【課題】 本発明は、蛍光X線分析(XRF)装置に関する。
【解決手段】 XRF装置は、アナライザ結晶(6)とシリコンドリフト検出器(34)の両方を用いる。この組み合わせを利用することにより、バックグラウンド及びピークの重なりに関する問題を緩和することができる。 （もっと読む）

【課題】コンタクトホール等の半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ上の欠陥を検査し、ドライエッチングによる非開口欠陥等の欠陥の位置や欠陥の種類等の情報を高速に取得し、得られた欠陥情報から欠陥の発生プロセスや要因の特定を行ない、歩留まりを向上やプロセスの最適化の短期化を実現する方法の提供。
【解決手段】半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ１８に１００ｅＶ以上１０００ｅＶ以下の照射エネルギ−の電子線を走査・照射し、発生した２次電子の画像から高速に欠陥検査を行う。二次電子画像取得前にウエハ１８を移動させながら高速に電子線を照射し、ウエハ１８表面を所望の帯電電圧に制御する。取得した二次電子画像から欠陥の種類の判定を行ない、ウエハ１８面内分布を表示する。 （もっと読む）

測定ウィンドウ全体にわたる変数の変化を推定する方法であって、測定ウィンドウの間に変数の複数のサンプルを採取するステップ、各サンプルと対応づけられる重みを定義するステップであって、該重みは測定ウィンドウ内でサンプルの位置の関数として変動する前記ステップ、変数の変化の推定値を形成するために、サンプルを、それらの重みを考慮して処理するステップを含む、前記方法。
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【課題】照射手段および検出手段、または、被検体を回転軸周りに回転移動させる際に被検体の体軸が照射軸上にない場合であっても、検出手段に入射する電磁波の強度が検出手段のダイナミックレンジを超過することを抑制することができる断層撮影装置を提供する。
【解決手段】被検体ＭとＸ線管１との間に、端部の減衰度が高いウェッジフィルタ１３を設け、移動機構１５によってＸ線管１に対して相対的にウェッジフィルタ１３を移動させる。よって、被検体Ｍが照射軸Ａからずれていても、ウェッジフィルタ１３によってＦＰＤ３のダイナミックレンジを超える強度のＸ線が入射することがない。また、ウェッジフィルタ１３の端部がＦＰＤ３に投影されることがないのでＸ線の強度が急峻に変化してしまうこともない。さらに、ウェッジフィルタ１３は単一であるので移動機構１５も簡略にできる。 （もっと読む）

【課題】 測定が困難なγ-Fe₂O₃を精度良く定量する鉄鉱石中のγ-Fe₂O₃量の測定方法を提供する。
【解決手段】 (1)鉄鉱石の示差走査熱量測定または示差熱分析により測定された温度-示差熱曲線における650〜750℃の温度範囲で観測された発熱ピークの面積を基に、鉄鉱石中のγ-Fe₂O₃量を求める、(2)先ず、鉄鉱石のX線回折分析により測定されたX線回折パターンにおける回折角29.8〜30.5゜または42.9〜43.7゜で観測される回折ピークの強度からFe₃O₄及びγ-Fe₂O₃の総量を求め、次に、JIS M8213に準じて測定された前記鉄鉱石中の酸可溶性鉄(II)からFe₃O₄量を求め、前記Fe₃O₄及びγ-Fe₂O₃の総量と前記Fe₃O₄量から鉄鉱石中のγ-Fe₂O₃量を求める、または、(3)鉄鉱石を大気中で400〜650℃の温度で加熱処理した後、該鉄鉱石のX線回折分析により測定されたX線回折パターンにおける回折角29.8〜30.5゜または42.9〜43.7゜で観測される回折ピークの強度からγ-Fe₂O₃の総量を求める。 （もっと読む）

