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Fターム[2G001JA02]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 制御、動作、調整、安定化、監視、切換、設定等 (3,483) | 試料入射前 (709) | 管、銃等パラメータ、焦点 (236)

Fターム[2G001JA02]に分類される特許

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【課題】検査精度および検査速度の低下が防止できるX線検査装置を提供する。
【解決手段】X線検査装置がアーチファクトを認識するために実行する処理は、撮像条件1の再構成画像から断層画像S1を取得するステップ(S510)と、撮像条件2の再構成画像から断層画像S2を取得するステップ(S520)と、断層画像の差分(S1−S2)を計算するステップ(S530)と、差分の絶対値が閾値以上であればアーチファクトと判断するステップ(S540)とを含む。 (もっと読む)


【課題】実際のゴム材料から精度良くシミュレーション用のゴム材料モデルを定義しうる方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料のシミュレーション方法であって、走査型透過電子顕微鏡を用いてゴム材料の電子線透過画像を取得する撮像工程S1と、撮像工程で得られた画像からトモグラフィー法により前記ゴム材料の3次元構造を構築する工程S2と、前記3次元構造からゴム材料モデルを設定するモデル設定工程S3乃至S4と、前記ゴム材料モデルに基づいて変形シミュレーションを行う工程S5とを含み、前記ゴム材料モデルは、充填剤モデルと、前記充填剤モデルを囲むとともにゴムが有限個の要素で分割されたゴムモデルとを含み、該ゴムモデルには、変形速度に応じて発生する応力が異なる変形速度依存性が定義されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ゴム材料中の充填剤の分散状態を、鮮明に観察しうる観察方法を提供する。
【解決手段】充填剤を含有するゴム材料の観察方法であって、走査型透過電子顕微鏡を用いてゴム材料の電子線透過画像を取得する撮像工程と、この撮像工程で得られた画像又はこの画像を加工した二次情報を観察する観察工程とを有し、前記撮像工程は、前記走査型透過電子顕微鏡の焦点を前記ゴム材料の厚さの中央領域に合わせることを特徴とするゴム材料の観察方法である。 (もっと読む)


【課題】モアレのビジビリティ低下を抑制することができ、高画質な位相像や微分位相像を取得することが可能となるトモシンセシス撮像装置及びトモシンセシス画像の撮像方法を提供する。
【解決手段】被検査物内部の奥行き情報を取得するトモシンセシス撮像装置であって、
遮蔽格子は、透過部と遮蔽部とが周期的に配列され、これらの周期が互いに異なる周期を有する、少なくとも2つの部分遮蔽格子の積層によって構成され、
2つの部分遮蔽格子を周期の方向に移動させ、積層による部分遮蔽格子間の各遮蔽部の重なり状態を制御する制御手段を備え、
電磁波源の回転による電磁波源の入射方向に応じて、制御手段により各遮蔽部の重なり状態を制御し、
電磁波源から出射され遮蔽格子の透過部を透過する電磁波が、各遮蔽部による遮蔽を抑制する。 (もっと読む)


【課題】小型で取り扱いが簡単なステレオX線放射装置を提供する。
【解決手段】X線管装置は、アノード4の後端よりも更に外側には配置した電磁石7に通電すると瞬時にアノード4の後端を吸着する機構を備える。これにより左右のアノード4,4は軸方向外方に移動する。その結果2つのX線発生源間の距離が瞬時に拡大したことになる。 (もっと読む)


【課題】 連続した波長を有する白色X線から、設定した波長範囲の多波長X線を容易に選択して取り出すことができるX線分光システムを提供する。
【解決手段】 白色X線が入射されるX線導波路と、前記X線導波路から出射した回折角の異なる回折X線を分離して、前記回折X線から設定した波長範囲の多波長X線を選択して取り出すためのX線選択手段とを具備するX線分光システムであって、前記X線導波路がコアとクラッドを有し、前記コアは屈折率実部の異なる複数の物質を含む基本構造が周期的に配されている周期性構造体で形成されており、前記クラッドと前記コアとの界面における前記X線の全反射臨界角が、前記コアの周期性構造体の基本構造の周期性に対応するブラッグ角よりも大きいことを特徴とするX線分光システム。 (もっと読む)


【課題】患者のX線曝射に基づく撮像手法において、患者のX線被曝を実行可能な範囲まで最小化し又は減少させつつ、可能な限り多くの有用な画像データを取得する。
【解決手段】全走査に対応しているが線量を低減させて計算機式断層写真法(CT)画像データを取得するアプローチが開示される。一具現化形態では、X線管電流変調を用いて実効線量を減少させる。他の具現化形態では、散在型ビューの取得、z−コリメーション、及び2回転取得プロトコルを用いて、全走査取得プロトコルに対して低減された線量を達成することができる。 (もっと読む)


