【課題】マイクロリトグラフィーのための物体の検査を可能にし、短い全長を有する反射型顕微鏡を提供する。
【解決手段】物体平面内での物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡であって、物体は、波長＜１００ｎｍ、特に、＜３０ｎｍの光線で照明され、像平面に拡大して結像され、第１鏡と第２鏡とを含み、物体平面から像平面までの光路内に配置される第１副系とを備える。反射型Ｘ線顕微鏡が光路内で第１副系に後置されて少なくとも第３鏡を有する第２副系を含むことにより特徴付けられる。 （もっと読む）

Ｘ線分光器は解析中の試料からエネルギー分散スペクトルを収集し、試料中に存在し得る候補元素のリストを生成する。その後、波長分散スペクトル収集手段は、候補元素のいくつかまたはすべてのエネルギー／波長においてＸ線強度測定値を取得するように調整され、これによりこれらの候補元素が試料中に実際に存在するかどうかを検証する。さらに、候補元素から選択された１つ（好ましくは、試料中にその存在が検証されたもの、または試料中に存在する可能性が高いもの）のエネルギー／波長に波長分散スペクトル収集手段を調節し、次に、波長分散スペクトル収集手段が選択された候補元素の最大強度測定値を戻すまで波長分散スペクトル収集手段と試料との位置合わせを変更することにより、波長分散スペクトル収集手段と試料との位置合わせを最適化することができる。次に、他の候補元素の強度測定値はこの最適化された位置合わせにおいて収集される。
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【課題】ハードウエアの追加を伴わない簡単な構成で、Ｘ線照射の絞りを変更するためのＸ線遮蔽板の位置ずれを検知する。
【解決手段】設定されているものと異なる絞り孔４ａ〜４ｄの選択が指示されると、制御部１０は現在の絞り孔に応じた数のパルス信号をパルスモータに送ってＸ線遮蔽板４をホームポジションＰ２に戻し、その後、センサ１３により原点位置Ｐ１に来たことが検出されるまでパルス信号を計数しつつパルスモータを駆動する。その計数値と規定数との差が許容値以下であるか否かを判定し、許容値を超えている場合、ホームポジションが適切でなく元のＸ線遮蔽板４の位置が異常であると判断して表示部１２にエラー表示を行う。また、絞り孔の変更がない場合でも規定回数毎に同様の異常検知を実行することで、絞り孔の位置がずれた状態で取得された可能性のある信頼性のないデータの棄却を可能とする。 （もっと読む）

【課題】表面に酸化膜を有する溶融亜鉛系めっき鋼板、電気亜鉛系めっき鋼板及び冷延鋼板について、表面の酸化物厚さを、既存手法より簡便・迅速、かつ正確に評価できる品質管理方法及び前記鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】溶融亜鉛系めっき鋼板の表面に０．１〜５ｋＶのなかから選ばれる加速電圧で加速された電子ビームを照射し、表面から発生する２次電子量に対応した信号強度を測定して信号強度数値として数値化する数値化ステップと、得られた信号強度数値が所定範囲に入るか否かにより、前記溶融亜鉛系めっき鋼板がその表面に所定性状の酸化膜を有しているか否かを判定する判定ステップとを有することを特徴とする、表面に酸化膜を有する溶融亜鉛系めっき鋼板の品質管理方法。 （もっと読む）

【課題】
取得画像の像質や分解能の劣化を防ぐことができる走査型電子顕微鏡、および走査型電子顕微鏡の画像の改良方法を提供する。
【解決手段】
試料に電子ビームを照射し該試料から発生する二次信号の情報を画像化する走査型電子顕微鏡において、前記電子ビームを前記試料で走査する走査信号を補正する補正データを格納する記憶部と、該記憶部へ格納された補正データを用いて前記走査信号を補正する補正回路と、該補正回路で補正された走査信号を用いて得られた画像を表示するディスプレイとを備え、該ディスプレイには、さらに、前記補正データに基づいて生成された補正データ波形が表示される。 （もっと読む）

【課題】繊維シートに含まれる、アニオン系官能基を有する高分子量物質からなる添加剤を簡便にかつ精度よく定量する方法を提供すること。
【解決手段】測定対象となる繊維シートを、多価金属イオンを含む水溶液に浸漬して繊維シートに含まれるアニオン系添加剤中のアニオン系官能基に多価金属イオンを結合させる。繊維シートを前記水溶液から引き上げ、余剰の多価金属イオンを洗浄除去する。添加剤中のアニオン系官能基に結合した多価金属イオンの量を測定し、その測定値と、前記添加剤の分子量、式量又は単位重量あたりのアニオン系官能基含有量とに基づき、繊維シートに含まれる前記添加剤の量を算出する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、物品に必要であるが、その位置を特定できない必要部品を、異物として誤検出することなく、異物混入検査を行うことができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源からのＸ線を物品に照射し、該物品を透過する透過Ｘ線をＸ線検出器で受け、前記透過Ｘ線を画像処理手段により画像処理し、物品を検査するＸ線検査装置であって、
前記透過Ｘ線に基づき前記物品に備えるべき必要部品の存在有無を判定し、
前記必要部品が存在すると判定される場合には、その存在領域を自動設定し、
前記存在領域とそれ以外の領域の検査条件を異ならせて、前記物品内における異物検出を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】起動から検出器が安定状態になるまでの無駄な待機時間を短縮するとともに、検出器が不安定である状態での無駄なデータ収集を防止する。
【解決手段】起動時には検出器３でノイズが多く発生するためプリアンプ４で生成される階段状の電圧パルス信号の傾斜は急でリセットパルスＲＳＴの時間間隔ｔは狭いが、検出器３が安定状態になってノイズが減ると時間間隔ｔは広がる。そこで、リセットパルスＲＳＴの発生の間隔をパルス間隔測定部１１により計測し、判定部１２はその計測された時間間隔ｔが所定の閾値ｔ１を超えたならば表示部１３に指示を与え、分析可能状態になったことを知らせる表示を行う。これにより、無駄な待機時間がなくなり、確実に検出器が安定状態となった後に分析を実行することができる。 （もっと読む）

