【課題】位相型回折格子の機能劣化を低減しつつ加工精度のより高い位相型回折格子の製造方法、該位相型回折格子およびＸ線撮像装置を提供する。
【解決手段】位相型回折格子の製造方法は、シリコン基板３０をエッチングして所定の深さのスリット溝を形成する凹部形成工程と、前記深さの方向における設計値の長さとなるように金属３５をスリット溝内に形成する金属形成工程（図４（Ａ））と、金属形成工程でスリット溝内に形成された金属３５における前記深さの方向の長さを実際に計測する計測工程（図４（Ｂ））と、設計値の位相差を生じさせるように、計測工程で計測された金属３５の実際の長さに応じてスリット溝の側壁に対応する部分における前記深さの方向の長さを調整する調整工程（図４（Ｃ））とを備える。 （もっと読む）

【課題】電子線がろう材に直接照射されない構成とすることで、放射線発生管内部の真空度の低下を抑制し、安定して放射線量を発生させることができ、長時間連続使用可能とする放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置を提供する。
【解決手段】両端が開口した電子通過路８を有する放射線遮蔽部材７を備え、電子通過路８の一端から電子が入射し、電子通過路８の他端側に設けられたターゲット８に電子を照射して放射線を発生させる放射線発生装置であって、電子通過路８の他端側周囲の放射線遮蔽部材７に設けられたターゲット支持面７ｂに、ターゲット９の電子が照射される側の面の周縁がろう接され、電子通過路８の他端側の開口部における断面の径が、電子通過路８の一端における断面の径よりも大きいことを特徴とする放射線発生装置。 （もっと読む）

【課題】 位相シフト法より少ない周期パターンからでも、窓フーリエ変換法より正確に波面情報を算出することが可能な波面測定方法、プログラムとそれを用いた波面測定装置とＸ線撮像装置を提供すること。
【解決手段】 波面測定装置は、光源からの光で光周期パターンを形成する光学素子１４０，１５０と、光学素子からの光を検出する複数の画素を有する検出器１６０と、検出器の検出結果に基づいて被検体を透過した光の波面の複数の位置における波面情報を算出する算出手段１７０と、を備え、被検体の情報を取得する。算出手段は、第１の光周期パターンの検出時に第１の画素が検出した検出結果と、第１の光周期パターン検出時に第１の画素から３画素以内に配置されている第２の画素が検出した検出結果と、第２の光周期パターンの検出時に第１の画素が検出した検出結果と、を用いて、１つの位置における波面情報を算出する。 （もっと読む）

【課題】樹脂片における、臭素の含有有無の評価をより容易に行なえる選別装置および製造方法を提供する。
【解決手段】当該選別装置は、加速電圧が４０ｋＶ以上６０ｋＶ以下の電子ビームにより連続Ｘ線６を照射するＸ線源１と、厚みが５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であるモリブデンで形成されたフィルター１４と、フィルター１４および樹脂片２を透過したＸ線を検出するＸ線検出器と、Ｘ線検出器の検出データに基づいて樹脂片２を選別する制御部とを備える。制御部は、フィルター１４を透過したＸ線について、臭素を含まない、樹脂片２と同一の樹脂にて形成された試験片にＸ線を照射したときのＸ線の透過強度のデータがあらかじめ記憶される記憶部と、フィルター１４および樹脂片２を透過したＸ線の透過強度を上記データと比較することにより、樹脂片２を選別する演算部とを含む。 （もっと読む）

【課題】任意の撮影条件を容易に設定変更し、各々の撮影条件での補正用のパラメータをそれぞれ算出することができる放射線撮影装置および断層画像補正方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ステージ２に校正用ファントムＰｈを埋め込むことで、当該校正用ファントムＰｈを搭載可能にステージ２を構成する。撮影条件を変更したとしても、放射線撮影時に対象物および校正用ファントムＰｈを同時にステージ２に載置することができる。したがって、撮影条件を変更する毎に校正用ファントムＰｈを設置し直すという従来のような煩わしさを解消することができ、任意の撮影条件を容易に設定変更し、各々の撮影条件での補正用のパラメータをそれぞれ算出することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、積層板中に含まれる気泡（空隙）を減らした材料を製造し市場に提供することである。
【解決手段】本発明は、Ｘ線カメラによる検査によって直径３０μｍ以上の気泡を有することがない積層板を製造する製造方法に関するものである。さらには積層板用の樹脂組成物中にＸ線用の造影剤を均一に分散混合することでＸ線カメラによる観測をより容易にし、安価簡便に上記積層板を製造する製造方法に関するものである。また、それらの製造方法を利用して製造される積層板、プリント配線板、多層プリント配線板、及び半導体装置に関するものである。 （もっと読む）