【課題】X線照射手段側のX線照射のON/OFF状態を検出する、あるいはX線照射手段側のX線照射の異常を検出することができるX線制御装置を提供する。
【解決手段】X線管21も含めてX線発生装置31の消費電流に基づいて、X線照射のON/OFF状態を電流検出回路11aが検出することで、消費電流をモニタリングすればX線発生装置31側のX線照射のON/OFF状態を検出することができる。また、当該消費電流とX線照射条件との比較に基づいて、設定されたX線照射条件における電流と、実際にモニタリングされている消費電流との間に不一致が生じる場合には、X線照射の異常を電流検出回路11aが検出することで、消費電流をモニタリングすればX線発生装置31側のX線照射の異常を検出することができる。 (もっと読む)


【課題】検査装置の検査情報とレビュー装置で取得した観察情報とを用い、欠陥の高さ、屈折率、材質の情報を取得して欠陥材質・屈折率分析や、微細なパターン形状の三次元解析を行う方法、並びにこれを搭載した欠陥観察装置を提供する。
【解決手段】試料上の欠陥を観察する方法において、光が照射された試料からの反射・散乱光を受光した検出器からの検出信号を処理して検出した検査結果の情報を用いて観察対象の欠陥が存在する位置を走査電子顕微鏡で撮像して画像を取得し、この取得した観察対象の欠陥の像を用いて欠陥のモデルを作成し、作成された欠陥のモデルに対して光を照射したときに欠陥モデルから発生する反射・散乱光を検出器で受光した場合のこの検出器の検出値を算出し、この算出した検出値と実際に試料からの反射・散乱光を受光した検出器の検出値とを比較して観察対象の欠陥の高さ又は材質又は屈折率に関する情報を求めるようにした。 (もっと読む)


【課題】2つのX線画像上の被検査物の大きさの違いを、異物検出性能の低下が無視できる程度に低減することができるX線異物検出装置を提供すること。
【解決手段】X線管32をその鉛直軸上の位置を調整可能に支持する支持機構71と、第1のX線画像データにおける被検査物Wの幅方向の波形である第1の波形と第2のX線画像データにおける被検査物Wの幅方向の波形である第2の波形とを取得して比較し、第2の波形の幅が第1の波形の幅より大きいときは、X線管32の調整方向が鉛直軸上方であると判定するとともに、第2の波形の幅が第1の波形の幅より小さいときは、X線管32の調整方向が鉛直軸下方であると判定する調整判定部81と、調整判定部81により判定された調整方向を表示する表示器5と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】製品基板毎に態様の異なる被爆量を好適に管理すること。
【解決手段】電子部品が実装された基板の撮像要部をX線で撮像するX線撮像装置に用いられるX線被爆量管理システムにおいて、前記基板Wを製品毎に特定する基板特定手段と、特定された製品基板に係る累積被爆量Hを演算する累積被爆量積算手段とを備えている。X線撮像を実施する際の累積被爆量Hが個々の製品基板毎に演算されるので、例えば、再検査や、抜き打ち検査が生じて、被爆量が製品基板毎に異なるような事態が生じても、各製品基板が上限値を超えて被爆しないように管理することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光学条件の調整を容易に行うことを目的とする半導体検査装置等の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、荷電粒子線装置を備えた半導体検査装置、或いは荷電粒子線装置の画像,光学条件選択装置であって、異なる複数の光学条件にて得られた画像データと、設計データに基づいて形成される画像データとの間でマッチングを行い、当該マッチングに基づいて、前記光学条件、或いは画像の選択を行う半導体検査装置、或いは荷電粒子線装置の画像,光学条件選択装置を提案する。 (もっと読む)


【課題】輝度ムラを低減して、被検体のハンドリングが容易なX線断層撮像装置を提供すること。
【解決手段】
プリント基板51にX線を照射するX線照射器2、3とプリント基板51を透過したX線を検出するFPD5、6とで構成される複数組の照射ユニット7、8と、各照射ユニット7,8の各X線照射器2、3とFPD5,6との間にプリント基板51を平行移動させる搬送器4と、少なくとも1つの照射ユニット8のX線中心軸がプリント基板51の搬送方向に傾斜しており、少なくとも1つの他の照射ユニット7のX線中心軸がプリント基板51の搬送方向の逆方向に傾斜している。 (もっと読む)


