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Fターム[2G001GA13]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 測定内容、条件、動作等関連変数、量ψ (4,673) | θ;ω等(角;向:立体角) (564)

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【課題】結晶ウェハにより製造した3次元湾曲型X線反射レンズによる分光光学系により測角器を必要としない小型化に適した蛍光X線分析装置を提供する。
【解決手段】X線源とX線結晶分光器とX線検出器によってなる蛍光X線分析装置であって、1方向の長さが25mm以上300mm以下で板状単結晶からなる3次元形状に湾曲した1枚のX線結晶分光器と、位置敏感かつエネルギー分解能力のあるX線検出器の少なくとも何れか一方を用いることにより、結晶分光器の角度走査をすることなくX線の分光波長帯域の蛍光X線分析を行う。 (もっと読む)


【課題】 測定対象物のX線による回折環の形状が不連続の状態で検出されていても、測定対象物の残留応力を精度よく検出できるようにする。
【解決手段】 コントローラCT内に、残留応力の変化に応じて変化する複数の比較回折環の形状を表す回折環形状データ群を残留応力に対応させてそれぞれ記憶しておく。コントローラCTは、測定対象物のX線による回折環の形状を検出し、前記記憶されている回折環形状データ群によって表される複数の比較回折環の形状に対する、前記検出された測定対象物の回折環の形状の一致度合いをそれぞれ計算する。そして、コントローラCTは、前記記憶されている残留応力と、前記計算された一致度合いとの関係に基づいて、前記検出された測定対象物の回折環の形状に最も近い形状の比較回折環に対応した残留応力を測定対象物の残留応力として計算する。 (もっと読む)


【課題】実際のゴム材料から精度良くシミュレーション用のゴム材料モデルを設定して精度の良い計算結果を得るのに役立つ方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料のシミュレーション方法であって、前記ゴム材料のX線及び/又は中性子の散乱データを測定する測定工程S1と、前記散乱データからリバースモンテカルロ法によりゴム中の充填材の3次元構造を特定する可視化工程S2と、前記充填材の3次元構造に基づいてゴム材料モデルを設定するモデル設定工程S3乃至S6と、前記ゴム材料モデルに基づいて変形シミュレーションを行う工程とを含み、前記測定工程において、散乱ベクトルqが10-4nm-1よりも大かつ10nm-1よりも小の範囲の散乱データを得ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】複数種類の測定データ及び解析データを取得できるX線分析装置において、データの内容とその内容をもたらした解析ソフトウエアとを簡単且つ正確に把握できるようにする。
【解決手段】複数の測定手法を実現できる機能を持ったX線分析装置1であり、この装置は、個々の測定手法を実現して測定データを取得する測定ソフトウエア36と、その測定データに対して所定の解析を行って解析データを取得する解析ソフトウエア37と、測定データ及び解析データの個々に基づいて縮小画像42を作成する縮小画像作成手段2、38と、解析ソフトウエアを指し示すアイコン43を作成する解析アイコン作成手段2、39と、縮小画像42とアイコン43とを互いが対応関係にあることを示しつつ同じ画面9a内に表示する画像表示手段2,9とを有する。 (もっと読む)


【課題】表面形状と内部構造との双方を計測する。
【解決手段】実施形態によれば、計測装置は、電磁波照射手段と検出手段とデータ処理手段と膜構造変換手段と膜構造計測手段とを持つ。電磁波照射手段は電磁波を生成して前記基体へ照射する。検出手段は、前記基体で散乱されまたは反射した電磁波の強度を測定する。データ処理手段は、前記検出手段からの信号を処理して散乱プロファイルを作成して解析し、前記周期構造の表面形状を算出する。膜構造変換手段は、前記周期構造の表面構造に関する仮想的膜構造を算出し、参照データから前記周期構造の内部構造に関する仮想的膜構造を算出する。膜構造計測手段は、前記仮想的膜構造から測定条件を設定し、該測定条件に従って前記周期構造について実測による反射率プロファイルを取得して解析し、前記周期構造を構成する各層の膜厚を算出し、算出された前記膜厚と前記仮想的膜構造とを用いて前記周期構造の形状を再構築する。 (もっと読む)


【課題】ラスタ素子のハニカム格子に起因する強度ムラを均一化することができる回折X線検出方法およびX線回折装置を提供する。
【解決手段】ポリキャピラリで形成されたラスタ素子10を介して行なう回折X線検出方法であって、試料により回折させたX線をラスタ素子10に入射させ、試料中心Sからの距離を維持しX線の回折角度に対するラスタ素子10の位置を変えつつ、ラスタ素子10を通過したX線を検出器20により検出する。これにより、回折角度ごとに生じるハニカム格子による影響が分散され、ハニカム格子に起因する強度ムラを均一化することができる。その結果、ラスタ素子を応用し、試料の周りからの散乱線を排除したり、いわゆる微小角入射X線回折測定で分解能を向上させたりする測定を有効に行なうことができる。 (もっと読む)


