【課題】蛍光Ｘ線分析法による成分定量において分析精度を向上できる試料の予備成形方法およびそれを用いる成分定量方法を提供することを目的とする。
【解決手段】加圧して本成形した後で蛍光Ｘ線分析法に用いられる試料を予備成形する方法であって、平均粒径Ｄ５０が３０μｍ以下の金属または合金粉末を型に充填して成形し、この成形体５のＸ線が照射される面５ａの全面を押込み率を１０〜４０％にして加圧することを特徴とする試料の予備成形方法である。本発明の予備成形方法は、成形体５のＸ線が照射される面５ａの全面を押込み率を１０〜４０％にして加圧する際に、成形体５のＸ線が照射される面の全面を加圧するパンチ４と、このパンチ４を案内するガイド３とを用いるのが好ましく、金属または合金粉末として、希土類−鉄−ホウ素系合金の酸化物粉末を用いるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】表面処理を行ったフィルム、ここでは薬剤による化学的処理や微細形状加工などを除く、不安定で失効しやすい表面改質処理を行なったポリマーフィルムを対象とした評価を行うに当り、測定用装置によって生じたダメージに起因する誤差を修正して、より正確な初期表面状態を容易かつ簡便に評価可能な技術を提供することを課題とする。
【解決手段】コロナ処理など不安定な表面改質処理を行ったポリマーフィルムについて、その表面状態を定量的に評価するに際し、測定用装置によって生じたダメージに起因する誤差を修正して、より正確な初期表面状態の評価を行う。 （もっと読む）

【課題】加圧成形試料からの破片や粉体による汚染を簡単な作業で十分に抑制できる試料ホルダを提供する。
【解決手段】加圧成形試料１を保持する試料ホルダ２であって、底部３ａ付きの円筒形であって通気部３ｃを有する本体３と、本体３の上部を覆うように着脱自在に取り付けられ、加圧成形試料１の分析面１ａを露出させる開口４ａを有し、下方から加圧成形試料１が当接される蓋体４と、加圧成形試料１が載置される受け皿５と、本体３の底部３ａと受け皿５との間に配置され、受け皿５を介して加圧成形試料１を蓋体４に押圧する内側ばね６と、加圧成形試料１を非接触で囲うように配置されるリング部７ａおよびそのリング部７ａから垂下する多孔性膜である袋部７ｂからなるトラップ７と、底部３ａとリング部７ａとの間に配置され、リング部７ａを蓋体４に押圧する外側ばね８とを備える。 （もっと読む）

【課題】極めて容易に短時間で軟質合金の分析用試料を作製することを可能とする。
【解決手段】成型容器１に入れられた軟質合金２を表面３Ａが鏡面仕上げされた成型部材３の表面３Ａに接した状態で加圧成型することにより、軟質合金２の分析用試料２を作製する。成型部材１は、表面の凹凸が１μｍ以下に鏡面仕上げされている。軟質合金２を加圧成型する際の加圧力が、６０ｋｇ重／ｃｍ２以上である。軟質合金２は、展性を有する金属材料である。 （もっと読む）

【課題】迅速に、かつ正確な方法で使用する石炭灰のアルカリシリカ反応の抑制効果を評価することのできる方法、およびそれを用いたセメントおよびコンクリートの製造方法を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡を用いた粒子解析により、使用する石炭灰中に含まれる特定の種類の粒子の比表面積を算出し、予め収集した産地の異なる石炭灰を混合したモルタルによるアルカリシリカ反応性試験の膨張率のデータとを比較し、使用する石炭灰のアルカリシリカ反応の抑制効果を評価する。さらに、使用する石炭灰中に含まれる特定の種類の粒子の比表面積と石炭灰のセメント置換率を乗じた積の値をアルカリシリカ反応抑制の指標として用い、使用する石炭灰のセメントおよびコンクリートへの必要な配合量を算出する。 （もっと読む）