【課題】鉛含有量を簡易かつ正確に測定することのできる蛍光X線分析法および装置を提供する。
【解決手段】鉛含有量が既知の標準試料により得られる鉛含有量と鉛特性X線強度との関係と、鉛特性X線強度とに基づいて鉛含有量を求める蛍光X線分析法において、X線管球電圧を変えながらX線透視像を観察し、X線透視像に投影された鉛含有粒子の影の有無を調べることにより、所定のX線管球電圧でのX線が貫通していない鉛含有粒子を有しているか否かを判定基準として、貫通していない鉛含有粒子を有しないグループ1と、貫通していない鉛含有粒子を有するグループ2とに分類し、グループ1の蛍光X線分析については、所定のX線管球電圧でのX線が貫通していない鉛含有粒子を有しないものを標準試料として選定し、グループ2の蛍光X線分析については、所定のX線管球電圧でのX線が貫通していない鉛含有粒子を有するものを標準試料として選定する。 (もっと読む)


【課題】
多元素同時分析を可能とし、運転に必要とされる洗浄作業や消耗品交換の保守作業を低減し、測定データをオンライン伝送する水質管理システムにも好適な蛍光X線水質計を提供する。
【解決手段】
測定試料の一部は脱泡槽14の下部からノズル13に導かれ、大気中に噴出することでセル等を用いずに流束を形成し、X線発生素子5からX線を投影する。陰極電圧可変用電源装置6はX線発生素子5が発生するX線のエネルギーが測定目的の元素に固有の蛍光X線エネルギーより大きくなるように調整され、流束から放射される固有の蛍光X線を半導体X線検出素子7で検出し、信号処理装置9で処理することで測定試料中に含まれる複数の元素を同時に測定し、その測定データを管理センターに伝送することで水質管理システムを構成する。 (もっと読む)


【課題】X線の漏洩を防止しつつ、被検査物のX線検査を適切に実施する。
【解決手段】X線検査装置は、被検査物を検査する検査室S2と、検査室S2内に設けられたX線照射口UからX線を照射するX線源と、X線源から照射されるX線を検出する検出部400と、検査室S2内に被検査物を搬入出させる搬送部500と、検査室S2内へ被検査物を搬入出するための搬入出口201,202を遮蔽するX線遮蔽カーテン671〜676と、を含む。X線遮蔽カーテン673,676は、X線遮蔽カーテン673,676の鉛直方向の長さC1,C2が、X線照射口UからX線遮蔽カーテン673,676が配置されている位置までの水平長さL5,L6と比較して、略同一または短い位置に設けられる。 (もっと読む)


【課題】シールドボックス内部の温度上昇を抑制する。
【解決手段】X線検査装置は、シールドボックス200と、シールドボックス200の内部に配置されたX線源300およびX線源300を制御する制御部800と、を備えたX線検査装置である。このX線検査装置には、シールドボックス300の天面部230の内面で、かつX線源300の上方に、気体を集める凹部231が設けられている。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、TEM画像形成の質を改善することである。
【解決手段】
透過型電子顕微鏡の検出器システムにおいて、画像取得期間の間に、画像データがピクセルから読み出され、分析される。画像取得プロセスは、分析結果に基づいて修正される。例えば、分析は、チャージングやバブル形成の画像アーチファクトのデータへの混入を示す。そして、アーチファクトを含むデータは、最終画像から取り除かれる。CMOS検出器は、高速なデータレートで選択的にピクセルを読み出し、リアルタイムの適応画像処理を提供する。 (もっと読む)


【課題】 複数のX線ビームを出射させるX線源を用いたX線撮像装置であって、干渉パターンの不均一さを軽減することを目的とする。
【解決手段】 X線撮像装置は、電子源とターゲットとを有するX線源と、X線源からのX線を回折する回折格子と、遮蔽格子からのX線を検出する検出器と、を備える。X線源のターゲットは複数の凸部を有し、複数の凸部の各々は出射面を有する。出射面は、電子源からの電子線が入射することにより、回折格子へ向かうX線を出射する。出射面から出射されたX線は、回折格子で回折されることにより、干渉パターンを形成する。ターゲットの複数の凸部は、複数の干渉パターンの明部同士及び暗部同士が互いに重なるように配列されていて、複数の出射面の各々と回折格子との距離が互いに等しいことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で重元素に対する組成分析を行う。
【解決手段】レーザーコンプトン光100が試料200に照射される。このレーザーコンプトン光100及びこのレーザーコンプトン光100が試料200を透過した後の透過光110がX線検出器120で検出され、その検出信号がデータ処理部130で処理される。このレーザーコンプトン光発生装置20は、準単色あるいは単色のX線をレーザーコンプトン光100として出力する。ここでは、周回軌道で加速された高エネルギー電子21とレーザー光22とが衝突部23で衝突する設定とされる。レーザー光源29から発せられたレーザー光22は、交差角調整部30でその交差角が制御され、衝突部23に導入され、高エネルギー電子21と衝突する。交差角調整部30によってこの交差角を制御することによって、レーザーコンプトン光100のエネルギーを制御することができる。 (もっと読む)


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