【課題】測定感度および測定精度が高く、効率の良い、半導体ウェハプロセス用希ふっ酸溶液の不純物分析方法を提供すること。
【解決手段】希ふっ酸溶液を浸漬槽から採取するＡ工程と、液中のＳｉの質量数２８、Ｐの質量数３１およびＰＯ不純物の質量数４７の質量スペクトル強度を計測するＢ工程と、採取した希ふっ酸溶液を乾燥濃縮して固形化するＣ−１工程、この固形物中のＳｉ、Ｐ、ＰＯ元素の真空中でのエネルギー強度を測定するＣ−２工程と、前記固形物の真空中での質量スペクトル強度を計測するＣ−３工程、Ｃ−３工程で求めた目的の不純物の質量スペクトル強度とマトリックス質量のスペクトル強度とを合わせたスペクトル強度と目的の不純物の質量スペクトル強度との強度比を求め、この強度比によって前記Ｂ工程で求めた質量スペクトル強度を補正して、希ふっ酸溶液中のＳｉ、Ｐ，ＰＯの真の不純物量を求める。 （もっと読む）

【課題】測定時間を短くすることができ、且つ簡易な構成で完全分光を実現することができるＸ線分光検出装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線分光検出装置１Ａは、Ｘ線若しくは電子線の照射によって該試料１０表面における直径１００μｍ以下の微小分析点Ｐから放射された特性Ｘ線２を波長毎に分光して検出する。Ｘ線分光検出装置１Ａは、分光結晶２０及び二次元Ｘ線検出器３０を備える。分光結晶２０は、微小分析点Ｐから放射された特性Ｘ線２を受ける平坦な回折反射面２０ａを有し、特性Ｘ線２に含まれる波長成分のうち該回折反射面２０ａへの入射角に応じた波長成分を回折反射することにより、特性Ｘ線２を波長毎に分光する。二次元Ｘ線検出器３０は、分光結晶２０において回折反射した特性Ｘ線２を受ける受光面３０ａを有し、該受光面３０ａに入射した特性Ｘ線２の入射位置および強度に関するデータを生成する。 （もっと読む）

【課題】表面処理を行ったフィルム、ここでは薬剤による化学的処理や微細形状加工などを除く、不安定で失効しやすい表面改質処理を行なったポリマーフィルムを対象とした評価を行うに当り、測定用装置によって生じたダメージに起因する誤差を修正して、より正確な初期表面状態を容易かつ簡便に評価可能な技術を提供することを課題とする。
【解決手段】コロナ処理など不安定な表面改質処理を行ったポリマーフィルムについて、その表面状態を定量的に評価するに際し、測定用装置によって生じたダメージに起因する誤差を修正して、より正確な初期表面状態の評価を行う。 （もっと読む）

【課題】スペクトルを有効に表示することができるスペクトル表示装置を提供する。
【解決手段】スペクトル表示装置１００は、第１軸を所定の物理量とし、第２軸を前記所定の物理量に対する強度として表したスペクトルの一部を拡大して表示するスペクトル表示装置であって、前記スペクトルの前記第１軸の拡大範囲を指定するための操作部１０と、操作部１０によって指定された前記拡大範囲の情報を取得する範囲情報取得部２２と、前記拡大範囲の情報に基づいて、前記拡大範囲が所定の拡大率で前記第１軸に沿って拡大され、かつ前記拡大範囲とは異なる前記第１軸の範囲が所定の縮小率で前記第１軸に沿って縮小された拡大スペクトルを生成するスペクトル生成部２４と、スペクトル生成部２４が生成した前記拡大スペクトルを表示する表示部３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】海洋コンクリートから製造される細骨材について、迅速に精度よく、ＪＩＳ Ａ ５００２に規定の試験方法に基づいて得られる可溶性塩化物含有率を推定する。
【解決手段】海洋コンクリート製の細骨材Ｓについて、Ｘ線装置１により１次Ｘ線Ｒ１を照射した際に細骨材Ｓから放射される蛍光Ｘ線Ｒ２のＸ線強度と、ＪＣＩ規準集に規定の全塩化物定量方法に基づいて得た細骨材Ｓの全塩化物含有率との関係を予め把握し、全塩化物含有率と、ＪＩＳ Ａ ５００２に規定の試験方法に基づいて得た細骨材Ｓの可溶性塩化物含有率との関係を予め把握し、海洋コンクリート製の新たな細骨材ＳのＸ線強度を測定し、この測定値と、予め把握したＸ線強度と全塩化物含有率との関係と、予め把握した全塩化物含有率と可溶性塩化物含有率との関係とに基づいて、この細骨材Ｓについて、ＪＩＳ Ａ ５００２に規定の試験方法に基づいて得られる可溶性塩化物含有率を推定する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線に基づいた分析の際に対象物にビームをマッチングさせる際の問題点を解決する。
【解決手段】検査方法は、サンプルの表面上においてスポットを画定するべく合焦されるＸ線ビームを使用してサンプルを照射する段階を含んでいる。表面上の特徴部を横断するスキャン経路に沿ってスポットをスキャンするべく、サンプル及びＸ線ビームの中の少なくとも１つをシフトさせる。スポットが異なる個々の程度の特徴部とのオーバーラップを具備しているスキャン経路に沿った複数の場所において、Ｘ線ビームに応答してサンプルから放射される蛍光Ｘ線の個々の強度を計測する。スキャン経路における放射蛍光Ｘ線の調節値を演算するべく、複数の場所において計測された強度を処理する。調節済みの値に基づいて、特徴部の厚さを推定する。 （もっと読む）

