【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに１μｍ〜０．１μｍ等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部１と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Ｆを有し、当該金属薄膜Ｆから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部２と、前記荷電粒子ビーム生成部２から射出された荷電粒子ビームを磁場又は電場により収束して、測定試料Ｓに照射する荷電粒子ビーム収束部３と、前記荷電粒子ビームが測定試料Ｓに照射された際に生じる放射線Ｒを測定する放射線測定部４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに１μｍ〜０．１μｍ等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部１と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Ｆを有し、当該金属薄膜Ｆから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部２と、前記荷電粒子ビーム生成部２から射出された荷電粒子ビームＩＢを磁場又は電場により収束して、測定試料Ｓに照射する荷電粒子ビーム制御部３と、前記荷電粒子ビームＩＢが測定試料Ｓに照射された際に生じる放射線Ｒを測定する放射線測定部４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】絶縁性液体に放射線発生管を浸漬した放射線発生装置において、放射線量を低減することなく、高電圧に対する耐圧性を確保する。
【解決手段】放射線を透過する第一の窓を有し、内部に絶縁性液体が充填された外囲器と、外囲器内に収納され、第一の窓と対向する位置に放射線を透過する第二の窓を有する放射線発生管と、放射線遮蔽部材とを備える放射線発生装置において、外囲器内壁と放射線遮蔽部材との間に固体の絶縁部材を設けることで耐圧性を向上させる。絶縁部材には第一の窓と対向する位置に開口部を形成することで放射線量の低下を防ぐ。また、放射線遮蔽部材から絶縁部材の開口部を介して絶縁部材と交差することなく第一の窓又は外囲器の内壁に至る最短距離を、放射線遮蔽部材から絶縁部材と交差して第一の窓又は外囲器の内壁に至る最短距離よりも長くすることで絶縁部材の開口部における耐圧性低下を抑制する。 （もっと読む）

【課題】２つのＸ線画像上の被検査物の大きさの違いを、異物検出性能の低下が無視できる程度に低減することができるＸ線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】Ｘ線管３２をその鉛直軸上の位置を調整可能に支持する支持機構７１と、第１のＸ線画像データにおける被検査物Ｗの幅方向の波形である第１の波形と第２のＸ線画像データにおける被検査物Ｗの幅方向の波形である第２の波形とを取得して比較し、第２の波形の幅が第１の波形の幅より大きいときは、Ｘ線管３２の調整方向が鉛直軸上方であると判定するとともに、第２の波形の幅が第１の波形の幅より小さいときは、Ｘ線管３２の調整方向が鉛直軸下方であると判定する調整判定部８１と、調整判定部８１により判定された調整方向を表示する表示器５と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】単純な構成で高精度のＮＲＦ分析を行う。
【解決手段】電子加速装置１１１によって、高エネルギーまで加速された電子線１１２が図中右方向に放射される。一方、レーザー光源１２によって発せられたレーザー光１３は、回転式波長板１４を透過し、反射鏡１１３で反射され、電子線１１２中の高エネルギー電子と正面衝突するように設定される。レーザー光１３はＬＣＳガンマ線１５となり、図中右側に発せられる。試料１００における原子核は、このＬＣＳガンマ線１５を吸収し、核共鳴散乱によって、ＮＲＦガンマ線２１を発する。このＮＲＦガンマ線２１は、ＮＲＦガンマ線検出器（ガンマ線検出部）２２で検出される。回転式波長板（偏光方向切替部）１４は、垂直偏光されたレーザー光１３の偏光方向を制御する。特に、レーザー光１３の光軸を変えずに、その偏光方向を垂直な２方向に制御する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で重元素に対する組成分析を行う。
【解決手段】レーザーコンプトン光１００が試料２００に照射される。このレーザーコンプトン光１００及びこのレーザーコンプトン光１００が試料２００を透過した後の透過光１１０がＸ線検出器１２０で検出され、その検出信号がデータ処理部１３０で処理される。このレーザーコンプトン光発生装置２０は、準単色あるいは単色のＸ線をレーザーコンプトン光１００として出力する。ここでは、周回軌道で加速された高エネルギー電子２１とレーザー光２２とが衝突部２３で衝突する設定とされる。レーザー光源２９から発せられたレーザー光２２は、交差角調整部３０でその交差角が制御され、衝突部２３に導入され、高エネルギー電子２１と衝突する。交差角調整部３０によってこの交差角を制御することによって、レーザーコンプトン光１００のエネルギーを制御することができる。 （もっと読む）

