【課題】露光マスクを必要とせず、Ｘ線タルボ干渉計用位相型回折格子を容易かつ高精度で製造することができる方法を提供する。
【解決手段】畝部１０ｂが複数形成され、隣接する畝部の間に樹脂部１２が介装されたＸ線タルボ干渉計用位相型回折格子１０の製造方法であって、モールド母材５０に単結晶ダイヤモンド製の刃具２００で溝部を切削加工し、溝の幅が４μｍ以下であるモールド形成工程と、シード層が成膜された面に未硬化樹脂が塗布された基板の塗布面に、モールドを加熱した状態で加圧浸漬し、その後未硬化樹脂が硬化する温度に冷却してモールドを前記基板から離して、突出部と溝部を有する樹脂部を形成する樹脂形成工程と、樹脂部の溝部に、溝部がＸ線干渉計で画像を得るときに照射するＸ線の位相をπ／２変化させる厚さの金属を電鋳して畝部を形成する回折格子の畝部形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】移送機構用長尺部材のスチールコード、例えば、乗客コンベアのハンドレールに内蔵されるスチールコードの状態からハンドレールの品質を自動的に評価する。
【解決手段】乗客コンベアのハンドレールをＸ線で撮影するＸ線撮影部と、前記Ｘ線撮影部で撮影された画像を処理して、前記ハンドレールに内蔵されたスチールコードの撚りが素線化したスチールコードを検出し、前記ハンドレールの長手方向における前記スチールコードの素線発生箇所が所定の長さ以上継続する場合には、前記ハンドレールの品質を劣化と判定する画像処理部とを有する。 （もっと読む）

【課題】触媒濃度の極めて低い条件化においてＸＲＦ分析を実施するに際し、高精度のＸＲＦ分析結果を得ることのできる触媒特定方法を提供する。
【解決手段】マトリックス担体に金属触媒が担持されてなる触媒コート層１において、Ｘ線照射によって励起される金属触媒に固有のＸ線エネルギとＸ線強度を検出する蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）を使用して、金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であって、Ｘ線照射方向に１００μｍ以下の厚みを有する触媒コート層１を準備する第１のステップと、触媒コート層１にＸ線を照射して金属触媒の濃度もしくは分布を特定する第２のステップからなる。 （もっと読む）

【課題】 検出感度が高く、アフターグローの低減された、X線検査装置を提供する。
【解決手段】 増感紙を具備するＸ線検出器において、透過型増感紙１０、または反射型増感紙１１の少なく共いずれか一方に、増感紙用蛍光体としてＧｄ_２Ｏ_２Ｓ：、Ｐｒ、ＣｅまたはＧｄ_２Ｏ_２Ｓ：Ｐｒの少なく共一種を使用する。本発明のX線検出器では、３ｍｓｅｃ後のアフターグローの光出力は０．２％以下となり、残像等の問題の無い、明瞭な画像が得ることができる。 （もっと読む）

【課題】探傷開始位置の特定が容易であって且つ探傷不能領域が低減された乗客コンベアハンドレールの検査方法を提供すること。
【解決手段】ハンドレール２の内部に設けられたスチールコード２０の損傷をＸ線撮影により検査する検査方法であって、Ｘ線撮影において透過不能な材料で構成された帯状のスタートマーカー９を、帯の長手方向がハンドレール２の搬送方向に対して傾いた状態でハンドレール２に取り付け、Ｘ線撮影によって生成された画像においてスタートマーカー９によって遮蔽された範囲を検知することにより基準位置を認識し、スチールコード２０の損傷を検査する。 （もっと読む）

【課題】順投影処理を含む手順により断層像を構築する断層像再構成方法において、計算誤差を可及的に少なくしながら、計算速度を高速化する。
【解決手段】順投影処理において断層像を構成するピクセルＰを検出器の受光面Ｆに投影して検出器の各画素濃度を決定する際に、ピクセルＰの受光面Ｆへの投影領域Ａｐの全域で検出確率が一定であると近似して演算処理を行うことで、計算誤差を少なくしながらも、計算の条件分岐をなくし、その高速化を実現する。 （もっと読む）

【課題】中性子線の遮蔽に用いられるホウ素添加材料に含まれる、ホウ素ならびに無機系材料の組成を、迅速、正確に定量評価する。
【解決手段】有機材料に炭化ホウ素を添加してなる遮蔽材の組成評価方法であって、この組成評価方法は、第一の工程と第二の工程とを有し、第一の工程は、遮蔽材の炭化ホウ素を含む試料を採取して溶液化して、この溶液状態における試料のホウ素をＩＣＰプラズマ発光分析法により定量化して、組成を評価するものであり、第二の工程は、遮蔽材の炭化ホウ素を含む試料を採取して、無機系不純物元素の組成を蛍光Ｘ線分析法によって評価するものである。有機材料としては、シリコーンゴムが好ましい。 （もっと読む）