【課題】迅速かつ正確に配線板の不良箇所を特定し、かつその状態を適正に把握することにより配線板の不良解析を高精度で行うことができる装置及び方法を提供する。
【解決手段】独立して検査を行うことができる複数の回路部分を有する配線版をプローブを用いて検査することにより前記複数の回路部分から不良箇所を含む回路部分を検出する不良回路検出手段と、前記配線板の回路情報に基づき前記不良箇所を含む回路部分にＸ線を照射するＸ線照射手段と該Ｘ線照射手段によるＸ線の照射を介して前記回路部分において前記不良箇所を特定し該不良箇所のＸ線画像を取得する画像取得手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】セラミックス製転動体の全体を漏れなく、かつ短時間で検査することが可能な転動体の検査方法、当該検査方法を採用した転動体の製造方法、およびその製造方法により製造された転動体を提供する。
【解決手段】転動体９１の検査方法は、転動体９１に光源１２からＸ線９９を照射する工程と、転動体９１を透過したＸ線９９を検出部１３にて検出する工程と、検出されたＸ線９９のデータを演算して画像を作成する工程と、画像に基づいて転動体９１の欠陥を検出する工程とを備える。そして、Ｘ線９９を照射する工程では、光源１２に対向する転動体９１の領域全体にＸ線９９が照射されつつ、光源１２が転動体９１の周りを相対的に回転し、画像を作成する工程では、転動体９１の周り１周分のＸ線９９のデータが演算されて画像が作成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マイクロＣＴを用いたステント内再狭窄評価方法に関する。
【解決手段】本発明は、血管内部にステントを植え込み、一定期間が経過した後、ステントが植え込まれた部分の血管の再狭窄の具合をマイクロＣＴを用いて定量的に分析し、３次元立体像を得ることにより、より正確な分析が可能なマイクロＣＴを用いたステント内再狭窄評価方法に関する。 （もっと読む）

【課題】ゴム材料中の充填剤の分散状態を、鮮明に観察しうる観察方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料の観察方法であって、走査型透過電子顕微鏡を用いてゴム材料の電子線透過画像を取得する撮像工程と、この撮像工程で得られた画像又はこの画像を加工した二次情報を観察する観察工程とを有し、前記撮像工程は、前記走査型透過電子顕微鏡の焦点を前記ゴム材料の厚さの中央領域に合わせることを特徴とするゴム材料の観察方法である。 （もっと読む）

【課題】モアレのビジビリティ低下を抑制することができ、高画質な位相像や微分位相像を取得することが可能となるトモシンセシス撮像装置及びトモシンセシス画像の撮像方法を提供する。
【解決手段】被検査物内部の奥行き情報を取得するトモシンセシス撮像装置であって、
遮蔽格子は、透過部と遮蔽部とが周期的に配列され、これらの周期が互いに異なる周期を有する、少なくとも２つの部分遮蔽格子の積層によって構成され、
２つの部分遮蔽格子を周期の方向に移動させ、積層による部分遮蔽格子間の各遮蔽部の重なり状態を制御する制御手段を備え、
電磁波源の回転による電磁波源の入射方向に応じて、制御手段により各遮蔽部の重なり状態を制御し、
電磁波源から出射され遮蔽格子の透過部を透過する電磁波が、各遮蔽部による遮蔽を抑制する。 （もっと読む）

【課題】環境制御型透過型電子顕微鏡（ETEM）において、活性雰囲気下でサンプルを評価研究する際に、発生するサンプルのドリフトが取得画像の解像度の制限因子とならないようにする。
【解決手段】ドリフトを避けるため、または抑制するため、サンプルを所望の温度で不活性ガスに暴露し、その後不活性ガスを活性ガスに置換する。光、X線、または走査型プローブ顕微鏡に適用できる。 （もっと読む）

【課題】完全視野（ＦＯＶ）及び限定型ＦＯＶでの撮像能力を提供しつつ、計算機式断層写真法（ＣＴ）システムの費用を削減する。
【解決手段】検出器アレイ１８は、検出器アレイ１８まで、第一のＦＯＶ１２０の外部で第二のＦＯＶ１２２まで通過したＸ線１０８を受光するように配置され、第一の分解能を提供する第一のピクセル・アレイ１１０と、第一のＦＯＶ１２０を通過したＸ線１１２を受光するように配置され、第一の分解能とは異なる第二の分解能を提供する第二のピクセル・アレイ１１４とを含んでいる。システムは、検出器アレイからの出力を受け取るように構成されているデータ取得システム（ＤＡＳ）と、対象の撮像データの投影を取得して、撮像データを用いて対象の画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】重い原子及び軽い原子を同時に観察可能な電子顕微鏡像を生成する画像処理の方法を提供する。
【解決手段】方法は、走査透過型電子顕微鏡により試料を撮像した暗視野像であって、走査透過型電子顕微鏡の光軸からの第１角度と、第１角度よりも大きい第２角度との間に散乱した電子を検出して得られた暗視野像を取得し、この暗視野像と共に撮像された明視野像であって、第１角度よりも小さい第３角度以内に散乱した電子を検出して得られた明視野像を取得し、暗視野像の明暗を反転して反転像を生成し、反転像の各画素の輝度と、反転像の各画素に対応する明視野像の画素の輝度との差を、各画素の輝度とする差分像を生成する。 （もっと読む）