【課題】効率的な試料表面検査システムを提供する。
【解決手段】試料の表面を平坦化する表面平坦化機構と、試料上に抵抗膜を形成する抵抗膜コーティング機構と、試料表面の評価を行う表面検査機構を備えている。表面検査機構は、紫外線発生源３０と、電磁波を試料表面に斜め方向から導く光学系と、試料表面から放出された電子を試料表面に直交する方向に導く写像光学系４０と、検出器５０と、画像形成／信号処理回路６０とを備えている。写像光学系は、３つのレンズ系４１〜４３と、アパーチャ４４とを備えている。紫外線源の代わりにＸ線源を用いてもよい。また、電子線源から生成された電子線を試料の表面上に導く装置を設け、電磁波照射装置及び電子線照射装置の一方又は両方を駆動して、電磁波又は電子線の一方又は両方を試料の表面に照射するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線顕微鏡及びＸ線を用いた顕微方法に関し、Ｘ線画像の分解能を向上させることができるＸ線顕微鏡及びＸ線を用いた顕微方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電子ビームＥＢを集束して照射する電子ビーム照射手段と、該電子ビーム照射手段からの集束電子ビームの照射に応じてＸ線発生源となる薄膜１１と、該薄膜１１の第１の面に照射された集束電子ビームによって該薄膜１１から発生するＸ線１３を検出するＸ線検出手段８とを有し、前記薄膜１１の第２の面に接して配置された試料７を透過したＸ線１３を前記Ｘ線検出手段８により検出するように構成する。 （もっと読む）

【課題】サンプリングレートを低減した多重エネルギー撮像を提供すること。
【解決手段】本開示は、単一エネルギー撮像で利用されるレートに匹敵するデータサンプリングレートを用いた２重エネルギーＸ線データ（６２、６４）の生成に関する。本技法によれば、従来の２重エネルギー撮像と比較して利用するｋＶｐ切替速度が低速となる。作成した画像において全角度分解能が達成される。 （もっと読む）

【課題】 異物起因のコントラストのみを明確に判別して過検出及び誤検出を防ぐこと。
【解決手段】 測定試料に含まれる一つの元素のＸ線吸収端より低く、かつ、検出元素のＸ線吸収端より高いエネルギーの特性Ｘ線を試料に照射するＸ線管球１１と、Ｘ線が試料を透過した際の透過Ｘ線を検出するＸ線検出器１３と、透過Ｘ線の透過像からコントラスト像を得る演算部１５と、を備えたＸ線透過装置及びＸ線透過方法とする。 （もっと読む）

【課題】密閉容器においても、非破壊で、被検体の内容物と内容物表示物に記載の内容物との整合性の評価が可能な密閉容器の非破壊検査方法及び非破壊検査装置を提供すること。
【解決手段】検査対象物が密閉容器に収容された被検体に放射線を側面から照射して前記被検体を透過した放射線をイメージセンサにより検出することにより放射線の強度に応じた強度信号を得る第１の信号取得工程と、前記第１の信号取得工程により得られた前記強度信号を処理して前記被検体の検査対象物の画像情報を生成する第１の画像情報生成工程と、前記第１の画像情報生成工程により得られた前記画像情報に基づいて、前記被検体の検査対象物と前記被検体の検査対象表示物に表示された検査対象物との整合性を判断する判断工程と、を有することを特徴とする密閉容器の非破壊検査方法を使用する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の端部付近に小さな異物が混入している場合においても、該異物を検出可能なＸ線検査装置を得る。
【解決手段】搬送コンベア１０によってＹ軸方向へ搬送されている検査対象物１に対してＸ線を照射するＸ線源１１、１２と、Ｘ線源１１、１２のそれぞれに対応し、Ｘ線源１１、１２から検査対象物１に照射され透過したＸ線を検出するＸ線検出器１３、１４とを備えている。Ｘ線源１１は、図１のＺ軸方向であって検査対象物１の上方から、検査対象物１の幅方向の一端部を中心として扇状にＸ線を照射できるように配設されている。Ｘ線源１２は、図１のＺ軸方向であって検査対象物１の上方から、検査対象物１の幅方向の他端部を中心として扇状にＸ線を照射できるように配設されている。 （もっと読む）

【課題】 従来の有機物顕在化方法では、被検査物表面の異物を識別するためには、薄膜を堆積させる時間を多く必要とし、異物を識別させるための作業等が煩雑であった。また、被検査物表面の異物を識別する際には、被検査物を不活性ガスが封入された特別な環境下に置く必要があるため、異物の存在を容易に確認することができなかった。
【解決手段】 基板１の表面に金属薄膜１９を成膜し、金属薄膜１９が成膜された基板１表面に光を照射して、光の干渉により生じる、有機物１４が存在している部分と存在していない部分とのコントラスト差を識別する。 （もっと読む）