【課題】微小試料の測定室への落下による装置の不具合と故障を、未然に防止することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】測定部に備えられた撮像装置７によって、試料３下部の透明な落下防止板１１を通して試料３の被測定部位を、例えば０．５秒に一回撮影する。この画像を画像記憶装置１６によって記憶し、画像比較装置１５直近の２つの画像を比較する画像に差がある場合は、表示装置１７に警報を表示するとともに、制御装置１４を介して落下防止板１１の動作を停止する。 （もっと読む）

【課題】異物検出の閾値を高感度な状態に保ち、異物の誤検出を防ぎつつ高精度に検出することができるＸ線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】被検査物ＷにＸ線を照射して検出したＸ線透過量を表すＸ線画像に対して、複数の画像処理フィルタを組み合わせてなる複数の異物強調処理を用いてそれぞれ並列に画像処理を行う画像処理部５０と、複数の異物強調処理を施した結果の濃淡画像から、それぞれ所定の閾値を用いて異物候補を検出する複数の異物候補検出部６１〜６４と、Ｘ線画像上の同じ箇所で複数の異物候補検出部６１〜６４によって異物候補が検出され、かつ、それらの異物候補が予め設定された異物の有無を判定するための複数の異物強調処理に対する異物候補の組合せであるときに、被検査物Ｗ中に異物が有ると判定する異物判定部４４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】遮蔽格子を湾曲させることなく信号強度の向上を図ることが可能となるＸ線撮像装置を提供すること。
【解決手段】被検体を撮像するＸ線撮像装置は、Ｘ線源からのＸ線を回折することにより干渉パターンを形成する回折格子と、干渉パターンを形成するＸ線の一部を遮る遮蔽格子と、遮蔽格子からのＸ線の強度分布を検出するＸ線検出器を備える。
Ｘ線源から遮蔽格子へ引いた垂線と遮蔽格子との交点を遮蔽格子の中心とする。
また、遮蔽格子の中心との距離が所定の距離よりも小さい領域を遮蔽格子の中心部、遮蔽格子の中心との距離が所定の距離以上の領域を遮蔽格子の周辺部とする。このとき、遮蔽格子の中心部よりも遮蔽格子の周辺部の方が、Ｘ線が垂直に入射したときのＸ線透過率が高い。 （もっと読む）

【課題】被検査物を効率的に連続搬送可能な極めて実用性に秀れたＸ線検査装置の提供。
【解決手段】Ｘ線照射部２とＸ線検知部３とこれらを覆う本体カバー部４とを備え、本体カバー部４の開口部８から内部に搬入される被検査物１を検査するＸ線検査装置であって、本体カバー部４内の中央搬送機構５の搬送上流側に供給側搬送機構６を設け、搬送下流側に排出側搬送機構７を設け、供給側搬送機構６及び排出側搬送機構７に開口部８を有する供給側カバー部10及び排出側カバー部11を夫々設け、各カバー部の各開口部８に開閉自在にＸ線遮蔽体９を設け、Ｘ線検知部３で検知したＸ線に基づいて作成される画像を表示する画像表示手段を備え、Ｘ線照射後の被検査物１を排出する排出作動信号が入力された際、排出側搬送機構７により当該被検査物１を搬送排出すると共に、当該被検査物１の画像を画像表示手段に表示する連動制御機構を備える。 （もっと読む）

【課題】シリコンウェーハの表面におけるＣｕの濃度を測定するＴＸＲＦ法を用いるにもかかわらず、シリコンウェーハ中に固溶しているＣｕの全量、ひいてはバルク領域中のＣｕ濃度を評価する方法を提供する。
【解決手段】シリコンウェーハ中のＣｕ濃度の評価方法であって、熱処理が施されたシリコンウェーハの表面でのＣｕ濃度をＴＸＲＦ法により測定し、前記熱処理においてシリコンウェーハを熱処理炉から取り出すときの温度又は熱処理炉から取り出して冷却するときの冷却速度と、前記測定された表面でのＣｕ濃度の測定値とから、バルク領域中のＣｕ濃度を評価するシリコンウェーハ中のＣｕ濃度評価方法。 （もっと読む）

