【課題】Ｓ／ＴＥＭ分析のためにサンプルを抽出および取り扱うための改善された方法および装置を提供すること。
【解決手段】本発明の好適な実施形態は、ラメラを基板表面を有する基板から抽出するための装置であって、１以上のステージ・コントローラに接続された基板用の可動ステージと、マイクロプローブと、可動ステージ上に設けられて基板を保持する基板ホルダと、基板ホルダが基板を保持しているときに基板表面に対してある斜角で基板表面に光を当てるための斜照明と、基板を撮像する光学顕微鏡とを備える。 （もっと読む）

【課題】画像形成システムを用いて対象領域の三次元モデルを生成するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明は、ｘ線画像形成システムにおいて、ターゲット・オブジェクト上の対象領域の三次元表現を生成する方法を提供する。本方法は、既知の幾何学的形状の基準マーカーを使用する。対象領域及び基準マーカーが、複数の所定位置において画像形成される。各々の所定位置についての基準マーカーの予測される画像を計算し、各々の所定位置における基準マーカーのキャプチャされた画像と比較する。予測される画像とキャプチャされた画像との間の相違を用いて、各々の所定位置についての対象領域の修正された画像を生成し、これらの修正された画像を用いて、対象領域の三次元モデルを生成する。本方法は、高価な機械的位置決めシステムを必要とすることなく、ｘ線画像形成システムにおける対象領域の有用な三次元モデルを生成することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】照射範囲の広いX線照射装置を用いて、試料を電子回路基板等に実装したままで、分析対象部分にのみX線を照射して分析する。
【解決手段】X線照射位置決めフィルタ２０Ａが電子回路基板６０上の部品６１Ａの近傍に配置されている。X線照射位置決めフィルタ２０ＡにはX線を通す窓が開いている。窓の形状は、部品６１Ａにおける分析対象部分の形状に合わされている。窓を除く表面はX線を遮断する。蛍光X線分析装置１Ａは、X線管１０で発生する一次X線１１を部品６１Ａに照射する。窓を通過した一次X線１１によって部品６１Ａにおける分析対象部分を構成する物質の分子が励起され、蛍光X線１２が発生する。蛍光X線分析装置１Ａは、その蛍光X線１２を検出器３０で検出し、分析器４０で部品６１Ａを構成する物質に含有される成分を分析する。 （もっと読む）

【課題】全重量を軽くでき、被検車両の前輪を持ち上げて牽引してもフレームの変形が少なく、フレームの変形を規制するガイドが不要であり、重負荷により破損する可能性がある構成部材がなく、メンテナンスの必要性が低い地上式搬送装置を提供する。
【解決手段】被検車両１の搬送通路２に沿って被検車両の外側に位置し搬送方向３に水平に延びる左右の走行レール１２と、同一の姿勢を保持しかつ互いに同期して各走行レール上を移動可能な左右の移動台車２０と、各移動台車に設けられ、被検車両の前輪を昇降可能であり、かつ被検車両と干渉しない退避位置に退避可能な左右の前輪昇降装置３０と、各移動台車を連結する連結位置と被検車両と干渉しない退避位置との間で移動可能な連結装置４０とを備える。連結装置４０は、前輪昇降装置３０による被検車両１の前輪１ａの昇降時に、左右の移動台車２０を連結して各移動台車に作用する転倒モーメントを支持する。 （もっと読む）

【課題】ウエハとマスクのように同等の回路パターンが形成されているが形状が異なる試料を一つの装置で検査することができる検査装置または検査方法を提供する。
【解決手段】検査装置が、形状が異なる複数の試料に対応した複数の搬送ホルダを備えることにより、同一試料室で異なる試料の検査を可能とする。更に、双方の試料に対する検査結果を照合する機能を備えることにより、欠陥と欠陥が生じる原因との関係を容易に解析できるようにする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線検査装置において、検査対象領域を広くしつつ、対象物を確実に保持できるようにする。
【解決手段】Ｘ線検査装置において、クランプ５０は上方から基板１０を支持する。クランプ５０の上記端面は傾斜を有する。これにより、クランプ５０に確実に基板１０を支持させつつ、Ｘ線源２から放射されるＸ線（符号ＸＲで示されている）の基板１０による透過光がクランプ５０によって遮蔽されることを極力回避できる。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構を付加するだけで、測定室内の雰囲気を短時間でヘリウムガスから空気に置換することが可能な蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】開口部３を有するベース板１の下方に測定室２が設けられ、該開口部３を塞ぐように試料Ｓを載置し、試料ＳにＸ線光源４から一次Ｘ線を照射して、発生する蛍光Ｘ線を検出器５で検出して試料Ｓに含まれる元素を分析する蛍光Ｘ線分析装置において、測定室２にヘリウムガスを注入するヘリウムガス注入手段Ａと、測定室２に空気を強制送入する空気送入手段Ｂと、ベース板１の試料Ｓの上方空間１４を囲う着脱可能な蓋体１５とを備え、ヘリウムガス注入手段Ａは、測定室２の壁板２ａに形成されたガス注入口６と、該ガス注入口６からガスボンベ７に接続する配管８とからなり、空気送入手段Ｂは、測定室２の壁板２ａに形成された空気注入口９と、該空気注入口９から空気供給源１０に接続する配管１１とで構成する。 （もっと読む）