【課題】
ナノ薄膜積層体の膜厚と界面幅を、測定範囲１mm以下の領域で、計測可能な微小部積層構造検査装置を提供する。
【解決手段】
Ｘ線源と試料の間に、分光素子と集光素子があり、Ｘ線源で発生したＸ線を分光素子で単色化し、集光素子により試料位置で、水平方向と垂直方向のＸ線束の大きさが１０μｍ以下と１mm以下に集光して試料に照射する、分光素子と試料の間にある薄膜散乱体で散乱された入射Ｘ線のエネルギーと強度を散乱Ｘ線検出器で測定し、試料で鏡面反射されたＸ線を反射Ｘ線検出器で測定する、そして散乱Ｘ線検出器と反射Ｘ線検出器の出力を入れることで、入射Ｘ線と計測する反射Ｘ線のエネルギーを一致させて、散乱Ｘ線と反射Ｘ線の強度を計数するエネルギー同期計測装置を有し、入射Ｘ線のエネルギーを変えながら、試料からの蛍光Ｘ線の影響のない反射率を測定する微小部積層構造検査装置。 （もっと読む）

【課題】 波長分散形Ｘ線分光器（ＷＤＳ）とエネルギー分散形Ｘ線分光器（ＥＤＳ）を同時に装着した装置において、ＷＤＳで検出されたＸ線の波高分布をリアルタイムに得ることを可能とし、ＷＤＳの波高分析器の条件設定を簡単に行えるようにする。
【解決手段】 ＷＤＳのＸ線検出器に接続されている信号処理回路からの出力信号を、ＥＤＳ用として構成されているマルチチャンネルアナライザに入力できるように切換スイッチを設ける。ＷＤＳの信号処理回路の出力を、マルチチャンネンルアナライザに入力するために必要なマッチング処理を行った後、マルチチャンネンルアナライザで波高識別して積算する。波高分布をＥＤＳスペクトル表示装置に表示する。表示された波高分布からＷＤＳの波高分析器の条件を設定すると、ＷＤＳ用として構成されているシングルチャンネルアナライザの条件が自動的に設定される。 （もっと読む）

【課題】 障害物との干渉を高精度に検出することができ、しかも各回転部の動作範囲を広げかつ自由度の高い回転動作を実現する。
【解決手段】 ω回転台１３およびκ回転台１４の回転角度をそれぞれ検出するとともに、これら各回転台１３，１４に関し、あらかじめ回転可能角度領域および回転規制角度領域を相対的に設定しておく。そして、検出された各回転角度情報を、あらかじめ設定した回転可能角度領域および回転規制角度領域と対比して、当該対比結果に基づき検出対象となっている各回転台１３，１４の回転動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】 対象物の種類ごとに空間分解能の高い二次元分布像を得ることができる方法及び装置、生体組織の構成物に由来する二次イオンの生成を効率よく行え、生体組織の構成物の分布状態を高い感度で測定するための方法および装置、更には、生体組織構成物の分布状態を定量性よく測定するための方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 対象物に関する情報を飛行時間型二次イオン質量分析法を用いて取得する取得する際に、対象物のイオン化を促進するための物質を用いて対象物のイオン化を促進して対象物を飛翔させる。 （もっと読む）

本発明は、測定時間として設定した時間後でないと濃度の計算結果が得られないという従来の蛍光Ｘ線分析の問題点を解決するものである。
本発明の蛍光Ｘ線分析方法および蛍光Ｘ線分析装置は、試料の測定条件の設定を行った後測定を開始し、試料に含まれている元素の測定濃度と測定精度の計算を行い、この測定精度が予め定めた測定条件を満たす値となったときに測定を終了し、そのときの濃度を出力するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドなどに用いられる金属多層膜の構造評価に有効な、金属多層膜のＸ線反射率プロファイルの新しい解析法を提供する。
【解決手段】 金属多層膜のＸ線反射率プロファイルの解析のための各層の膜厚の初期値ｔ₁ ⁱ 〜ｔ₃ ⁱ として、蛍光Ｘ線測定から求めた各層の膜厚を用いるようにする。この初期値ｔ₁ ⁱ 〜ｔ₃ ⁱ としては、蛍光Ｘ線測定により得られた各層の付着量Ｆ₁ 〜Ｆ₃ を各層の材料の理論密度ρ₁ ⁱ 〜ρ₃ ⁱ で割って算出した値を採用するのが有利である。 （もっと読む）