通過するために十分に小さい。その後、X線がX線源からサイズ排除フィルタに送られ、潜在的な薬剤化学物質が対象バインダと共に化合物を形成する場合、化合物は、化合物が形成されたことを示す強度を有するX線蛍光信号を生成する。
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【課題】 少なくとも2つの結像ステップから成る空間像測定システム(AIMS)による、特にマスクなど、マイクロリトグラフィーにおける対象物の分析方法
【解決手段】検出画像について第2またはそれ以降の結像ステップの伝達性が修正フィルタにより修正され、対象物の照明が落射光および/または透過光で行われる、しかもその場合、修正出力量がフォトリトグラフィー用のステッパまたはスキャナの結像に一致するように、再コンボリューションによって修正が行われ、測定または計算による修正値が修正に利用される方法である。 (もっと読む)


サンプルを分析するために、X線、中性子線、ガンマ線、または粒子ビーム放射を使用して、分析エンジンの放射境界面にサンプルを呈示する技法が開示される。保護障壁は、放射に対して透過性であり、かつサンプルをエンジンから分離し、障壁移動システムを使用して、放射境界面に対して可動である。一実施形態の障壁は、サンプルが配置される空洞にわたって可動であり、空洞にわたって膜のほぼ連続的な供給を提供および回収するリールシステムで可動である膜である。空洞は、サンプルが通って可動であるサンプル経路の一部を形成することが可能である。サンプル経路が加圧される場合、膜は、分析エンジンによるサンプルの分析中に圧力を維持する。

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CSCTにおいて、扇形プライマリビームを用いて、2次元検出器と組み合わせて、単一スライス透過断層撮影及び散乱断層撮影を同時に測定することができる。このようなシステムでは、単一色ソースの放射線を用いない限り、ぼけた散乱関数が測定される。本発明によると、エネルギー分解1次元または2次元検出器システムを提案する。これは、断層撮影再構成と組み合わせて、多色プライマリビームを用いてもよいスペクトル分解能を提供できる。さらにまた、本発明の一態様によると、減衰スペクトルを取得するために必要なエネルギー分解検出器ラインは1つだけである。本発明によるシステム及び方法の有利な応用には、医療画像化及び手荷物検査等の物質分析がある。
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本発明は、信号処理システムと、それによって情報の処理を行うための方法を提供する。この信号処理システムは、感知システムと共に使用するために設計され、この感知システムでは、符号化信号がテストサンプルに向けられ、結果として生じる信号が収集されて符号化信号と相関され、これにより、テストサンプルの送信信号への応答の検出を可能にし、このことは、測定されるテストサンプルの理解を可能にすることができる。信号処理システムは、テストサンプルに送信される信号のフォーマットおよびこの送信の結果として生じるテストサンプルから受信される信号の両方の検出と、その後のこれらの相関とを制御するための制御信号を、感知システムに供給する。送信および検出信号の両方を制御することにより、信号処理システムは、検出能力を向上させるためにこの情報を相関させることができ、これにより、テストサンプルを分析する改善された手段を提供する。 (もっと読む)


X線結晶構造回折用の生体高分子の微結晶を封入するサンプルマウント(10)が、例えば、小さな金属ロッド(16)の湾曲外面に止着することにより曲率を付与されたパターン化ポリイミド樹脂薄膜(12)を使用して、用意される。パターン化膜(12)は、結晶を保持するテーパ先端(24)を含むことが好ましい。好ましくは、結晶を受承する小さなサンプル開口が膜に配置されている。排出溝によりサンプル開口に接続された第2の大開口が、設けられて、過剰液体の除去と粘性溶液内のより容易な操作を許容する。膜(12)に付与された曲率は、膜の剛性を増加させると共に、結晶を回収するための便利なスコップ状作用をもたらす。ポリイミド樹脂は、背景及び吸収に対する寄与が最小であると共に、所望の疎水性又は親水性を得るように処理することができる。

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【課題】環境基準の極めて微量な測定対象物質の溶出量を、現場で迅速に測定することができる土壌の重金属類の溶出量の分析方法及び分析装置、並びにこれに用いる試料を提供する。
【解決手段】土壌に含まれる重金属類の溶出量分析方法において、土壌から作成した検液に所定の割合でキレート剤を加え、このキレート剤に検液中の測定対象物質を吸着させる手順と、その検液をろ過し、測定対象物質を吸着したキレート剤を回収する手順と、蛍光X線分析装置により、回収したキレート剤が吸着した測定対象物質を定量分析し、この分析結果を検液中の測定対象物質の溶出量に換算する手順とを行う。 (もっと読む)