【課題】低接触抵抗、高はんだ濡れ性及び低挿入力を有するＳｎ系めっき材を提供する。
【解決手段】Ｓｎ系めっき材１０は、金属基材１１、金属基材１１上に形成された下地めっき１２、下地めっき１２上に形成されたＡｇを含むＳｎ系めっき１３を備える。Ｓｎ系めっき材１０は、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光装置）でＤｅｐｔｈ分析を行ったとき、Ｓｎの原子濃度（ａｔ％）の最高値を示す位置（Ｄ_Sn）及びＡｇの原子濃度（ａｔ％）の最高値を示す位置（Ｄ_Ag）がＳｎ系めっき１３表面からＤ_Sn、Ｄ_Agの順で存在し、Ｓｎ系めっき１３に含まれるＡｇが１〜２００μｇ／ｃｍ²であり、Ｓｎ系めっき１３に含まれるＳｎが２〜２２０μｇ／ｃｍ²である。 （もっと読む）

【課題】放射線検出器が有する時間分解能を維持しつつ、放射性核種の定量分析及びエネルギー分析を精度良く行うことができる放射線計測装置を提供する。
【解決手段】半導体放射線検出器１から出力されるアナログパルス信号ごとに、このアナログパルス信号をアナログデジタル変換器２により複数のデジタル信号に変換する。これらのデジタル信号が入力されるスレッショルド回路３は、スレッショルド値を超えるデジタル信号を弁別する。デジタル信号加算回路４は、弁別された複数のデジタル信号をアナログパルス信号ごとに加算してアナログパルス信号ごとに加算値を求める。それぞれの加算値を入力するスペクトル生成回路５は、それらの加算値を用いて放射線エネルギースペクトルを生成し、放射線エネルギースペクトルを用いて放射性核種９の定量分析及びエネルギー分析を精度良く行う。 （もっと読む）

【課題】測定者が必要とする試料上の領域のみを、必要最小限の動作で測定することで、マッピング分析に要する測定時間を短縮するＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】マッピング像と試料の画像データとを重畳処理し、照射ポイントに相当する位置を決定し、その結果に基づき画像表示し、該表示された画像において測定実施領域を指定して、試料移動機構が指定された領域以外を高速で移動するようにした。 （もっと読む）