【課題】 イメージングプレートの取付け精度の良否によらず、測定対象物の残留応力を精度よく測定できるようにする。
【解決手段】 コントローラCTは、残留応力が0である基準物体BOB及び測定対象物OBに、X線出射器13からのX線をそれぞれ照射して、イメージングプレート28上に基準物体BOB及び測定対象物OBの回折環をそれぞれ撮像する。そして、コントローラCTは、前記撮像した両回折環の形状をそれぞれ検出し、測定対象物OBの回折環の形状を、基準物体BOBの回折環の形状を用いて補正して、イメージングプレート28のテーブル27に対する取付け誤差の影響を少なくする。 (もっと読む)


【課題】チゲサイクリンの結晶性固体、フォームI、フォームII、フォームIII、フォームIV、およびフォームV、これらの結晶性固体を含む組成物、ならびにこれらの結晶性固体を提供すること。
【解決手段】チゲサイクリンの結晶性固体、フォームI、フォームII、フォームIII、フォームIV、およびフォームV、これらの結晶性固体を含む組成物、ならびにこれらの結晶性固体を調製する方法が本明細書に記載される。 (もっと読む)


【課題】粗粒かつ微少試料であっても均一な回折リングを得ることができるX線回折試料揺動装置、X線回折装置及びX線回折パターンの測定方法を提供する。
【解決手段】X線回折試料を保持する試料保持部31をX線入射方向と平行にした第1の回転軸の周りに揺動可能な第1の揺動部21と、前記第1の回転軸と直交する第2の回転軸の周りに揺動可能な第2の揺動部22と、前記第1及び第2の回転軸と直交する第3の回転軸の周りに揺動可能な第3の揺動部23を有するX線回折試料揺動装置11を用いることによって前記課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】測定対象物の表面の塑性ひずみを非破壊的に評価することが可能なシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】測定対象物の表面にX線を入射し、X線の回折角と回折強度を計測するX線回折装置と、X線の回折角と回折強度からX線回折強度曲線を得るとともに、測定対象物の試験片を用いて予め求めた、X線回折強度曲線の半価幅と塑性ひずみとの関係、およびX線回折強度曲線の積分幅と塑性ひずみとの関係のうち、少なくともいずれか1つの関係についてのデータを有する画像解析装置とを備える。画像解析装置は、X線回折装置で得た測定対象物のX線回折強度曲線の半価幅および積分幅のうち、少なくともいずれか1つの値と、この値と塑性ひずみとの関係を表すデータとから、測定対象物の塑性ひずみを求める。 (もっと読む)


【課題】処理時間の短縮を図りつつ、断層画像又は立体画像における虚像の発生を防止することができるCT装置を提供する。
【解決手段】被検体1に対し放射線源2及び検出器3を相対的に回転させて複数回走査する回転機構4と、検出器3からの出力信号を処理して複数の透過画像を生成する信号処理回路5と、走査位置が同じで走査回数が異なる透過画像の重ね合せ処理を行い、重ね合せ処理後の透過画像に基づいて被検体1の断層画像又は立体画像を再構成する制御装置6とを備える。制御装置6は、各走査回数の透過画像データの画素値総和量を演算し、この画素値総和量が予め設定された基準範囲内にあるかどうかを判断することにより、各走査回数の透過画像データが正常であるかどうかを判定し、正常と判定された透過画像データに対し重ね合せ処理を行う。 (もっと読む)


【課題】有機光学結晶にレーザー光を照射して連続的に使用するために、あらかじめ非破壊で容易かつ簡便な有機光学結晶のレーザー被照射耐性を評価する方法を確立すること、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を提供すること。
【解決手段】有機光学結晶にレーザーを照射する前に回折解析工程により、有機光学結晶のレーザー被照射耐性の有無を判断する評価方法を確立することができ、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を非破壊で容易かつ簡便に幅広い分野へ提供することができる。 (もっと読む)


【課題】ステージの正しい高さと実際の高さとのズレを割り出し、該ズレを補正することができるパターン計測装置、ステージ高さ調整方法およびパターン計測方法を提供する。
【解決手段】パターン計測方法は、計測対象である周期構造のパターンが形成された基体を支持するステージと、前記ステージの位置と高さを制御するステージ制御手段と、電磁波を生成し、任意の仰角で前記基体へ照射する電磁波照射手段と、前記基体で散乱された電磁波の強度を検出する検出手段と、データ処理手段と、ステージ高さ補正手段と、を持つ。前記データ処理手段は、周期が既知である周期構造の領域に、照射位置を変えながら前記電磁波を照射して得られた検出信号から散乱プロファイルを作成し、該散乱プロファイルから前記周期が既知である周期構造の周期を算出し、算出された周期と前記既知の周期とのズレ量を算出して前記ステージの高さの位置のズレ量を算出する。 (もっと読む)


【課題】 簡易的なスクリーニングを迅速に実施することができるX線回折測定データの解析方法を提供する。
【解決手段】 X線回折装置5から出力されたX線回折測定データに基づき回折X線のピーク位置と積分強度を求め、当該求めた回折X線のピーク本数を計数し、あらかじめ設定したピーク本数に達したときに解析処理を開始する。解析処理は、測定開始からそれまでに得られたX線回折測定データに対して繰り返し実行する。具体的には、測定開始から当該解析処理までに得られたX線回折測定データから回折X線のピーク位置と積分強度とを求め、それらをあらかじめデータベース化してある標準ピークカードデータと照合して、測定試料Sに含まれる物質を検索する定性分析と、測定試料Sに含まれる物質の量を求める定量分析とを行う。 (もっと読む)