【課題】透過Ｘ線装置で検出した異物の位置の元素分析を蛍光Ｘ線で正確かつ迅速に行えるＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】第１のＸ線源１２と、第１のＸ線源から試料１００を透過した透過Ｘ線１２ｘを検出する透過Ｘ線検出器１４とを有する透過Ｘ線検査部１０と、第２のＸ線源２２と、第２のＸ線源からのＸ線を試料に照射したときに該試料から放出されるＸ線２２ｙを検出する蛍光Ｘ線検出器２４とを有する蛍光Ｘ線検査部２０と、試料を保持する試料ステージ５０と、試料ステージを、第１のＸ線源の照射位置と第２のＸ線源の照射位置との間で相対的に移動させる移動機構３０と、透過Ｘ線検出器にて試料中に検出された異物１０１の位置を演算する異物位置演算手段６０と、異物位置演算手段によって演算された異物の位置が第２のＸ線源の光軸２２ｃに一致するように移動機構を制御する移動機構制御手段６１と、を備えたＸ線分析装置１である。 （もっと読む）

【課題】試料の透過Ｘ線像をＴＤＩセンサで検出する際に、ＴＤＩセンサの積算段数を容易かつ広い範囲で調整することができる透過Ｘ線分析装置及び方法を提供する。
【解決手段】所定の走査方向Ｌに相対移動する試料１００の透過Ｘ線像を検出する透過Ｘ線分析装置であって、透過Ｘ線像に由来する画像を光電変換して生じる電荷を読み出す撮像素子を２次元状に複数個備えた時間遅延積分方式のＴＤＩセンサ１４であって、走査方向に垂直な方向に撮像素子が並ぶラインセンサ１４ａ〜１４ｈを走査方向に複数段並べ、１つのラインセンサに蓄積された電荷を隣接する次のラインセンサへ転送するＴＤＩセンサと、ＴＤＩセンサと試料との間に配置され、走査方向に進退してＴＤＩセンサに入射される画像の一部を遮蔽する遮蔽手段２１と、所定の段数のラインセンサを遮蔽するように遮蔽手段の位置を制御する遮蔽手段位置制御手段と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】小型で取り扱いが簡単なステレオＸ線放射装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管装置は、アノード４の後端よりも更に外側には配置した電磁石７に通電すると瞬時にアノード４の後端を吸着する機構を備える。これにより左右のアノード４,４は軸方向外方に移動する。その結果２つのＸ線発生源間の距離が瞬時に拡大したことになる。 （もっと読む）

【課題】 装置を小型化し、かつ、被検知物によるＸ線の吸収効果を考慮した微分位相像または位相像を得ることが可能なＸ線撮像装置およびＸ線撮像方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線を空間的に分割させ、被検知物に透過させた際に生じるＸ線の位置変化量に応じて、Ｘ線の透過量が連続的に変化するような減衰素子を用いる。一方の減衰素子と、この一方の減衰素子とは透過量の増減量が異なるか、または、増減傾向が異なる他方の減衰素子とを用いて透過率を算出する。この透過率を用いて、被検知物の微分位相像等を演算する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線検出器において暗電流などの暗出力や検出感度の変化に即時に対応して補正を行なうことにより検査対象物の検査精度を向上させることができるＸ線検査装置およびＸ線検査装置用コンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１００は、筐体１０１内に貫通した状態で搬送コンベア１０４を備える。筐体１０１内における搬送コンベア１０４の上方にはＸ線Ｌを照射するＸ線照射器１０５が設けられており、同搬送コンベア１０４の内側にはＸ線照射器１０５に対向した状態でＸ線ラインセンサ１０７が設けられている。また、筐体１０１内の検査対象物ＷＫの搬送経路上におけるＸ線ラインセンサ１０７より上流側には、ワーク検出器１０８が設けられている。Ｘ線検査装置１００の作動を制御するコンピュータ装置１２０は、ワーク検出器１０８が検査対象物ＷＫを検出するごとにＸ線ラインセンサ１０７の暗出力補正および検出感度補正を実行する。 （もっと読む）

【課題】不均一放射照度環境下において検出器ゲイン特性をステッチングおよび線形化する方法を提供する。
【解決手段】不均一放射（平面的なＸ線（光）領域を有する放射源の使用が必要とされない）状況におけるマルチセンサ検出器ゲイン特性のステッチングおよび線形化の手法で、検出器センサの出力信号強度の変換のためのＬＵＴ関数の計算に基づいている。規定されたＬＵＴ関数の適用し、測定精度の範囲内で、同じでかつ線形であるセンサゲイン特性が受信される。ステッチングＬＵＴ関数の計算は、検出器の領域に沿ってゆっくりと変化する不均一Ｘ線（光）を照射し、同じゲイン特性を有する任意の２つの隣接したセンサの応答が、これらのセンサの連結部付近において類似の値を有することを利用する。 （もっと読む）