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Fターム[2G001GA01]の内容

Fターム[2G001GA01]に分類される特許

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【課題】欠陥周辺に圧痕マーキングを行う際、試料の膜種によらず、一定の条件で行うと、周囲が割れてマーキングや欠陥が見にくくなったり、マーキングが小さすぎて見にくくなるという問題があった。また、パターン付きウェーハではマーキングに適さない方の膜上にマーキングしてしまうという問題があった。
【解決手段】マーキング予定位置を元素分析し、その結果に基づいて、圧子の荷重、下降速度、深さ等の圧痕マーキングの条件を変えることにより、膜種に適したマーキングを行う。また、登録された膜種と断定できない場合、手動設定に切り替えることにより、間違えた条件でマーキングすることを防ぐ。マーキングに適さない材質の場合、マーキングを施さないようにすることもできる。 (もっと読む)


【課題】測定感度および測定精度が高く、効率の良い、半導体ウェハプロセス用希ふっ酸溶液の不純物分析方法を提供すること。
【解決手段】希ふっ酸溶液を浸漬槽から採取するA工程と、液中のSiの質量数28、Pの質量数31およびPO不純物の質量数47の質量スペクトル強度を計測するB工程と、採取した希ふっ酸溶液を乾燥濃縮して固形化するC−1工程、この固形物中のSi、P、PO元素の真空中でのエネルギー強度を測定するC−2工程と、前記固形物の真空中での質量スペクトル強度を計測するC−3工程、C−3工程で求めた目的の不純物の質量スペクトル強度とマトリックス質量のスペクトル強度とを合わせたスペクトル強度と目的の不純物の質量スペクトル強度との強度比を求め、この強度比によって前記B工程で求めた質量スペクトル強度を補正して、希ふっ酸溶液中のSi、P,POの真の不純物量を求める。 (もっと読む)


【課題】XPS法を用いた化学状態分析において、内殻スペクトルのピーク形状が非対称であっても、表面の化学状態を定量的に評価できる導電性材料表面化学状態の定量的評価方法を提供する。
【解決手段】表面に官能基修飾処理が施されていない導電性材料について、XPS法によって構造の異なる2種類以上の内殻スペクトルそれぞれをXY座標に表示する第一工程と、第一工程においてXY座標に表示された内殻スペクトル全ての内殻スペクトルに当て嵌まるように、それら内殻スペクトルをXY座標の2以上の対称な関数に分解し、それら2以上の対称な関数の和によってXY座標に表示された非対称なピーク関数を定義する第二工程と、測定対象の導電性材料について、非対称なピークを第二工程において定義された非対称なピーク関数を用いて分解し、そのピーク関数のXY座標の面積の和を非対称なピーク面積として算出する第三工程とを含む導電性材料表面の定量的評価方法である。 (もっと読む)


【課題】試料作製装置及び試料作製方法において、簡便な方法により加工対象の試料の膜厚を測定すること。
【解決手段】試料Sに第1の加速電圧の電子線EBを照射し、試料Sから発生する第1の二次信号Is1を取得するステップと、試料Sに第2の加速電圧の電子線EBを照射し、試料Sから発生する第2の二次信号Is2を取得するステップと、第2の二次信号Is2と第1の二次信号Is1との比Is2/Is1を算出するステップと、比Is2/Is1が試料Sの膜厚tに依存することを利用し、比Is2/Is1に基づいて膜厚tを算出するステップと、算出した試料Sの膜厚tに基づき、膜厚tが目標膜厚t0となるのに要する試料Sの加工量を算出するステップと、試料SにイオンビームIBを照射して上記加工量だけ試料Sを加工して、膜厚tを目標膜厚t0に近づけるステップとを有する試料作製方法による。 (もっと読む)


【課題】結晶構造を有する試料から発生する散乱線および不純線を抑制し、回折X線を回避することができるX線分析装置等を提供する。
【解決手段】本発明のX線分析装置は、試料Sを試料Sの所定点周りに回転させながら1次X線2を照射し、試料Sから発生する2次X線4の強度を試料Sの回転角度と対応させた回折パターンを取得して記憶し、回折パターンを、2次X線4の強度を示す直線で強度の高低方向に走査しながら、直線が示す強度以下の強度をもつ回折パターン上の点を候補点とし、隣接する候補点間の回転角度差の最大値が所定の角度になったときに走査を止めて候補点の回転角度を記憶し、試料Sの測定点の座標に応じて、記憶した候補点の回転角度の中から測定点の座標に最も近い回転角度を読み出し、読み出した回転角度に試料Sを設定するとともに、試料Sの測定点を検出器7の視野V内に配置する。 (もっと読む)