【課題】
ディスクブレーキやドラムブレーキに使用される摩擦材において、摩擦材内部の気孔の状態や亀裂による空隙の有無を迅速、正確、且つ容易に観察することができる摩擦材の分析方法を提供すること。
【解決手段】
摩擦材の成分に含まれず、且つＸ線に対する感度の高い元素である塩素を含む物質を含浸させ、Ｘ線分析装置を用いて摩擦材内部に侵入した塩素を検出し、検出した塩素の分布状態を分析する。
前記塩素を含む物質は、４,４’-メチレンビス（２-クロロアニリン）が好ましい。
摩擦材の内部構造を分析することにより、要求される摩擦特性や振動特性を得るための好適な製造条件を求めることができ、所望の特性の摩擦材を容易に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】触媒濃度の極めて低い条件化においてＸＲＦ分析を実施するに際し、高精度のＸＲＦ分析結果を得ることのできる触媒特定方法を提供する。
【解決手段】マトリックス担体に金属触媒が担持されてなる触媒コート層１において、Ｘ線照射によって励起される金属触媒に固有のＸ線エネルギとＸ線強度を検出する蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）を使用して、金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であって、Ｘ線照射方向に１００μｍ以下の厚みを有する触媒コート層１を準備する第１のステップと、触媒コート層１にＸ線を照射して金属触媒の濃度もしくは分布を特定する第２のステップからなる。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡により高分子材料の相分離構造、ラメラ構造および結晶の配向状態を解析することが可能な高分子材料の微細構造の観察方法を提供する。
【解決手段】本発明の高分子材料の微細構造の観察方法は、高分子材料を所定の大きさに成形して、観察用の試料とする工程Ａと、前記試料を液状の透明樹脂で包埋する工程Ｂと、前記透明樹脂が硬化した後、クロスセクションポリッシャーにより、前記透明樹脂および前記試料を研磨し、前記試料の観察面の面出しを行う工程Ｃと、前記面出しされた観察面に、導電膜を形成する工程Ｄと、前記導電膜が形成された観察面を、走査型電子顕微鏡により観察する工程Ｅと、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好な分析感度を有し、且つ、分析結果のバラツキが少なく、蛍光Ｘ線分析に用いるのに好適な固体試料が容易に得られる蛍光Ｘ線分析用試料作製器具を提供する。
【解決手段】試料原料収容孔１１が形成された金枠１２と、金枠収容孔１４が形成された金枠収容板１５と、金枠収容板１５を載置するための基台１３と、金枠収容板１５に収容された金枠１２を挟むように金枠収容板１５に対向した位置に配置されて金枠１２を加圧するための加圧盤１６とを有する試料成型治具１０と、金枠１２を含む金枠収容板１５を載置するための土台２１と、土台２１に対向する位置に配置されて土台２１に載置された金枠収容板１５を保持するための保持部材２２と、保持部材２２で土台２１に保持された金枠収容板１５から成型された固体試料を押し出すための試料押出手段２３が形成されたレバー２４とを有するオーバーフロー除去治具２０とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】無機酸化物系材料中のエトリンガイト量を精度良く定量する。
【解決手段】無機酸化物系材料を、5ｍｍより小さい粒度まで粗粉砕し、150μｍ以下の粒度のものを篩いとり、全体に対する150μｍ以下の粒度の質量割合を測定した上で、前記150μｍ以下の粒度の材料中に含まれるエトリンガイトの量を定量分析し、それを質量割合で割り戻すことにより、無機酸化物系材料中のエトリンガイトの量を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡を用いて角層細胞間の微細構造の全体の詳細を簡便かつ明瞭に観察することができる角層細胞間の微細構造の観察方法を提供する。
【解決手段】透過型電子顕微鏡を用いた角層細胞間の微細構造の観察方法であって、皮膚面に対して垂直方向に切断面を有するように切り出した皮膚試料４に対して、角層細胞間脂質の層構造１４の面内方向に電子線１０が照射されるように、透過型電子顕微鏡用試料ホルダー上の、該皮膚試料を載せたグリッド１の向きを調整し皮膚試料の向きを調整する、角層細胞間の微細構造の観察方法。 （もっと読む）

【課題】効率的な試料表面検査システムを提供する。
【解決手段】試料の表面を平坦化する表面平坦化機構と、試料上に抵抗膜を形成する抵抗膜コーティング機構と、試料表面の評価を行う表面検査機構を備えている。表面検査機構は、紫外線発生源３０と、電磁波を試料表面に斜め方向から導く光学系と、試料表面から放出された電子を試料表面に直交する方向に導く写像光学系４０と、検出器５０と、画像形成／信号処理回路６０とを備えている。写像光学系は、３つのレンズ系４１〜４３と、アパーチャ４４とを備えている。紫外線源の代わりにＸ線源を用いてもよい。また、電子線源から生成された電子線を試料の表面上に導く装置を設け、電磁波照射装置及び電子線照射装置の一方又は両方を駆動して、電磁波又は電子線の一方又は両方を試料の表面に照射するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】、マスク上の欠陥とそれがウェハに及ぼす影響、修正による改善の程度まで推定可能な欠陥推定装置と欠陥推定方法を提供する。欠陥判定処理を容易にし、マスク上の欠陥とウェハ像への波及を推定可能な検査装置と検査方法を提供する。
【解決手段】マスク検査結果２０５のうち、欠陥箇所のマスク採取データは、模擬修正回路３００に送られて模擬修正が行われる。模擬修正されたマスク採取データは、マスク検査結果２０５に戻された後、対応する箇所の参照画像とともにウェハ転写シミュレータ４００に送られる。ウェハ転写シミュレータ４００で推定されたウェハ転写像は比較回路３０１に送られ、比較回路３０１で欠陥と判定されると、その座標と、欠陥判定の根拠となったウェハ転写像とが、転写像検査結果２０６として保存される。マスク検査結果２０５と転写像検査結果２０６はレビュー装置５００に送られる。 （もっと読む）

