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Fターム[2G001KA08]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 分析の目的、用途、応用、志向 (3,508) | 結晶パラメータ (230)

Fターム[2G001KA08]に分類される特許

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【課題】 面方位測定の大幅な時間短縮を実現し、サブグレイン構造やリネージ構造の試料に対し高速マップ測定が可能なX線結晶方位測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】 被測定結晶Sの測定面にX線を照射し、当該X線の照射により結晶の格子面に対応して得られる回折スポットをX線検出器30で検出し、当該検出した回折スポットの中心位置を測定して結晶の格子面法線を算出するX線結晶方位測定装置及び方法において、当該被測定結晶の測定面の照射点からの回折スポットを、TDI読み出しモードで動作するCCD(TDI-CCD)34により構成した二次元検出器で検出する。 (もっと読む)


【課題】 結晶粒の方位分布測定を短時間で実行可能としてインライン又はオンラインで検査可能な方位分布測定方法及びそのための装置を提供する。
【解決手段】 測定試料における結晶粒の方位分布測定を行なう結晶粒の方位分布測定方法であって、単色化したX線をX線ビームに形成し、当該形成したX線ビームを前記測定試料の表面に対し、所定の入射角を中心にした所定の角度幅で入射し、当該所定の角度幅で入射したX線の回折像を、TDI読み出しモードで動作するCCD34により構成した二次元検出器で検出して、その回折方向において積分して極点図を取得し、当該得られた極点図から結晶粒の方位分布測定を行なう。 (もっと読む)


【課題】介在物を介して結晶粒が時間の経過と共にどのように変化するのかを、従来よりも容易に且つ正確に解析できるようにする。
【解決手段】ライン変更処理部119において、結晶粒の同一の粒界上で互いに隣接する2つの粒界点を両端点とするラインが、インヒビター設定部118で設定されたインヒビター内を通る場合、当該インヒビター内に固定点を発生させる。また、粒界エネルギー(E)算出部121において、当該固定点が属する粒界における粒界エネルギーEiと、当該固定点を固定位置から平衡位置に移動させた際の粒界における粒界エネルギーEi'を算出する。そして、固定点処理部120において、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEi未満である場合に当該固定点を解除する処理を行い、インヒビターによって結晶粒の粒界移動が抑制される状態をシミュレーションできるようにする。 (もっと読む)


【課題】表面を皮膜で被覆された強誘電体の分極方向及び分極の大きさを、非破壊で評価する。
【解決手段】強誘電体の表面の2次元格子から回折される散乱X線の強度プロフィルを測定し、強度プロフィルの非対称性を、分極方向及び分極の大きさが知られている標準試料の非対称性(基準非対称)(分極域の面積比s=1、0)と比較することで、強誘電体の分極方向及び分極の大きさを評価する。散乱X線は、分極の方向及び大きさに応じた一定の非対称を有す。従って、試料の非対称性と一致する基準非対称性を有する標準試料の分極の大きさ及び方向を、試料のそれと評価することができる。 (もっと読む)


【課題】
パッケージに封入された結晶試料の形状を非破壊で評価できる技術を提供する。
【解決手段】
結晶試料の形状評価方法は、(a)仮想xyz直交座標系を有する空間の、xy面上に結晶試料を配置し、xz面に平行にX線を結晶試料上に照射し、結晶試料の所定結晶面からxz面に平行に回折されるX線を検出するように、X線ソース、X線検出器を配置し、y軸回りのωスキャンを行なって回折X線強度が最大となる角度ωを、結晶試料面内の位置の関数として検出する工程と、(b)回折X線強度が最大となる角度ωを結晶試料のx軸方向に積分し、結晶試料のx軸方向の形状を評価する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】部材を極力損傷させることなく、部材表面から試料片を採取可能な試料片採取方法を提供する。
【解決手段】試料片採取方法は、翼10(11)の表面114aから試料片20を採取する方法であり、、円筒状の刃202を備える超音波カッタ200を翼10(11)の表面114aから基材100の表面100aまで送って切削することで、円筒状の切り込み121を形成する。円盤状の刃222を備える回転カッタ220により円筒状の切り込み121から内側に向けて切削することで、切り込み121の内側にある部分20aを切り取り、これが試料片となる。 (もっと読む)