【課題】金属材料の破壊原因を簡易かつ精度よく推定することが可能な方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】破断した金属材料の破壊原因を電子後方散乱回折像法により推定する。破断した金属材料において破断面と垂直な面を測定面とし、この測定面上に電子線を照射して電子後方散乱回折像を取得する。この電子後方散乱回折像に基づいて各照射点における結晶方位を決定し、各照射点における方位差を決定する。そして、測定面を破断面からの深さ方向において所定間隔毎に複数の区分に分割し、各区分毎にその区分に属する複数の照射点の方位差の平均値を求め、破断面からの深さを横軸、方位差を縦軸とした座標上にプロットし、このプロットに基づいて方位差曲線を得る。得られた方位差曲線のパターンを、あらかじめ破壊原因の分かっている標準試料を用いて求めた標準方位差曲線と比較することにより、破断した金属材料の破壊原因を判定する。 (もっと読む)


【課題】実際のゴム材料から精度良くシミュレーション用のゴム材料モデルを定義しうる方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料のシミュレーション方法であって、走査型透過電子顕微鏡を用いてゴム材料の電子線透過画像を取得する撮像工程S1と、撮像工程で得られた画像からトモグラフィー法により前記ゴム材料の3次元構造を構築する工程S2と、前記3次元構造からゴム材料モデルを設定するモデル設定工程S3乃至S4と、前記ゴム材料モデルに基づいて変形シミュレーションを行う工程S5とを含み、前記ゴム材料モデルは、充填剤モデルと、前記充填剤モデルを囲むとともにゴムが有限個の要素で分割されたゴムモデルとを含み、該ゴムモデルには、変形速度に応じて発生する応力が異なる変形速度依存性が定義されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】回折線による分析精度の低下を抑制することができる蛍光X線分析装置を提供する。
【解決手段】蛍光X線分析装置100は、スペクトルから、二次X線ピークを抽出する二次X線ピーク抽出部12と、抽出された前記二次X線ピークのエネルギー幅を算出する二次X線ピーク幅算出部13と、抽出された前記二次X線ピークのエネルギー値における蛍光X線ピークのエネルギー幅の情報を取得する蛍光X線ピーク幅情報取得部14と、二次X線ピーク幅算出部13が算出した前記二次X線ピークのエネルギー幅が、前記二次X線ピークのエネルギー値における蛍光X線ピークのエネルギー幅よりも大きい場合に、抽出された前記二次X線ピークを回折線ピークと判定する回折線ピーク判定部15と、を含む。 (もっと読む)


【課題】ゴム材料中の充填剤の分散状態を、鮮明に観察しうる観察方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料の観察方法であって、走査型透過電子顕微鏡を用いてゴム材料の電子線透過画像を取得する撮像工程と、この撮像工程で得られた画像又はこの画像を加工した二次情報を観察する観察工程とを有し、前記撮像工程は、前記走査型透過電子顕微鏡の焦点を前記ゴム材料の厚さの中央領域に合わせることを特徴とするゴム材料の観察方法である。 (もっと読む)


【課題】測定試料およびX線照射装置の姿勢を制御する駆動機構を有さず、測定可能な試料の大きさや形状に特段の制約がなく、測定面上に標準試料を安定して固定することができ、かつX線回折測定を行う際にX線の漏洩が防止されたX線回折装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るX線回折装置は、X線照射装置と二次元X線検出器とを有し前記二次元X線検出器よりも大きい測定対象物に対してX線回折測定を行うX線回折装置であって、前記二次元X線検出器は平板状に設置されており、前記X線照射装置は前記二次元X線検出器を貫通するように配設され、前記二次元X線検出器と前記X線照射装置とが一体に固定され、前記X線照射装置の姿勢を規定しかつX線の漏洩を防止するための筒状シールド部材が前記二次元X線検出器の周縁に配設されており、前記測定対象物の表面に前記X線回折測定に用いる標準試料粉末を付着させ固定する付着固定機構を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】試料の各部ごとの材料特性情報を容易に、直感的に、しかも正確に知ることができるX線応力測定装置を提供する。
【解決手段】試料Sの光学画像を撮像するカメラ7と、その光学画像を表示するディスプレイ17と、ディスプレイ17の画面上の位置を入力できる入力装置18と、X線を発生するX線源11と、試料Sを移動させるテーブル4と、試料Sから出たX線R2を検出するX線検出器12と、入力装置18によって指示された位置に基づいて試料Sの測定位置を決定し、決定された試料Sの測定位置に対して測定を行う測定プログラムと、X線検出器12の出力信号に基づいて試料Sの測定位置における応力を演算する応力演算プログラムと、試料Sの光学画像及び測定位置、応力の絶対値、及び応力の方向をディスプレイ17の同じ画面上に表示させる画像形成プログラム22とを有するX線応力測定装置である。 (もっと読む)


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