【課題】使用時に冷却空気が筐体内に供給されるＸ線異物検出装置において、筐体内の圧力が上昇せず、内部の熱を効率的に排出でき、清掃時に筐体内へ水分が浸入しないようにする。
【解決手段】Ｘ線異物検出装置１では、温度センサ１４で検出した筐体３内の温度が所定温度以上である時、制御手段１０が制御弁１３を開として筐体３内にボルテックスチューブ１１で冷却空気を供給し、Ｘ線発生手段７を冷却する。同時にアクチュエータ２０が作動されて扉１６が駆動され、筐体３の排気口１５が開放される。筐体内の圧力上昇が抑えられ、排気によって冷却効率が向上する。不使用時にはアクチュエータは作動せず扉が排気口を閉止するので清掃時に内部に水が入ることはない。 （もっと読む）

【課題】
電子線を応用した検査装置では、電子像を取得して欠陥の有無を判定していたため、画像の取得時間や画像データの転送速度、画像処理の速さなどで検査速度の向上に限界が生じていた。
【解決手段】
電子レンズ１１１の後焦点面に形成される回折スポットのうち、試料１０４から垂直に反射される電子が形成する部分を遮蔽物１１７で遮蔽し、その他の反射電子線を検出器１１２で検出し、その積分強度を入出力装置１１５でモニタすることにより異物や欠陥の判定を行う。 （もっと読む）

【課題】摩擦材の分析方法に関し、摩擦材の構成をより正確に分析可能な技術を提供する。
【解決手段】摩擦材の解析方法であって、前記摩擦材からなる試料に対してＸ線を照射し、該摩擦材の構成要素に関する構成情報を取得する取得ステップと、前記取得ステップで取得された構成情報に基づいて、前記摩擦材の構成要素を視覚的に写し出す出力ステップと、を備え、前記取得ステップでは、前記摩擦材からなる試料に対して焦点寸法が１μｍ未満のＸ線を照射することで、該摩擦材を構成する材料と該摩擦材の内部に存在する空隙とを含む該摩擦材の構成要素に関する構成情報を取得する。 （もっと読む）

少なくとも即発ガンマ線および中性子を発生させる入射ハドロンビーム（１０）による上記標的（２０）の衝突における、上記標的（２０）の領域（２５）が受ける局所線量をリアルタイム測定する方法であって、上記標的（２０）から放出される粒子は、上記標的（２０）の上記領域（２５）をコリメートすることによって、かつ上記標的（２０）における測定される上記領域（２５）から距離Ｌの位置に検出器（４５）を配置することによって、測定される方法。上記検出器（４５）は、粒子エネルギーおよび粒子飛行時間を測定する上記手段を有しており、上記検出器（４５）が受けた即発ガンマ線の数は、記録された事象を選択することにより決定され、即発ガンマ線についての空間情報を提供するために、上記標的（２０）よりも前の入射ハドロンビーム（１０）中に配置されている、二方向性荷電粒子検出システムが、入射ハドロン（１０）の横断位置を取得するように用いられる。
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【課題】複数の検査パターンを積算して行う欠陥検査を、一つの検査パターンによって行い、ＴＦＴアレイ検査の検査時間を短縮する。
【解決手段】荷電粒子ビームをＴＦＴアレイ上で走査して走査画像を形成し、走査画像から欠陥ピクセルを検出する走査ビーム検査装置であって、走査制御部と、二次電子を検出する検出器と、検査信号を印加する検査信号印加部と、検査信号を印加したＴＦＴアレイを二次元的に走査して走査画像を形成し、走査画像から各ピクセルの信号強度を検出する信号強度検出部と、信号強度をデータ処理することによって欠陥ピクセルを抽出するデータ処理部とを備える。データ処理部は、ピクセルの信号強度を複数の閾値と比較し、信号強度が、複数の閾値で区分される正常強度範囲と欠陥強度範囲の何れの強度範囲にあるかを検出する比較部と、信号強度が欠陥強度範囲にあるピクセルを欠陥ピクセルとして判定する判定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程途中のウエハを検査する技術として、回路パターンに電圧および温度等の電気的負荷をかけて信頼性評価を行う半導体検査方法を提供する。
【解決手段】半導体製造工程途中の回路パターンを含むウエハに対して、電子線を所定の時間照射して、回路パターンを所定の帯電電圧に帯電させる工程（ステップ９９）と、レーザー照射等により回路パターン周りの領域を所定の温度に制御する工程（ステップ１０６）とにより、回路パターンに電気的負荷を印加する。そして、電気的負荷印加の前後において、回路パターンを含む領域に電子線を照射することで二次電子画像を取得し（ステップ９０）、この電気的負荷印加の前後の二次電子画像を比較判定することで、回路パターンおよびそれを含むウエハを検査する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の外周面に存在する不純物を簡易的に分析する方法を提供する。
【解決手段】測定対象となる半導体基板４を分割構造のステージ２で挟持し、半導体基板４の外周面とステージ２の外周面とで、半導体基板４の外周面を中心とする平坦部Ｆを形成する。半導体基板４の外周面とステージ２の外周面とで形成された平坦部ＦにＸ線を全反射条件で照射し、半導体基板４の外周面から発生した不純物の蛍光Ｘ線を検出する。蛍光Ｘ線の検出結果に基づいて半導体基板４の外周面の不純物による汚染状態を評価する。 （もっと読む）