【課題】 薄膜の組成比が未知の場合はロッキングカーブ測定により基板と薄膜の膜厚方向の格子定数の差を評価することはできるが、結晶歪み度合いを評価することはできない。格子定数が組成比、結晶歪みの両方の影響を受けている場合に、それらを切り分けて結晶歪み度合いを評価する方法を提供する。
【解決手段】 XRDによるロッキングカーブと蛍光X線ファンダメンタル・パラメータ法の併用により、結晶性の基板または層上に製膜された、格子定数のミスマッチによる結晶歪みを有する組成比未知の結晶性固溶体薄膜の結晶歪み度合いを分析する。 (もっと読む)


【課題】モジュールを組み立てたときの放熱特性を知ることができる回路基板と、その安価な製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス基板の表面に金属回路、裏面に金属放熱板が形成されてなる回路基板の評価方法であって、上記金属回路の表面にシリコンチップを特定条件下で半田付けし、その半田ボイド率を測定することによって、その回路基板を用いて組み立てられたモジュールの放熱特性を知る。また、このようにして評価された回路基板と、その無電解Niめっき法による製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 多層プリント配線板の内層の各導体層の変形量を観測、記録する。
【解決手段】 多層プリント配線板60の内層用の両面配線板61の表裏の導体層に中実ガイドマーク22と中空ガイドマーク23が形成され、例えば、中実ガイドマーク22−1bに、隣接した導体層に設けられた中空ガイドマーク23−2aが同心に配置され、隣接した導体層毎に同心に配置された中実、中空ガイドマーク22、23を形成する。X線カメラの視野内に納まる外形のガイドマーク枠21内に、例えば3行3列に、同心の中実、中空ガイドマーク22(1a〜5a)、23(1b〜5b)の組が配されている。ガイドマーク群20は多層プリント配線板の、たとえば4隅に配置され、1個のガイドマーク群は1回のX線照射で枠内のガイドマーク全ての像を取り込み、それらの座標値が計算される。4個のガイドマーク群内のガイドマークの座標値から、各導体層に形成された配線用パターンの変形量が計算され、結果を記録できる。 (もっと読む)


【課題】 従来に比してX線ラインセンサの有効長を短くしても、従来と同等もしくはそれ以上の視野を得ることのできるX線CT装置を提供する。
【解決手段】 複数のX線ラインセンサ2a,2bを、X線照射方向中心線Cを挟んで両側に間隙Gを開けて、中心線Cからの距離L/2内に配置し、トータルの有効長をL/2以上とする。また、各X線ラインセンサ2a,2bは、中心線Cで片側の領域を他側に折り返して重畳させたとき、長さL/2の領域の全てがいずれか一方側のX線ラインセンサ2aまたは2bでカバーするように配置することにより、z軸の回りに試料Wが360°回動することで、断層像を再構成するために必要なデータを採取可能とし、短い有効長のX線ラインセンサを複数個用いて、そのトータルの有効長のラインセンサを用いた場合と同等の視野を得ることを可能とする。 (もっと読む)


【課題】 試料を支持する試料板からの回折X線の影響を排除して、試料に関する正確なX線回折測定をできるようにする。
【解決手段】 単結晶試料板21によって支持する試料SにX線を照射し、試料Sから発生する回折X線を2次元X線検出器2によって検出し、検出された回折X線の座標及び強度をX線読取り装置によって読み取り、そしてその読取り結果に基づいて演算を行って回折X線強度分布を求めるX線測定装置である。単結晶試料板21から出る回折X線が2次元X線検出器2によって検出される座標位置を、回折X線強度分布の演算に寄与させないブランク領域として認識する。単結晶試料板21からの回折X線がX線強度の演算に算入されないので、試料Sからの回折X線だけに関して正確にX線強度分布を求めることができる。 (もっと読む)


【課題】 磁気ヘッドなどに用いられる金属多層膜の構造評価に有効な、金属多層膜のX線反射率プロファイルの新しい解析法を提供する。
【解決手段】 金属多層膜のX線反射率プロファイルの解析のための各層の膜厚の初期値t1 i 〜t3 i として、蛍光X線測定から求めた各層の膜厚を用いるようにする。この初期値t1 i 〜t3 i としては、蛍光X線測定により得られた各層の付着量F1 〜F3 を各層の材料の理論密度ρ1 i 〜ρ3 i で割って算出した値を採用するのが有利である。 (もっと読む)


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