【課題】走査装置を通過するコンベヤシステムとの互換性を有し、かつ高速な走査が可能なＸ線検査システムを提供する。
【解決手段】物品を検査するＸ線画像化検査システムは、撮像容積（１６）の周りに延在し、放射されるＸ線が撮像容積を通過できるように配向された複数の点状放射源（１４）を構成するＸ線放射源（１０）を有する。Ｘ線検出器アレー（１２）は同様に走査容積の周りに延在し、点状放射源からの撮像容積（１６）を通過したＸ線を検出し、この検出されたＸ線に基づく出力信号を生成するように構成されている。コンベヤ（２０）は撮像容積（１６）を通過して物品が運ばれるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ビームラインが短く、分解能が高く、且つ短時間で２次元領域の測定が可能な分析装置、特にＸＡＦＳ分析装置又は小角散乱Ｘ線分析装置を提供すること。
【解決手段】荷電粒子発生手段によって生成された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段（１）と、
周回する荷電粒子の周回軌道（１３）上に配置された横長ターゲット（１４）に、周回する荷電粒子を衝突させて発生したＸ線を分光して単色Ｘ線を発生させる分光手段（２）と、
分光手段（２）から出力される単色Ｘ線を測定対象の試料（４）に照射し、試料（４）から出力されるＸ線を測定する測定手段（３）とを備える。 （もっと読む）

【課題】多価イオンを用いて、試料表面の分析を高精度で短時間に行うことができる表面分析装置を提供する。
【解決手段】表面分析装置１は、試料５を搭載する試料台６と、試料台６に搭載した試料５に価数が１５以上の多価イオンビーム４を照射する多価イオン発生源３と、試料５に多価イオンビーム４を照射することにより生じる二次イオン７を検出する質量分析部８と、試料５に多価イオンビーム４を照射することにより生じる二次電子９を検出する二次電子検出部１０と、二次電子検出部１０からの二次電子検出信号を受け分析開始信号を生成し質量分析部へ送信する質量分析制御部１２を、備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】回転装置を設けることなく被検体に対して多方向からＸ線を照射してＣＴ撮影を行うＸ線ＣＴ装置を提供する。
【解決手段】被検体ＨにＸ線１００を照射し、被検体Ｈを透過したＸ線１００を検出することにより被検体Ｈの内部状態を画像化するＸ線ＣＴ装置であって、電子銃と、被検体Ｈの周りに円環状に複数配置され、電子ビームＢが入射すると被検体Ｈに向けてＸ線１００を照射するターゲットコリメータ１５と、電子銃から入射した電子ビームＢを被検体Ｈの周りの円環軌道に沿って偏向すると共に、複数のターゲットコリメータ１５の何れかに順次選択的に電子ビームＢを照射する電子ビーム偏向装置とを具備するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】被検査物を連続的に検査して、短時間にその材質を識別することができ、かつ予めＸ線の検出出力と対象物の厚みとの特性データを求める必要がない材質識別検査装置および方法を提供する。
【解決手段】検査物５を搬送する搬送装置１２と、被検査物に対し、搬送方向に直交する同一断面内で、２以上の異なる方向から、所定のエネルギー分布を有する入射Ｘ線７を、同時又は時間をずらして照射するＸ線照射装置１４と、入射Ｘ線が被検査物を透過した透過Ｘ線８から２以上のエネルギー領域のＸ線強度を弁別して計測するＸ線検出装置１６と、２以上のエネルギー領域における入射Ｘ線と透過Ｘ線の強度から、被検査物の実効原子番号Ｚ_effと電子密度ρ_eを算出し、これから被検査物の材質を識別する演算装置１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は高輝度Ｘ線源を提供することにより、これを用いた高分解能かつ高倍率のＸ線検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、電子放出陰極を有する電子銃と、陽極と、電子レンズと、該電子銃から放出された電子ビームが照射されることによりＸ線を放出するターゲット部とを有するＸ線源であって、該電子放出陰極としてダイヤモンドを用いたことを特徴とするＸ線源であって、該ダイヤモンドが、柱状形状を有し、少なくとも１箇所の電子放出部となる先鋭部を有し、前記先鋭部の先端半径もしくは先端曲率半径が１０μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ基板検査装置において、検査対象である基板のスループットを改善する。
【解決手段】ＴＦＴ基板検査装置は、導入したＴＦＴ基板の基板検査を行う検査室と、この検査室内にＴＦＴ基板を導入するロードロック室と、検査室内からＴＦＴ基板を導出するアンロードロック室とを備える。検査室はロードロック室とアンロードロック室との間で形成される基板の搬送経路上に複数の副検査室を順に連結して構成される。検査室を構成する各副検査室には、基板の搬送方向と走査方向とを一致させて電子銃および検出器を配置し、基板を搬送方向に搬送することで走査を行う。この各副検査室で行う走査は、基板上で行う全走査を複数回に分けて行う分割走査の一つであり、各副検査室で行う分割走査を合わせることで基板上の全走査を行う。 （もっと読む）