【課題】モルタル又はコンクリートの断熱温度上昇速度を迅速に予測できる方法を提供すること。
【解決手段】セメントクリンカー又は当該セメントクリンカーを含むセメントの粉末Ｘ線回折結果をプロファイルフィッティング法により解析して、セメントクリンカーに含まれるクリンカー鉱物の結晶情報を得る第一工程と、結晶情報を基に、セメントクリンカーを含むセメントから得られるモルタル又はコンクリートの断熱温度上昇速度ｖを予測する第二工程と、を有するモルタル又はコンクリートの断熱温度上昇速度の予測方法。 （もっと読む）

【課題】バイオマスメタン発酵施設などにおける含水状態の有機汚泥の全体組成を迅速に評価することができる有機汚泥の組成推定方法を提供することにある。
【解決手段】有機汚泥の組成推定方法において、蛍光Ｘ線法を用いて測定されたリンとカルシウムの量からリン酸カルシウム系化合物量を推定する工程と、前記リン酸カルシウム系化合物に含まれなかったカルシウム残量から炭酸カルシウム量を推定する工程とを備える。有機汚泥としてはメタン発酵汚泥であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】触媒濃度の極めて低い条件下においてＥＰＭＡ分析を実施するに際し、高強度の電子線の照射に対して亀裂の起点となり得る触媒コート層と包埋樹脂層の間の低強度な界面の存在を許容しながら、ゴースト信号がマッピングされることのない、高精度のＥＰＭＡ分析結果を得ることのできる触媒特定方法を提供する。
【解決手段】マトリックス担体に金属触媒が担持されてなる触媒コート層１０において、該金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であり、触媒コート層１０上にダミー層３０を形成し、該ダミー層３０上に包埋樹脂層２０を形成する第１のステップ、電子線を照射した際の金属触媒に固有のＸ線強度を測定する電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）を使用して、包埋樹脂層２０とダミー層３０と触媒コート層１０に該電子線を照射して、触媒の濃度もしくは分布を特定する第２のステップ、からなる。 （もっと読む）

【課題】
デバイス等の不良原因となる１μmほどの微小絶縁物試料等の分析前処理として、帯電の支障を少なくし、周辺の基材を混合することなく目的物のみをサンプリングすることを目的とする。
【解決手段】
試料の観察、サンプリング領域に電位制御が可能で導電性により形成された端子を接触させる機構を考案した。本機構は前記観察、サンプリング領域の周囲に接触する導電性の端子とこの端子の移動を精密に制御する動作機構と端子に電圧を印加するための電位制御機構と端子をアースおよび電位制御機構に接続する機構とから成り、前記端子を試料の近傍に接触させることにより観察、サンプリングの過程で生じる電荷をアース線を通して逃がすものである。 （もっと読む）

【課題】従来の処理方法では、前面板と背面板を分離する工程が必要であり、数多くのフラットディスプレイパネルを処理するには、不向きであった。また、設備面やエネルギー面においても多大な負荷がかかっていた。
【解決手段】背面板と前面板とが対向配置される配置面の外周を接着するシールガラスと、前面板および背面板の配置面側に備える表示部材と、放電空間にするために、背面板の対向配置面と反対の面に備える排気管を接着するシール材と、を含むようにプラズマディスプレイパネルの少なくとも一部を切断して切断断面を形成する切断ステップと、切断断面を蛍光Ｘ線で分析する分析ステップと、分析ステップによって切断された切断断面における鉛の有無を判別する判別ステップと、を備えるプラズマディスプレイパネルの鉛含有判別方法。 （もっと読む）

【課題】 半導体単結晶基板の結晶欠陥を、高感度に検出し精度良く評価することのできる半導体単結晶基板の結晶欠陥評価方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 半導体単結晶基板の結晶欠陥評価方法であって、少なくとも、前記半導体単結晶基板を水素雰囲気下８００〜１１００℃で熱処理した後、該熱処理した半導体単結晶基板の表面に顕在化した結晶欠陥の検出を行うことによって、前記半導体単結晶基板の結晶欠陥の評価を行うことを特徴とする半導体単結晶基板の結晶欠陥評価方法。 （もっと読む）

【課題】摩擦材の構成をより正確に解析可能な技術を提供する。
【解決手段】前記摩擦材を構成する材料とは異なる性質を有する所定の液体を、前記摩擦材の空隙に含ませる含浸ステップと、前記所定の液体を含む前記摩擦材からなる試料に対して所定のＸ線を照射し、前記空隙に存在する前記所定の液体の反応から、少なくとも前記空隙の位置に関する情報と形状に関する情報とのうち少なくともいずれか一方を含む摩擦材の構成情報を取得する構成情報取得ステップと、前記構成情報取得ステップで取得された前記構成情報に基づいて画像を生成する画像生成ステップと、を備える。 （もっと読む）