【課題】X線回折測定を用いて結晶の構造を正確に解析する。
【解決手段】対象試料にX線を照射したときに対象試料にて回折した回折X線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、「広開口角での対象試料の回折X線強度」と「狭開口角での対象試料の回折X線強度」とし、両者の相対比を「対象試料の回折X線強度比」とする。また結晶の完全性が保証された参照試料にX線を照射したときに参照試料にて回折した回折X線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、「広開口角での参照試料の回折X線強度」と「狭開口角での参照試料の回折X線強度」とし、両者の相対比を「参照試料の回折X線強度比」とする。そして、「対象試料の回折X線強度比」を、「参照試料の回折X線強度比」で除算した値を、「規格化された回折X線強度比」としこの値から結晶状態を解析する。 (もっと読む)


【課題】X線回折測定を用いて結晶の構造を正確に解析する。
【解決手段】対象試料にX線を照射したときに対象試料にて回折した回折X線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、両者の相対比を「対象試料の回折X線強度比」とする。また結晶の完全性が保証された参照試料にX線を照射したときに参照試料にて回折した回折X線の強度を、広い開口角条件と狭い開口角条件にて検出して、両者の相対比を「参照試料の回折X線強度比」とする。参照試料に対してX線解析をする際の反射指数は、対象試料に対してX線解析をする際における反射指数に対して独立選択したものとしている。そして、「対象試料の回折X線強度比」を、「参照試料の回折X線強度比」で除算した値を、「規格化された回折X線強度比」としこの値から結晶状態を解析する。 (もっと読む)


【課題】薄膜の結晶粒子の配列状態を簡便に得る方法とこれを用いた薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜面を測定して得たX線回折パターンPaと、前記薄膜面に対して直角な薄膜断面を測定面として測定して得たX線回折パターンPbとを用い、薄膜を構成する結晶粒子の面方位に該当するピークの実測強度の総和をIps1とし、所望面方位に該当するピークの実測強度の和をIpo1とし、無配向のX線回折パターンを用いて、薄膜を構成する結晶粒子の面方位に該当するピークの強度の総和をIps2とし、無配向のX線回折パターンを用いて、前記所望方位に該当するピークの強度の和をIpo2とし、下記式に代入して配向度Kを求める。
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【課題】ノッチ形状誤差等によるノッチ位置決め誤差が補正でき、半径方向結晶方位の測定の精度が高い結晶方位測定装置を提供する。
【解決手段】円筒状結晶2をその円筒軸に対し回転させる回転部11と、円筒状結晶2を回転し、円筒状結晶2の周側面に設けられたノッチ2aを基準に円筒状結晶2を位置決めする位置決め部12と、円筒状結晶2が位置決めされると、回転軸に対するノッチ2の位置を測定するノッチ測定部12と、周側面にX線を照射して半径方向の結晶方位を測定する結晶方位測定部13と、結晶方位測定部13で測定した結晶方位をノッチ測定部12で測定したノッチの位置で補正して半径方向の結晶方位を求める補正部142とを備える。 (もっと読む)


【課題】 試料を固定しながら、小角X線散乱装置により実現可能な、薄膜状の試料に対する小角X線散乱の測定方法を提供する。
【解決手段】 X線発生装置によりX線を発生し、当該X線発生装置から発生したX線を光学系により所定のX線入射ビームに形成し、当該形成したX線入射ビームを、試料保持部に搭載した測定試料に照射し、当該試料からの小角散乱X線をX線検出器により検出する小角X線散乱の測定方法において、板状の基板表面に薄膜状に形成された当該試料に対し、前記X線入射ビームをその側端面から、当該薄膜状試料の表面に対して負の角度を有する入射角度で入射する小角X線散乱の測定方法。 (もっと読む)


【課題】ガラスからなる底板と、所定の配列で設けられた多数個の貫通孔を有するガラスからなる本体ブロックを融着によって接合一体化してなる、有機溶剤を安全に使用でき、さらにX線等の電磁波を用いた解析に用いることが可能である多穴型容器およびその製造方法を提供する。
【解決手段】リドロー加工によって厚さを0.2mm以下としたガラスからなる底板と、所定の配列で設けられた多数個の貫通孔を有するガラスからなる本体ブロックとを研磨した後にこの研磨面で重ね合わせ、これら底板および本体ブロックを一対の押圧部材で押圧し、その後冷却して底板と本体ブロックを接合する工程を有し、前記押圧部材のうち本体ブロックと直接接触する方の押圧部材の表面に、貫通孔と底板で区画形成された空間を外界と連通させて前記空間内のガスを外気圧に維持するガス圧調整手段を設けることを特徴とする製造工程からなる。 (もっと読む)