【課題】第1の測定と第2の測定との間で測定サンプルが大気に触れないようにすることができ、またこれらの複数の測定にかかる時間を短縮化すること。
【解決手段】一つの気密（減圧）容器内に、第１の測定を行う第１の測定部と、第１とは異なる第２の測定を行う第２の測定部とを設ける。試料を取り付けたサンプルホルダの、第１の測定部から第２の測定部への移動は、サンプルホルダ移動手段により行う。 （もっと読む）

【課題】 観察対象部位が試料内部にある場合でも、集束イオンビーム加工装置を用いた断面加工を行って走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡を用いて精度の高い観察ができる電子顕微鏡用試料の作製方法を提供する。
【解決手段】 透明性を有する試料の内部に存在する観察対象部位とその試料の表面に存在する所定の目標物とが同一画像上に現れるように光学顕微鏡で試料を撮像し、撮像された顕微鏡像に基づいて、観察対象部位の位置情報を算出し、算出された観察対象部位の位置情報に基づいて、集束イオンビーム加工装置を用いて試料から観察対象部位を包含する微小片試料を摘出し、摘出した微小片試料を、集束イオンビームを照射することによって断面加工し、微小片試料の表面に観察対象部位を位置させる。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単であり、グローブを着けての作業も行い易く、電極と外部電位との電気的な接続を安定的にとることができる電池構造体を提供する。
【解決手段】電界物質を含んでいるセパレータ７の両面に配置された正極材８及び負極材９と、正極材８に接触している正極側シール部材３ｂと、負極材９に接触している負極側シール部材３ａと、正極側シール部材３ｂに接触している正極側弾性部材４ｂと、負極側シール部材３ａに接触している負極側弾性部材４ａと、正極側弾性部材４ｂと負極側弾性部材４ａとを互いに近づく方向へ押し付ける弾性部材押圧機構５ａ、５ｂ，１８、２２とを有するＸ線測定用電池構造体１である。シール部材３ｂ，３ａは耐食性を有しており、シール部材３ｂ，３ａ及び弾性部材４ｂ，４ａはＸ線を通過させる部分を有しており、弾性部材押圧機構５ｂ、５ａ、１８、２２はＸ線経路を妨げない。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射を受けて遮蔽板が高温度となって遮蔽板の支持部材に熱膨張が発生して遮蔽板が移動しても、良好な断面試料を作製する試料作製装置を提供する。
【解決手段】遮蔽板を試料の一部が露出しその他が遮蔽されるように配置し、遮蔽板と試料６の露出部分に跨るようにイオンビームを試料６に照射することにより、試料６の露出部分をエッチングして試料断面を作製する試料作製装置であって、遮蔽板ステージ９と、前記遮蔽板ステージ９により基端部を支持され、先端側が自由端となされた支持部材と、前記支持部材の先端側に支持された遮蔽板とを備え、前記支持部材は、前記遮蔽板の前記支持部材の基端側に向かう一側縁が前記イオンビームの照射位置となるように該遮蔽板を保持し、この遮蔽板により前記イオンビームが遮蔽される位置に設置された前記試料の該遮蔽板の一側縁から露出した箇所への前記イオンビームによる加工を行わせるようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、シリコン（Ｓｉ）基板を用い電鋳法で格子の金属部分をより緻密に形成し得る金属格子の製造方法および前記金属格子ならびにこれを用いたＸ線撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の金属格子ＤＧは、第１Ｓｉ部分１１とこの上に形成され第２Ｓｉ部分１２ａおよび金属部分１２ｂを交互に平行に配設した格子１２とを備え、第２Ｓｉ部分１２ａは、金属部分１２ｂとの間に第１絶縁層１２ｃを有し、その頂部に第２絶縁層１２ｄを有する。金属格子ＤＧは、シリコン基板上にレジスト層を形成し、これをリソグラフィー法でパターニングして除去し、ドライエッチング法で除去部分を所定の深さＨまでエッチングして凹部（例えばスリット溝等）を形成し、この凹部の形成面側の全面に堆積法によって絶縁層を形成し、凹部の底部の絶縁層を除し、電鋳法で凹部を金属で埋めることで製造される。 （もっと読む）

