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Fターム[2G001KA08]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 分析の目的、用途、応用、志向 (3,508) | 結晶パラメータ (230)

Fターム[2G001KA08]に分類される特許

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【課題】
本発明は、X線等による回折測定時の含水結晶の乾燥を防ぎ、適切な試料凍結を行う方法及びそのための装置の提供を目的とする。
【解決手段】
結晶を水溶性ポリマーで包み込む工程を含む含水結晶のX線回折測定方法。 (もっと読む)


【課題】減厚による歪緩和の影響を補正して、バルクの結晶中の歪を測定する。
【手段】結晶基材を含む被測定試料に集束イオンビームを照射して減厚し、被測定試料薄片とする減厚工程と、減厚工程途中の複数時点で、被測定試料薄片に集束電子線を照射して高角度散乱電子の電子線強度I1〜I3を測定する工程と、前記複数時点で、結晶基材の格子定数を電子線回折法により測定し、被測定試料薄片の歪E1〜E3を算出する工程と、散乱電子の電子線強度I1〜I3及び歪E1〜E3に基づき、散乱電子の電子線強度Iを変数とする歪の近似式E=E(I)を作成する工程と、減厚に伴い歪緩和が始まる臨界厚さに等しい厚さの結晶基材に、集束電子線を照射したとき測定される高角度散乱電子の臨界電子線強度Ioを予測する工程と、臨界電子線強度Ioを近似式E=E(I)に代入して、被測定試料の歪Eoを算出する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】透過法によるX線回折測定ができる構造を前提として、被測定試料と標準試料の周囲環境を同じにして高精度な熱分析測定を実現する。
【解決手段】被測定試料に対しX線を照射してX線回折測定を実施するとともに、当該被測定試料および標準試料を加熱して熱分析測定を同時に実施する機能を備えたX線回折・熱分析同時測定装置であり、被測定試料および標準試料を加熱する加熱炉を備えている。この加熱炉は、円筒形状をしており、中心軸が水平方向に配置され、一端面から他端面へとX線を透過可能な構成をしている。さらに、被測定試料および標準試料を加熱する加熱炉内に配置され、これら各試料から伝えられる熱を検出する感熱板30と、感熱板30の感熱面に設けられた被測定試料を保持する第1試料保持部31と、感熱板30の感熱面に設けられた標準試料を保持する第2試料保持部32とを有している。 (もっと読む)


【課題】測定試料およびX線照射装置の姿勢を制御する駆動機構を有さず、かつ測定可能な試料の大きさや形状に特段の制約のないX線回折装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るX線回折装置は、X線照射装置と二次元X線検出器とを有するX線回折装置であって、前記二次元X線検出器は平板状に設置されており、前記X線照射装置は前記二次元X線検出器を貫通するように配設され、前記二次元X線検出器と前記X線照射装置とが一体に固定され、前記X線照射装置の姿勢を規定しかつX線の漏洩を防止するための筒状シールド部材が前記二次元X線検出器の周縁に配設されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、ナノ電子線回折パタンにおける各スポットの座標を適切に定義し、格子面距離を精度良く算出することを目的とする。
【解決手段】 上記課題は、回折スポット及び透過スポットを含む複数のスポットを表す電子線またはX線回折パタンを二階調化して二階調化データを生成するステップと、前記二階調化データを用いて、前記スポットの領域に相当する定義円を作成するステップと、前記スポットと前記定義円の各画素における差の二乗和が最小になるように前記定義円のサイズ又は座標の少なくとも1つを変化させて該スポットへフィッティングさせることによって、該スポットの近似円を取得するステップと、前記近似円の中心座標で前記スポットの座標を定義することによって、スポット間の距離を算出し格子面距離を取得するステップとをコンピュータが実行する半導体素子の評価方法により達成される。 (もっと読む)


【課題】従来は測定し難かった測定対象物であっても容易に測定できるX線回折装置及びX線回折の測定方法を提供する。
【解決手段】X線を照射するX線照射源1と、X線が測定対象物9に照射されて回折したX線を検出する検出器2と、X線照射源1と検出器2とを移動可能に支持する支持部材10と、を備えているX線回折装置100であって、支持部材10は、直交する二軸のそれぞれの軸方向に、それぞれ独立して移動可能な第1の位置決め手段13及び第2の位置決め手段14と、二軸に垂直な軸の軸方向に移動可能な第3の位置決め手段15とを備え、X線照射源1及び検出器2が固定された第1の位置決め手段13、第2の位置決め手段14及び第3の位置決め手段15が所定の位置に移動することにより、X線の照射位置及び回折したX線の検出位置が決定されるように構成されているX線回折装置。 (もっと読む)


【課題】水素吸蔵材料の中性子回折に使用することができる中性子による散乱が無い、若しくは散乱が少ない耐水素性及び耐圧性の中性子回折測定用セル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水素吸蔵材料を中性子回折測定する際の試料として保持するセルであって、中性子散乱の無い金属若しくは中性子散乱の少ない金属の内面に、水素吸蔵性の無い材料又は水素吸蔵性の小さい材料からなる耐水素性の層を設けたことを特徴とする。この耐水素性の層の厚さは、0.1μ〜100μmがより好ましい。 (もっと読む)