【課題】化学反応により生成した結晶を、容易にかつ効率良く採取することができるキット及び方法の提供。
【解決手段】反応容器に挿脱自在の非磁性有底筒状体と、当該非磁性有底筒状体に挿脱自在な、かつ磁石又は磁性体を備えた挿入体と、反応液中に投入される磁石とから成る結晶採取キット;反応液中に磁石を投入するステップと、当該磁石を取り出すことなく結晶化せしめるステップと、結晶が付着形成された磁石を反応容器から取り出すステップとを有する結晶採取方法。 (もっと読む)


【課題】化学反応により生成した結晶を、容易にかつ効率良く採取することができるキット及び方法の提供。
【解決手段】反応容器に挿脱自在な、かつ上部に磁石を備えた棒状磁性体と、当該棒状磁性体が挿通自在の貫通穴を備えた非磁性板状体と、当該貫通穴の径より大きな径を有し、かつ反応液中に投入される磁石とから成る結晶採取キット;反応液中に磁石を投入するステップと、当該磁石を取り出すことなく結晶化せしめるステップと、結晶が付着形成された磁石を反応容器から取り出すステップとを有する結晶採取方法。 (もっと読む)


結晶質形態の化合物であるPh(3-Cl)(5-OCHF2)-(R)CH(OH)C(O)-Aze-Pab(OMe)(化合物A)およびPh(3-Cl)(5-OCHF2)-(R)CH(OH)C(O)-Aze-Pab(OH)(化合物B)、それらを含有する医薬組成物、それらを得るための方法、ならびに医療処置におけるそれらの使用が提供される。 (もっと読む)


本発明は、1つ以上の結晶性平面分子の回折パターンの1組の校正不要な特性から、前記1つ以上の結晶性平面分子の結晶構造及び/又は結晶構造の範囲を決定する方法、コンピュータプログラム、及び装置に関する。
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【課題】 酸素分子を選択的に検出可能であり、簡便に行うことができる酸素分子検出方法を提供する。
【解決手段】 下記式(I)で表されるピリジニルピラジンと下記式(II)で表されるメタロセニウムイオンと酸素分子(O2)とを反応させ、前記反応工程の生成物を検出することで間接的に酸素分子を検出する。
【化1】


前記式(I)中、Rは、それぞれ、水素原子、アルキル基等であり、Xは、N、CH、等であり、Yは、任意の原子団である。 (もっと読む)


【課題】キャピラリーの回転ぶれを簡便に抑制することができるキャピラリー回転装置を提供する。
【解決手段】キャピラリー回転装置10は、キャピラリーCの先端部側から後端部側に向けて順に配置された第1案内部材11と第2案内部材12と第3案内部材13と回転支持機構14とを備える。回転支持機構は、キャピラリーの後端部を支持すると共に、キャピラリーを軸方向周りに回転させるように動作する。第1及び第3案内部材の凹溝はキャピラリーの同じ側面側に配置される一方、第2案内部材の凹溝は対向する側面側に配置され、少なくとも回転支持機構によってキャピラリーを軸方向周りに回転させる際、第1及び第2案内部材の凹溝の離間距離はキャピラリーの外径と略同等に設定される一方、第3案内部材の凹溝は該凹溝によってキャピラリーが第2案内部材の凹溝側に押圧されるように位置決めされる。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハの大口径化に対応して、縦方向における発散角の拡大と共に、横方向の視野の拡大可能な2結晶法X線トポグラフィ装置を提供する。
【解決手段】回折X線を、試料である第2結晶2の表面を走査しながら所定の角度で入射し、試料である第2結晶の表面から得られる回折X線をX線フィルム4上に記録して、X線トポグラフィを得る2結晶法X線トポグラフィ装置において、X線源5と、コリメータ10と、所定の幅でX線を入射するスリット6とによってX線発生部を構成し、第1結晶1と第2結晶2、X線フィルム4上を含めてトポゴニオ部を構成し、トポゴニオ部を定盤3上に搭載すると共に、X線発生部を、定盤に対して移動可能な走査台7上に搭載し、もって、X線源5からのX線から第1結晶1を介して得られる回折X線を第2結晶2の表面上で走査する。 (もっと読む)


【課題】高強度化、高導電率化とともに、優れた曲げ加工性を兼備した銅合金を提供することを目的とする。
【解決手段】強度と導電率とのバランスからNi、Si、Tiを各々特定量含有する銅合金組織の、50〜200nmの特定サイズの析出物の数密度を保証した上で、この範囲のサイズの析出物に含まれるTiの平均原子濃度を一定範囲に制御して、一定量のTi含有析出物を存在させ、このTi含有析出物による結晶粒成長抑制のピン止め効果によって、平均結晶粒径を20μm 以下に微細化させ、前記銅合金に高強度、高導電率および曲げ加工性を兼備させる。 (もっと読む)


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