【課題】位相イメージングにおいて、ノイズが低減された高品位の位相像あるいは微分位相像を生成可能な技術を提供する。
【解決手段】干渉パターンのデータからx方向とy方向の微分位相データを抽出し、抽出されたx方向の微分位相データをx方向に関して微分しx方向の二階微分位相データを算出し、y方向の微分位相データをy方向に関して微分しy方向の二階微分位相データを算出する。そして、x方向とy方向の二階微分位相データを関数として含む二階微分方程式を解くことによって、被検体の位相像のデータを算出する。 (もっと読む)


【課題】測定時間を短くすることができ、且つ簡易な構成で完全分光を実現することができるX線分光検出装置を提供する。
【解決手段】X線分光検出装置1Aは、X線若しくは電子線の照射によって該試料10表面における直径100μm以下の微小分析点Pから放射された特性X線2を波長毎に分光して検出する。X線分光検出装置1Aは、分光結晶20及び二次元X線検出器30を備える。分光結晶20は、微小分析点Pから放射された特性X線2を受ける平坦な回折反射面20aを有し、特性X線2に含まれる波長成分のうち該回折反射面20aへの入射角に応じた波長成分を回折反射することにより、特性X線2を波長毎に分光する。二次元X線検出器30は、分光結晶20において回折反射した特性X線2を受ける受光面30aを有し、該受光面30aに入射した特性X線2の入射位置および強度に関するデータを生成する。 (もっと読む)


【課題】分析精度の高い分析装置を提供する。
【解決手段】イオンビームを試料10に照射するイオン照射部と、試料から第1の方向106に散乱する散乱イオンを通過させるための第1の開口部34aと、試料から第1の方向と異なる第2の方向114に散乱する散乱イオンを通過させるための第2の開口部34bとが形成された制限板24と、制限板の第1の開口部を通過した散乱イオンと、制限板の第2の開口部を通過した散乱イオンとに対して磁場を印加する磁場印加部28と、磁場印加部により偏向された各々の散乱イオンを検出するイオン検出部30とを有している。 (もっと読む)


【課題】長期間にわたって使用できるとともに、正確なドリフト較正をすることができる、液体試料の蛍光X線分析用の較正試料等を提供する。
【解決手段】本発明の較正試料20は、液体試料Sの蛍光X線分析において、分析対象金属元素の測定X線強度の経時変化を較正するための固体の較正試料20であって、分析対象金属元素を含む金属層21と、水素、ホウ素、炭素、窒素、酸素およびフッ素のうち少なくとも1つの軽元素を最大のモル分率とする厚さ1mm以上の軽元素層22と、が重ねられて形成され、金属層21において、軽元素層22との対向面の反対側の面を分析面23とする。 (もっと読む)


【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに1μm〜0.1μm等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部1と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Fを有し、当該金属薄膜Fから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部2と、前記荷電粒子ビーム生成部2から射出された荷電粒子ビームIBを磁場又は電場により収束して、測定試料Sに照射する荷電粒子ビーム制御部3と、前記荷電粒子ビームJBが測定試料Sに照射された際に生じる放射線Rを測定する放射線測定部4と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに1μm〜0.1μm等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部1と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Fを有し、当該金属薄膜Fから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部2と、前記荷電粒子ビーム生成部2から射出された荷電粒子ビームを磁場又は電場により収束して、測定試料Sに照射する荷電粒子ビーム収束部3と、前記荷電粒子ビームが測定試料Sに照射された際に生じる放射線Rを測定する放射線測定部4と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】個人差を生じさせずにROI範囲を設定して検量線を算出することが可能な、検量線算出方法、及び情報処理装置を提供すること。
【解決手段】測定スペクトル上のROI範囲を設定するROI範囲設定工程と、設定されたROI範囲の積分強度を前記測定スペクトルごとに算出し、算出した積分強度に基づき最小二乗法により検量線を算出する検量線算出工程と、前記積分強度と前記検量線との誤差を算出する誤差算出工程とを含み、前記ROI範囲設定工程において、前記測定スペクトル上のROI範囲を変更し、変更後のROI範囲に基づき算出される前記誤差が最小となるROI範囲を決定する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、上記のような事情を背景になされたものであり、産業用X線CT画像装置において検出器厚みを従来より薄くし検出器アレイを稠密化した場合に発生する隣接検出器への漏れ放射線量を評価・予測し、除去することにより、撮像画像の高い空間分解能が得られるX線CT撮像方法および装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、前記検出器から得られるX線透過量データから画像を再構成するプロセスに、前記検出器毎のX線透過量データから、隣接する検出器による漏れ放射線量を除去する処理を含んだことを特徴とする。
【効果】本発明によれば、産業用X線CT画像装置において検出器厚みを従来より薄くし検出器アレイを稠密化した場合に発生する隣接検出器への漏れ放射線量を評価・予測し、除去することにより、撮像画像の高い空間分解能が得られる。 (もっと読む)