【課題】 多結晶材料中の結晶粒の配向と弾性歪を測定する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、一組の結晶粒(G,...G,...,G)を含む多結晶材料の試料中に含まれる結晶粒の結晶格子の配向と偏差弾性歪を測定する方法であって、一系列のラウエパターンを記録する工程と、前記ラウエパターンをインターレース解除する演算であって、結晶粒の空間的広がりをさらに特定するようにトモグラフィ演算と組み合わせられると有利であるインターレース解除演算と、を含む方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】面方位測定とノッチ方位測定の両方を1つの測定で同時に行うことができるようにする。
【解決手段】X線源Fからの連続X線を平行化して単結晶試料位置へ導くコリメータ33と、試料の格子面(001)に対応したラウエ像を検出できる第1位置に配置された第1の2次元検出器31と、試料の格子面(hhl)に対応したラウエ像を検出できる第2の位置に配置された第2の2次元検出器32と、第1の2次元検出器31の出力に基づいて格子面(001)の法線ベクトルV001を演算し、第2の2次元検出器32の出力に基づいて格子面(hhl)の法線ベクトルVhhlを演算し、ベクトルV001とベクトルVhhlとに基づいて方位マークの方向を演算する演算装置とを有するX線結晶方位測定装置である。2つの格子面(001)及び(hhl)は方位マークを付けようとしている結晶方位を晶帯軸とするときにその晶帯軸に属する格子面である。 (もっと読む)


【課題】結晶構造を有する試料から発生する散乱線および不純線を抑制し、回折X線を回避することができるX線分析装置および方法を提供する。
【解決手段】X線分析装置は、試料Sを試料の所定点周りに360°回転させながら1次X線2を照射させて取得した回折パターンを記憶する制御手段15と、試料SのR−θ座標において試料の測定面上に位置することができる試料の平行移動範囲の上下限値のθ座標を、演算および/または記憶する演算記憶手段17と、演算および/または記憶されたθ座標の上下限値、および回折パターンに基づいて、隣り合う間隔がθ座標の上下限値範囲内の角度であって、回折X線を回避できる回避角度を選択するための選択手段とを備え、制御手段15が試料の測定点の座標に応じて、回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、読み出した回避角度に試料を設定する。 (もっと読む)


【課題】人力で保持可能で、測定位置の画像確認が可能な可搬型X線回折計測装置を提供する。
【解決手段】
可搬型X線回折装置を、平行なX線を試料に斜め方向から照射するX線照射手段と、このX線照射手段によりX線が照射された試料で回折したX線のうち平行な成分の回折X線を集光して検出する回折X線検出手段と、回折X線を検出した前記回折X線検出手段から出力される信号を処理する信号処理手段とを備えて構成し、平行な連続波長のX線を試料に照射し、このX線が照射された試料で回折した回折X線から平行な成分を抽出してこの抽出した回折X線の平行な成分を集光し、この集光した回折X線をエネルギー分散型の検出素子で検出し、この検出素子で検出して得た信号を処理するX線回折方法とした。 (もっと読む)


【課題】アスベスト含有材料の無害化処理時に到達した加熱温度を正確かつ容易に評価することができる加熱温度判定方法を提供する。
【解決手段】アスベスト含有材料を加熱して無害化処理するにあたり、クリソタイルとカルシウムとを含むアスベスト含有検体を加熱して得られるオケルマナイト生成量と加熱温度との関係に基づいて、アスベスト含有材料が無害化処理時に到達する加熱温度を判定する。例えば、オケルマナイト生成量はX線回折によって測定される。 (もっと読む)


【課題】収束電子回折を用いた、物性の新規な測定方法を提供する。
【解決手段】物性の測定方法は、透過型電子顕微鏡により、試料の収束電子回折実験像を取得する工程と、収束電子回折実験像のZernikeモーメントの強度を計算する工程と、試料に関し物性を変化させて計算された収束電子回折計算像のZernikeモーメントの強度と、収束電子回折実験像のZernikeモーメントの強度とを比較する強度比較工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】X線測定における割込み測定を簡単に行えるようにし、複数の試料に対する主測定及び割込み測定の両方の信頼性を高く維持する。
【解決手段】試料支持台12を含むX線測定系4を防X線カバー2で包囲して成るX線測定装置1である。主測定の対象である複数のウエハを収容したカセット43aを載せるカセット台41aと、割込み測定の対象である複数のウエハを収容したカセット43bを載せるカセット台41bとが防X線カバー2の外側にある。試料室シャッタ52を開けることによりカセット43a,43b内のウエハをカバー2の内部のX線測定系4へ搬送できる。X線測定系4によってウエハの主測定又は割込み測定を行っている間、カバー8a,8bによってカセット43a,43bを覆い、ロック装置42a,42bでカバー8a,8bを開かないようにして、カセット43a,43b内のウエハが測定者の意に反して交換されてしまうことを防止する。 (もっと読む)