【課題】真贋判定を短時間で容易に可能な真贋判定方法、及び偽造が困難なセキュリティ媒体を製造することができるセキュリティ媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】第１のサンプル及び第２のサンプルに含有される元素のピーク強度を蛍光Ｘ線分析装置を用いてそれぞれ測定し、測定されたピーク強度と該ピーク強度に対応する元素の含有量とから検量線を作成する工程と、真贋判定に供するセキュリティ媒体のピーク強度を測定して、該ピークを有する波長を検出することにより該真贋判定に供するセキュリティ媒体に含有された元素の種別を識別するとともに、測定されたピーク強度と前記検量線とから該識別された元素の含有量を算出し、これを真であるセキュリティ媒体と比較することで真贋判定を行う工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】測定対象試料中に含まれる分析対象元素が極めて微量であっても、その分析対象元素の構造解析を従来よりも正確に行うことができる構造解析方法を提供する。
【解決手段】分析対象元素に関するＸ線吸収スペクトルを得るための標準試料と、測定対象試料に含まれる分析対象元素の０．１〜１０倍の分析対象元素をマトリックス中に含む２次試料とを用意する。次いで、標準試料のＸ線吸収スペクトル（標準スペクトル）と、２次試料のＸ線吸収スペクトル（２次スペクトル）とを比較することで、測定対象試料における分析対象元素に関連する蛍光Ｘ線のエネルギー範囲である関心領域を決定する。そして、その決定した関心領域に基づいて測定対象試料のＸ線吸収スペクトルである目的スペクトルを求める。 （もっと読む）

【課題】様々な性状の試料の特定部分のみを非破壊かつ高精度で微量元素まで定量分析することができる定量分析方法を提供する。
【解決手段】試料中に含まれる特定の元素を定量分析する方法であって、試料に対してＸ線を波長掃引しながら照射し、ＸＡＦＳスペクトルを得るスペクトル取得工程と、得られたＸＡＦＳスペクトルを用いて仮想高エネルギー領域曲線を作成する仮想高エネルギー領域曲線作成工程と、得られたＸＡＦＳスペクトルを用いて仮想バックグラウンド曲線を作成する仮想バックグラウンド曲線作成工程と、仮想高エネルギー領域曲線と、仮想バックグラウンド曲線との差を用いて特定の元素を定量する解析工程とを含むことを特徴とする定量分析方法である。 （もっと読む）

【課題】励起光遮断特性を高めることにより、励起光カットフィルタの厚みを従来の色ガラス材よりも薄くできる色ガラス材を提供する。
【解決手段】 陽イオンとして、陽イオン％表示で、
Ｓｉ^４＋ ２５〜６０％
Ａｌ^３＋ ３〜１９％
Ｂ^３＋ １８〜３８％
Ｋ^＋ ９〜３１％
Ｃｏ^２＋ ０．１〜１．５％
を含み、陰イオンとして、Ｏ^２−を主成分として含み、さらに陰イオン％表示で、
Ｆ⁻ １〜１２％
Ｃｌ⁻ ０．０１〜２％
を含むことを特徴とするコバルト含有ガラスである。
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【課題】Ｘ線トポグラフを求めるＸ線回折装置においてＸ線トポグラフの平面領域内の位置を明確に特定できるようにする。光学顕微鏡、イメージングデバイス等によって捕えることができない光学的に透明な物質を可視化して測定対象とする。
【解決手段】試料１８の平面領域から出たＸ線を空間的に１対１の幾何学的対応をつけて平面的なＸ線トポグラフとして検出し、当該Ｘ線トポグラフを信号として出力するＸ線トポグラフィ装置４，２２と、試料１８の平面領域の光像を受光してその光像を平面位置情報によって特定された信号として出力する２次元イメージングデバイス６と、Ｘ線トポグラフの出力信号とイメージングデバイス６の出力信号とに基づいて合成画像データを生成する画像合成用の演算制御装置とを有するＸ線回折装置である。 （もっと読む）

【課題】より高効率に、かつより高精度に極点図測定することが可能なＸ線回折用治具を提供する。
【解決手段】主表面１２ｃを有するベース体１２０と、一方の主表面１２ｃから突出するようにベース体１２０に固定された複数の側壁部１２１と、一方の主表面１２ｃ上に載置され、試料１１の高さを調整可能な調整部材１４とを備えている。上記側壁部１２１の最上面１２ａ、１２ｂは主表面１２ｃに沿う方向に配置され、複数の最上面１２ａ、１２ｂのそれぞれの、主表面１２ｃからの距離は等しく、複数の側壁部１２１は主表面１２ｃを挟みながら互いに対向する。 （もっと読む）