【課題】表面処理を行ったフィルム、ここでは薬剤による化学的処理や微細形状加工などを除く、不安定で失効しやすい表面改質処理を行なったポリマーフィルムを対象とした評価を行うに当り、測定用装置によって生じたダメージに起因する誤差を修正して、より正確な初期表面状態を容易かつ簡便に評価可能な技術を提供することを課題とする。
【解決手段】コロナ処理など不安定な表面改質処理を行ったポリマーフィルムについて、その表面状態を定量的に評価するに際し、測定用装置によって生じたダメージに起因する誤差を修正して、より正確な初期表面状態の評価を行う。 (もっと読む)


【課題】 被検体が撮像装置内に配置された後にアライメントを行うX線タルボ干渉法用撮像装置において、アライメント時に被検体に照射されるX線量を低下させること。
【解決手段】 撮像装置1は、X線源2からのX線を回折することで干渉パターンを形成する回折格子3と、回折格子を経たX線を検出する検出器5と、X線源と前記被検体の間に配置可能なX線を遮るシャッタ21と、アライメントを行う調節機構を備える。
シャッタはX線源と被検体の間に配置されたとき、シャッタによってX線の照射を遮られる第1の空間30と、シャッタによってX線の照射を遮られない第2の空間31を形成し、被検体は第1の空間に配置される。
また、調節機構は、第2の空間を経て検出器により検出されるX線の強度分布の少なくとも一部に基づいてアライメントを行う。 (もっと読む)


【課題】未処理の二軸延伸PETフィルム或いはシートは工業用や包装用など幅広く使われており、機能材料を塗工したり、易接着材料やプラライマー材料を予め塗工した後に機能材料を貼り合せ(ラミネート)たりして高付加価値を付与している。その際、従来はぬれ張力や接触角などでぬれ性の良いPET基材を選択してきたが、密着性との相関は高くはなかった。
【解決手段】これまでに無い密着性の指標として、XPS(X線光電子分光法)分析により検出角度45度で測定した最表面のC(炭素)、O(酸素)、Si(珪素)のナロースペクトルから得られたSi比率が0.2atomic%以下である場合は、PET基材の密着性が高いと考えられる。また、新たに加熱工程を経た場合には、Si由来のPET添加剤であるシリカフィラーがブリードして表出するので、再度XPS分析を行い、Si比率を把握することで品質管理を行うことが出来る。 (もっと読む)


【課題】照射範囲の広いX線照射装置を用いて、試料を電子回路基板等に実装したままで、分析対象部分にのみX線を照射して分析する。
【解決手段】X線照射位置決めフィルタ20Aが電子回路基板60上の部品61Aの近傍に配置されている。X線照射位置決めフィルタ20AにはX線を通す窓が開いている。窓の形状は、部品61Aにおける分析対象部分の形状に合わされている。窓を除く表面はX線を遮断する。蛍光X線分析装置1Aは、X線管10で発生する一次X線11を部品61Aに照射する。窓を通過した一次X線11によって部品61Aにおける分析対象部分を構成する物質の分子が励起され、蛍光X線12が発生する。蛍光X線分析装置1Aは、その蛍光X線12を検出器30で検出し、分析器40で部品61Aを構成する物質に含有される成分を分析する。 (もっと読む)


【課題】実際のゴム材料から精度良くシミュレーション用のゴム材料モデルを定義しうる方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料のシミュレーション方法であって、走査型透過電子顕微鏡を用いてゴム材料の電子線透過画像を取得する撮像工程S1と、撮像工程で得られた画像からトモグラフィー法により前記ゴム材料の3次元構造を構築する工程S2と、前記3次元構造からゴム材料モデルを設定するモデル設定工程S3乃至S4と、前記ゴム材料モデルに基づいて変形シミュレーションを行う工程S5とを含み、前記ゴム材料モデルは、充填剤モデルと、前記充填剤モデルを囲むとともにゴムが有限個の要素で分割されたゴムモデルとを含み、該ゴムモデルには、変形速度に応じて発生する応力が異なる変形速度依存性が定義されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】識別するための標識物質の組み合わせが事実上無制限であり、微量の標識物質を用いるのみで識別でき、対象物の素材や製品形状、物性によらずに適用することができる放射線を用いる識別方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブを構成する物質以外の物質を標識物質として、ナノチューブの中空部分に内包した内包カーボンナノチューブ、あるいはナノサイズの細孔を有する多孔体を構成する物質以外の物質を、標識物質として細孔に内包した内包多孔体を、識別材料として識別対象物に付与し、対象物に放射線を照射し、標識物質から放射される2次放射線を検知して、識別材料が付与された対象物を識別する識別方法。 (もっと読む)


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