【課題】画素毎に、検出素子の個体差を考慮した校正を施す。
【解決手段】格子状に等間隔に配列された複数の検出素子６１を有し、各検出素子６１が検出した被写体としてのプリント基板Ｗの画像を画素毎に分解して出力する撮像ユニット２０、４０を備えている装置に適用される。個々の画素の個体差を表す個体差ファクタα、βを記憶し、記憶された個体差ファクタα、βに基づいて、当該検出素子６１毎に線形な校正値を出力し、前記検出値校正処理部２２５が演算した校正値Ｉχｃに基づいて、画素毎に目標物理量としての輝度値Ｂや材料厚さχを演算する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線を試料表面に対して、所望の領域に広範囲の角度で照射可能な荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】イオンビームカラム２０１ａの中心軸の延長線に沿う方向の位置、直交する方向の位置）や傾斜角度（イオンビームカラム２０１ａの中心軸の延長線と直交する面に対する傾斜角度）を調整可能な電極を有する電極部２０４を、試料室２０３内に配置し、電極等により、曲げられたイオンビーム２０１ｂを試料２０２の表面に照射するように構成する。イオンビーム２０１ｂを試料２０２の表面の所望の領域に、試料表面に対して広範囲の角度で照射可能となる。 （もっと読む）

【課題】セメントを含有する溶液を精度よく分析できる溶液分析装置を提供する。
【解決手段】セメントを含有する溶液を分析する溶液分析装置１０であって、溶液が流動する管路であり、該管路における所定容積の一部を上流側及び下流側から独立して荷重を支持できるように構成したスパイラル計量管３２を有する循環管路２０と、スパイラル計量管３２の重量を測定するロードセル３８と、循環管路２０に介装されたＸ線測定ブロック４０と、Ｘ線測定ブロック４０を流れる溶液のカルシウム含有率を測定する蛍光Ｘ線測定装置５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 ダイナミックレンジが広くかつ密度分解能が高い屈折コントラスト型X線撮像方法を提供する
【解決手段】 被写体の密度分布に応じて、非対称結晶の非対称度を変化させることによって、入射Ｘ線と回折Ｘ線がほぼ比例する角度領域を広げ、回折Ｘ線強度が最大値の半分となる低角および高角の入射角度で測定を行う。 （もっと読む）

【課題】より高効率に、かつより高精度に極点図測定することが可能なＸ線回折用治具を提供する。
【解決手段】主表面１２ｃを有するベース体１２０と、一方の主表面１２ｃから突出するようにベース体１２０に固定された複数の側壁部１２１と、一方の主表面１２ｃ上に載置され、試料１１の高さを調整可能な調整部材１４とを備えている。上記側壁部１２１の最上面１２ａ、１２ｂは主表面１２ｃに沿う方向に配置され、複数の最上面１２ａ、１２ｂのそれぞれの、主表面１２ｃからの距離は等しく、複数の側壁部１２１は主表面１２ｃを挟みながら互いに対向する。 （もっと読む）

【課題】 複数の試料について連続測定を行う場合において、試料の位置決めや分析領域の把握が容易であり、より信頼性の高い測定が実施可能であると共に高い利便性の得られる分析システムを提供すること。
【解決手段】 試料に紫外線を照射することにより当該試料から放出される光電子を検出する光電子検出装置を備えた分析システムにおいて、光電子検出装置は、一面に複数の試料載置部が形成された分析領域を有するプレート状の試料ホルダと、当該試料ホルダが水平方向に延びる姿勢で着脱自在に装着される試料ステージと、試料ステージを、試料ホルダにおける順次に指定される一の試料載置部が紫外線照射装置より照射される紫外線の照射スポットに位置されるよう、位置調整する制御手段と、試料から放出される光電子を検出する光電子検出器と、試料ホルダにおける分析領域の画像データを取得する撮像手段とを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】円筒面変換処理と時間遅延積分処理との両方を同じ演算制御過程内で行うことを可能にすることにより、極めて分解能が高く、しかも強度の高い回折Ｘ線像を得ることができるＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】ＣＰＵ１７、メモリ２０等から成るコンピュータの外部にＤＳＰ（デジタルシグナルプロセッサ）から成る信号処理部２１を設置して成るＸ線回折装置１である。測定装置２はＸ線回折測定を行う。２次元ピクセル型検出器１２は複数のピクセルから出力されるデータ量の大きな２次元回折線データを高速通信線であるカメラリンクケーブル２４を通して信号処理部２１へ伝送する。信号処理部２１は送られてきた大量の回折線データに対して円筒面変換処理２６及び時間遅延積分処理２７を行い、処理結果の画像データを１ラインの行データごとにバス２３へ伝送する。 （もっと読む）

【課題】しきい光電子分光を効率的に行うことができる装置および方法を提供する。
【解決手段】しきい光電子分光装置１は、第１光源１０、第２光源２０、照射光学系３０、真空容器４０、分子線生成部５０、撮像部６０および検出部７０を備える。準備段階において、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第１光源による第１パルス光出力タイミングを各値に設定して、分子線生成部による分子線生成，第１光源による第１パルス光出力および撮像部による蛍光撮像を行う。続く測定段階において、準備段階で撮像部による蛍光撮像により得られた蛍光像に基づいて決定されるタイミングおよび照射位置となるように、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第２光源による第２パルス光出力タイミングを設定するとともに、分子線への第２パルス光の照射位置を設定する。 （もっと読む）