【課題】 装置の特性変動を好適に低減可能で且つ動作制御が簡便な軽量薄型の撮像装置又はそれを用いた撮像システムを提供する。
【解決手段】 撮像装置は、半導体層を含む変換素子２０１を有する画素を複数備えた検出部１０１と、検出部１０１を駆動する駆動回路１０２と、を含み、電気信号を出力する撮像動作を行う検出器１０４と、変換素子２０１に電圧を供給する電源部１０７と、電源部１０７からの電圧の供給が開始されてから撮像動作が開始されるまでの間の少なくとも一部の期間に半導体層に与えられる電圧が、撮像動作において半導体層に与えられる電圧よりも高くなるように、電源部１０７を制御する制御部１０６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 金属部材の化成処理膜中に含まれる六価クロムを重量濃度で定量する分析方法を提供する。
【解決手段】
分析対象となる検体を研磨シート上に採取した分析試料に励起Ｘ線を照射し、弾性散乱Ｘ線強度を測定する手順と、散乱Ｘ線強度に基づいて分析試料の重量を算出する手順と、研磨シートの接着剤層を有機溶媒中で溶解した溶液をろ過し、ろ過残渣として分析試料を分離する手順と、ろ過した残渣をアルカリ分解液に溶解させた溶液中の六価クロム量を測定する手順と、分析試料の重量に対する六価クロム量の比を六価クロムの重量濃度として算出する手順とを有することを特徴とする六価クロムの分析方法に関する。 （もっと読む）

【課題】小さい分析領域への高い強度のＸ線の照射を図ること。
【解決手段】電子ビーム２の衝突によりＸ線５を放出するアノードターゲット４と、アノードターゲット４に対向する位置に配置され、電子ビーム２を放出する複数のカソード電極１と、電子ビーム２の照射方向を制御する電子光学系と、アノードターゲット４とカソード電極１と電子光学系とを収容する外囲器と、を有するＸ線管を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＣＴシステムなどの撮像システムのための検出器モジュール、およびその検出器モジュールを製造するための方法を提供する。
【解決手段】検出器モジュールは、第１の面３０６および第２の面３０８を有する直接変換センサ３０２のアレイを含む。直接変換センサ３０２の第１の面３０６は、放射線を受け、受けた放射線を対応する電荷信号に変換するピクセルのアレイを形成するセグメント化電極面３１４を含み、第２の面３０８は共通電極面を含む。また、検出器モジュールは、１つまたは複数の直接変換センサに結合している読み出し電子回路を含み、読み出し電子回路は放射線から遮蔽されるように構成されている。さらに、検出器モジュールは、１つまたは複数の直接変換センサに第２の面３０８で結合しているバイアス電圧回路３１０を含む。 （もっと読む）

【課題】テストピースを被検査物が流れるパイプの中に投入しなくても、簡単にＸ線の検
出感度を調整することができるＸ線異物検査装置を提供することを課題とする。
【解決手段】パイプ内を流れる被検査物にＸ線を照射し、透過したＸ線を被検査物の流れ
方向と直交する方向に配置されたラインセンサでもって検出するその検出領域のパイプの
外側に、被検査物の流れ方向に沿って延びるテスト用の線材を設け、その線材を被検査物
の流れ方向と直行する方向に前記ラインセンサと平行を保って移動させるようにする。 （もっと読む）

【課題】第1の測定と第2の測定との間で測定サンプルが大気に触れないようにすることができ、またこれらの複数の測定にかかる時間を短縮化すること。
【解決手段】一つの気密（減圧）容器内に、第１の測定を行う第１の測定部と、第１とは異なる第２の測定を行う第２の測定部とを設ける。試料を取り付けたサンプルホルダの、第１の測定部から第２の測定部への移動は、サンプルホルダ移動手段により行う。 （もっと読む）

【課題】２つのＸ線画像上の被検査物の大きさの違いを、異物検出性能の低下が無視できる程度に低減することができるＸ線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】Ｘ線管３２をその鉛直軸上の位置を調整可能に支持する支持機構７１と、第１のＸ線画像データにおける被検査物Ｗの幅方向の波形である第１の波形と第２のＸ線画像データにおける被検査物Ｗの幅方向の波形である第２の波形とを取得して比較し、第２の波形の幅が第１の波形の幅より大きいときは、Ｘ線管３２の調整方向が鉛直軸上方であると判定するとともに、第２の波形の幅が第１の波形の幅より小さいときは、Ｘ線管３２の調整方向が鉛直軸下方であると判定する調整判定部８１と、調整判定部８１により判定された調整方向を表示する表示器５と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、観測上の精度の限界と消滅則の影響を考慮し、かつ、高速な指数付けを可能とする技術を提供することである。
【解決手段】本発明の情報処理装置は、ｑ値の集合を取得する手段と、ｑ値の集合から、組合せに含まれない他のｑ値を算出可能な第１のｑ値の組合せを取得する手段と、第１のｑ値の組合せと他のｑ値から、結晶格子の逆格子の２次元部分格子の基底に係る第２のｑ値の組合せを取得する手段と、２次元部分格子の基底がそれぞれ共通する第２のｑ値の組合せ同士を関連付ける手段と、互いに関連付けられた第２のｑ値の組合せに含まれる異なるｑ値の数による比較を行う手段と、比較の結果が所定の条件を満たす関連付けに係る第２のｑ値の組合せから、結晶格子の逆格子に係る第３のｑ値の組合せを特定し、該特定した第３のｑ値の組合せから結晶格子の格子定数の候補を取得する手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）