放射線透過データおよび特に物体の画像を、構成要素の物質の相対的な比率についての一部のデータが導き出され得る方法にて取得するための方法および装置を記載する。放射線源のスペクトル内の複数の周波数全体に亘って透過強度を分解することができる放射線源および放射線検出器システムが、各々のこのような周波数についての透過強度データを生成するために用いられる。少数の予期される構成要素の物質のために、その構成要素の物質に関して、指数減衰法、すなわちｌ／ｌ_０＝ｅｘｐ［−（μ／ρ）ρｔ］によって与えられる関係に適合させ、かつ、構成要素の物質から、強度データアイテムを生成する透過経路内の各々の要素の物質の相対的な比率の指標を導き出すために、測定されたデータが、個々で、または集合的に、質量減衰データを保存する質量減衰データライブラリと数値的に比較される。画像は分解された透過強度データから生成されてもよい。 （もっと読む）

【課題】
試料上の欠陥を，画像取得手段を用いて短時間に多数の欠陥観察を行う方法において，第１の倍率で撮像した画像から誤検出なく欠陥位置を特定し，第２の倍率での撮像を可能とする。
【解決手段】
試料上の欠陥を観察する方法において，画像取得手段を用いて第１の倍率で前記欠陥を含む欠陥画像を撮像し，欠陥画像から欠陥を含まない参照画像を合成し，取得した欠陥画像と合成した参照画像とを比較して欠陥候補を検出し，該欠陥候補を欠陥と正常部に識別する処理を行い，欠陥と識別された部位のみを第２の倍率で撮像するように装置を構成した。 （もっと読む）

【課題】セメント硬化体中のひび割れ等の空隙部を、精度良く検出する方法を提供する。
【解決手段】セメント硬化体に存在する空隙部に、有機ハロゲン化合物を溶解又は混合した樹脂液を含浸させて硬化させた後、表面を研磨し、電子線マイクロアナライザーにより、該有機ハロゲン化合物由来のハロゲン原子の分布状態を分析することを特徴とするセメント硬化体中の空隙部を検出する方法。 （もっと読む）

【課題】
エネルギー損失量と測定位置情報の二軸で形成される電子エネルギー損失スペクトル像について、各測定位置間での電子エネルギー損失スペクトルの相違点を高効率かつ高精度に補正する透過型電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
電子分光器を備えた電子顕微鏡の電子エネルギー損失スペクトル像の補正システムであって、基準スペクトル像に含まれる基準位置のスペクトル及び基準位置以外のスペクトルの相違点に基き、分析対象試料のエネルギー損失スペクトル像の各測定位置のスペクトルを補正することを特徴とする補正システム。 （もっと読む）

【課題】対象物の断層像にアーチファクトがあっても、それに伴う誤差を生じることなく、正確にポリゴンデータを作成して対象物の３次元画像を正しく表示することのできる３次元画像化方法を提供する。
【解決手段】ＣＴ撮影等により得られた対象物の３次元濃度データを、あらかじめ設定されている一律のしきい値Ｓｔを用いてポリゴンデータを生成する前に、以下の修正を加えることで、アーチファクト等の影響をなくす。３次元濃度データから、仮のしきい値を用いて輪郭（境界）を抽出してその輪郭上の画素ａを順次選択し、その画素ａを通り対象物像の略法線方向の軸に沿い、その軸の周辺所定領域の画素の濃度値を積算して得られるプロファイルを作成して微分することによって当該プロファイルのピーク値を求め、そのピーク位置の濃度値Ｓｐと上記しきい値Ｓｔとの差を算出し、選択された画素ａと周辺の画素の濃度値を、しきい値Ｓｔに近づくように修正する。 （もっと読む）