【課題】電子回折断層撮影の方法を提供する。
【解決手段】当該発明は、透過電子顕微鏡における電子回折断層撮影のための方法を記載する。知られた方法は、走査透過電子顕微鏡を使用することを伴うと共に、STEMの回折の走査されたビームを使用する。当該発明は、結晶と比べてわずかにより大きい直径を備えた静止のビーム(200)で回折パターンを形成することを提案するが、それの結果としてSTEMユニット無しのTEMは、使用されることができる。結晶を見出すことは、TEMのモードにおいてなされる。当該発明に従った方法の利点は、走査するユニット無しのTEMが、使用されることができると共に、全体の結晶が、回折パターンを得る一方で、照明される際に、回折のボリュームが、結晶の配向に依存するものではないというものである。 (もっと読む)


【課題】X線回折装置において異なる波長のX線に基づいた測定データを1回の測定によって同時に取得できるようにする。異なる波長の回折線のデータを2次元検出器の受光面の全領域を使って取得することを可能とする。
【解決手段】X線発生源2から発生した特性X線を試料3に照射し、試料3で回折した特性X線をX線検出部器6のX線検出部13によって検出する波長分別型X線回折装置1である。X線発生源2は、原子番号が異なる複数の金属によって構成され、それぞれの金属から互いに波長が異なる複数の特性X線を発生する。X線検出部13は、それぞれがX線を受光してX線の波長に対応したパルス信号を出力する複数のピクセル12で構成される。ピクセル12のそれぞれに付設されておりピクセル12の出力信号を特性X線の波長ごとに分別して出力する分別回路が設けられている。個々のピクセル12において波長別にX線強度を検出する。 (もっと読む)


【課題】測定精度の向上が図られるX線回折装置、を提供する。
【解決手段】X線回折装置10は、X線発生部22と、2次元検出器50と、スリット板40とを備える。X線発生部22は、X線を発生し、試料30に向けて照射する。2次元検出器50は、試料30により回折されたX線を2次元的に受光し、その受光領域内の各点においてX線を検出する。スリット板40は、試料30と2次元検出器50との間のX線の光路上に配置され、試料30により回折されたX線を部分的に遮蔽する。 (もっと読む)


【課題】 X線回折測定により、結晶構造または分子構造が特定方向に配向した周期構造を有した基材表面に形成された薄膜由来のX線回折プロファイルを確実に得る。
【解決手段】 基材5の表面に薄膜7が形成された薄膜材料3を、X線の照射面積を超える中空を有する試料台1に固定して、薄膜7の回折X線を測定するX線回折測定方法において、薄膜材料3の初期設定面に対して入射されるX線の薄膜7への正射影線9を回転軸として薄膜材料3を回転させ、薄膜7にX線が入射される測定面を該薄膜の初期設定面に対して傾斜させた状態でX線を薄膜7に入射させ、薄膜7の回折X線を測定する。 (もっと読む)


【課題】X線吸収部に対し試料部を相対的に移動することのできる明瞭なイメージ画像を得る。
【解決手段】干渉性X線が発せられるX線源と、X線源からのX線をコリメートするコリメータと、X線を吸収又は反射する材料により形成されており、X線の可干渉となる位置に設けられた参照穴及び透過窓とを有し、コリメートされたX線が照射されるX線吸収部と、透過窓を透過したX線が照射される位置の支持膜に試料が設置された試料部と、試料により生じる散乱X線と、参照穴を通過したX線との干渉により生じたホログラムを検出する検出器と、検出器により得られたホログラムに基づき試料の内部構造のイメージ画像を得るためフーリエ変換を行う処理部と、を有し、試料部は、X線吸収部に対し相対的に移動させることができるものであって、試料部とX線吸収部とが接触、または、試料部とX線吸収部との間隔が40μm以下となるように配置されている。 (もっと読む)


【課題】X線分析装置において湾曲モノクロメータ等といったX線光学要素を用いる場合と用いない場合とで、X線管等といったX線光学機器の位置及び角度を簡単な操作だけで適正な状態に正確に設定できるようにする。
【解決手段】試料Sに照射されるX線を発生するX線管27と、X線管27を保持するX線源アーム3と、X線管27が回転自在に取付けられX線源アーム3上を移動可能である可動部材18と、可動部材18を移動させるネジ軸21と、試料Sが置かれる位置へ向かって可動部材18と共に移動するX線管27が当接する第1の位置決め部材28aと、試料Sが置かれる位置から遠ざかる方向へ可動部材18と共に移動するX線管27が当接する第2の位置決め部材28bとを有しており、第1及び第2の位置決め部材はX線管27をX線源アーム3に対する互いに異なる角度で位置決めする。 (もっと読む)


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