【課題】簡易な測定が可能であり、かつ、測定対象物を破壊することなく、浸炭深さを定量的に把握しうるＣｒ含有合金の浸炭深さ測定方法を提供する。
【解決手段】浸炭深さが異なるＣｒ含有合金の複数の試料についてポータブル型蛍光Ｘ線分析装置により分析を行って（ステップＳ２）、クロム及びクロム以外の金属元素の濃度と浸炭深さとの関係を予め求めておく（ステップＳ４）。次に、測定対象物であるＣｒ含有合金について前記ポータブル型蛍光Ｘ線分析装置により分析を行って、該測定対象物中のクロム及びクロム以外の金属元素の濃度を測定する（ステップＳ６）。この後、予め求めた前記関係に基づいて、前記測定対象物中のクロム及びクロム以外の金属元素の濃度の測定結果から、前記測定対象物の浸炭深さを求める（ステップＳ８）。 （もっと読む）

【課題】従来は測定し難かった測定対象物であっても容易に測定できるＸ線回折装置及びＸ線回折の測定方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線を照射するＸ線照射源１と、Ｘ線が測定対象物９に照射されて回折したＸ線を検出する検出器２と、Ｘ線照射源１と検出器２とを移動可能に支持する支持部材１０と、を備えているＸ線回折装置１００であって、支持部材１０は、直交する二軸のそれぞれの軸方向に、それぞれ独立して移動可能な第１の位置決め手段１３及び第２の位置決め手段１４と、二軸に垂直な軸の軸方向に移動可能な第３の位置決め手段１５とを備え、Ｘ線照射源１及び検出器２が固定された第１の位置決め手段１３、第２の位置決め手段１４及び第３の位置決め手段１５が所定の位置に移動することにより、Ｘ線の照射位置及び回折したＸ線の検出位置が決定されるように構成されているＸ線回折装置。 （もっと読む）

【課題】しきい光電子分光を効率的に行うことができる装置および方法を提供する。
【解決手段】しきい光電子分光装置１は、第１光源１０、第２光源２０、照射光学系３０、真空容器４０、分子線生成部５０、撮像部６０および検出部７０を備える。準備段階において、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第１光源による第１パルス光出力タイミングを各値に設定して、分子線生成部による分子線生成，第１光源による第１パルス光出力および撮像部による蛍光撮像を行う。続く測定段階において、準備段階で撮像部による蛍光撮像により得られた蛍光像に基づいて決定されるタイミングおよび照射位置となるように、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第２光源による第２パルス光出力タイミングを設定するとともに、分子線への第２パルス光の照射位置を設定する。 （もっと読む）

【課題】 蛍光Ｘ線の検出強度や分解能を向上させることができるＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線分析装置１は、試料Ｓに照射するためのＸ線を出射するＸ線管３と、Ｘ線の照射によって試料Ｓから放出された蛍光Ｘ線を一端５ａから他端５ｂに伝播するキャピラリー管５を複数含むキャピラリー管集合体４と、キャピラリー管５の他端５ｂから出射された蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器６と、を備えている。キャピラリー管集合体４は、キャピラリー管５の一端５ａの集合によって形成された一端面４ａを有し、当該一端面４ａは、試料Ｓが膜状に配置される試料配置面となっている。 （もっと読む）

【課題】面方位測定とノッチ方位測定の両方を１つの測定で同時に行うことができるようにする。
【解決手段】Ｘ線源Ｆからの連続Ｘ線を平行化して単結晶試料位置へ導くコリメータ３３と、試料の格子面（００１）に対応したラウエ像を検出できる第１位置に配置された第１の２次元検出器３１と、試料の格子面（ｈｈｌ）に対応したラウエ像を検出できる第２の位置に配置された第２の２次元検出器３２と、第１の２次元検出器３１の出力に基づいて格子面（００１）の法線ベクトルＶ_００１を演算し、第２の２次元検出器３２の出力に基づいて格子面（ｈｈｌ）の法線ベクトルＶ_ｈｈｌを演算し、ベクトルＶ_００１とベクトルＶ_ｈｈｌとに基づいて方位マークの方向を演算する演算装置とを有するＸ線結晶方位測定装置である。２つの格子面（００１）及び（ｈｈｌ）は方位マークを付けようとしている結晶方位を晶帯軸とするときにその晶帯軸に属する格子面である。 （もっと読む）