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Fターム[2G001FA04]の内容

Fターム[2G001FA04]に分類される特許

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【課題】本発明はX線分析方法及び装置に関し、ステージ走査でも良好なドリフト補正を行うことができるX線分析方法及び装置を提供する。
【解決手段】試料上の面分析領域の内部を複数のブロックに分けて、ブロック内での各ラインのステージ走査に基づく特性X線の測定が第1ブロックから各ブロック毎に順次行うようにされており、各ブロックにおいて最初に走査が行われるラインについてのステージ走査の開始前に、試料の電子線走査画像を取得し、第2ブロック以降における特性X線の測定開始時においては、当該ブロックにおいて取得された電子線走査画像と、その直前のブロックにおいて取得された電子線走査画像との照合を行って、ステージのドリフト量を求め、該ドリフト量に基づいて電子線のビームシフトを行うことにより、試料上での電子線の照射位置を補正してから当該ブロック内での特性X線測定を開始するように構成する。 (もっと読む)


【課題】非破壊かつ高空間分解能で、試料の表面付近に存在する軽元素の面内分布を測定する。
【解決手段】試料10にイオンビーム13を間欠的に入射させ、試料から放出されるイオン・粒子をその入射に同期して検出14する、すなわち飛行時間分析することによって、試料表面に存在する軽元素(特に水素、リチウム)の分析を行う。また、試料表面の各点での分析結果をマッピングすることで、試料表面における注目元素の空間分布を可視化して表示することができる。 (もっと読む)


本発明は、ハドロンビームの線量測定モニタリング用のデバイスに関する。本デバイスは、ガス充填ギャップによって互いに分離されたn+1個の平行な検出器プレートの組又は積層体によって得られたn個の連続的なイオン化チャンバiを備える。各検出器プレートは、バイアス電圧側面を備えたバイアス電圧部分から絶縁された収集側面を備えた収集部分を有し、収集側面が次の検出器プレートのバイアス電圧側面と向き合うように又はその逆になるように配置される。各検出器プレートは、m個の物質層Lを備える。これら検出器プレートの結果物のアセンブリは、複数のイオン化チャンバセルを形成する。各検出器プレートを構成する各層Lの厚さl及び物質の選択並びにイオン化チャンバセルiのギャップは、各イオン化チャンバセルiに対して本願明細書で定義される(式2)を満たすように選択されることを特徴とする。
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【課題】高放射線量と測定回路の高ゲイン設定を両立させ、放射線透過画像データから断層画像を高画質に再構成できることにある。
【解決手段】放射線撮影装置11は、放射線検出器2の複数のチャンネルの内、その一部において放射線源から照射される放射線を遮蔽する遮蔽体74を備える。制御演算装置12の格納装置31は、放射線源1と放射線検出器2との間に被検体74が設置されてない状態における、放射線検出器2のリファレンスチャンネル以外の各チャンネルの出力I0(u,v)と、リファレンスチャンネルの出力I_refとの比(I0(u,v)/I_ref)からなるチャンネル定数k(u,v)を格納する。画像再構成装置22は、チャンネル定数k(u,v)に、リファレンスチャンネルの出力値I_refを乗じ、被検体が設置された状態における各チャンネルにおける出力I(u,v)で除したものを、対数変換したものとして、各チャンネル(u,v)の減衰率a(u,v)を算出する。 (もっと読む)


【課題】ピーク判定精度を維持したまま、なだらかな形状のスペクトルピークに対してピークと判定するスペクトルのピーク位置判定方法および分析装置を実現する。
【解決手段】ピーク位置判定手段57により、2次微分値情報53の極小値の絶対値が閾値T2を越えないで誤差範囲に含まれると判定される際にも、さらに一次微分値の隣接する極大値および極小値の差分の大きさが閾値T1を越えるかどうかを判定し、越える際には2次微分値情報53のこの極小値を、スペクトルピークと判定するので、急峻なピークと共になだらかなピーク形状を有するスペクトルピークも、判定精度を維持したまま検出することを実現させる。 (もっと読む)


【課題】本発明は粒子解析及び装置に関し、分類ミスが起こらず、スループットを上げることができる粒子解析方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】調整されたビーム電流のもとで、元素分析に必要な第1の計数時間を決定し、このビーム条件で輝度調整視野の画像信号を取得して制御装置にて基準となる第1のヒストグラムを作成すると共に基準X線強度を得、該第1のヒストグラムより粒子検出に適した第1の閾値を決定し、試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、制御装置により前記第1の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、検出粒子に順次ビームを前記第1の計数時間照射し、X線検出器にて特性X線を取得し、制御装置による粒子分類を行なうように構成される。 (もっと読む)


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