【課題】広い波長帯域の光から特定の波長を抽出可能な波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター５は、第一反射膜５５１及び第三反射膜５５３を有する第一基板５１と、第一反射膜５５１に第一ギャップＧ１を介して対向する第二反射膜５５２を有する第二基板５２と、第三反射膜５５３に第二ギャップＧ２を介して対向する第四反射膜５５４を有する第三基板５３と、第一ギャップＧ１を変更する静電アクチュエーター５６とを備え、平面視において各反射膜が重なる光干渉領域Ａｒ０を有し、第一及び第二反射膜５５１，５５２により構成される波長可変干渉部５７の複数の測定対象波長域のうちいずれか１つは、第三及び第四反射膜５５３，５５４により構成される波長固定干渉部５８の複数の透過可能波長域のうちのいずれか１つと重なる。 （もっと読む）

【課題】波長可変干渉フィルターにおける接続信頼性が高い分光測定装置を提供する。
【解決手段】分光カメラは、測定対象光が入射するテレセントリック光学系１１と、測定対象光のうち赤外光を第一光路Ｌ１に分離し、可視光を第二光路Ｌ２に分離する第一ダイクロイックミラー１２１と、第一光路Ｌ１内に配設され、固定反射膜を備えた固定基板、可動反射膜を備えた可動基板、及び電圧印加により可動基板を撓ませて反射膜間ギャップのギャップ量を変化させる静電アクチュエーターを備えた波長可変干渉フィルター５と、第一光路Ｌ１の赤外光及び第二光路Ｌ２の可視光を射出光路Ｌ３に射出する第二ダイクロイックミラー１２６と、測定対象光を撮像する撮像部１３とを具備した。 （もっと読む）

【課題】迅速なスペクトル特性の測定が可能な分光測定装置を提供する。
【解決手段】分光測定装置１は、固定反射膜を備えた固定基板、可動反射膜を備えた可動基板、及び電圧印加により可動基板を撓ませて反射膜間ギャップのギャップ量を変化させる静電アクチュエーターを備えた波長可変干渉フィルター５と、光量を検出するディテクター１１と、測定対象光のスペクトル特性を測定する制御部２０と、を備え、制御部２０は、静電アクチュエーターに駆動電圧を印加して反射膜間ギャップを変化させるフィルター駆動部２１と、ディテクター１１により検出される光量を取得する検出光量取得部２３と、検出された光量の遷移状態及び可動基板が有する固有振動周期に基づいて、可動基板の振動中心に対応した光量を目的光量として取得する目的光量取得部２４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】スペクトル合致度の高い擬似太陽光を照射することのできる擬似太陽光照射装置を提供する。
【解決手段】擬似太陽光照射装置１０１は、光源１と、光学フィルター部４と、光源１１と、光学フィルター部６と、光混合部５と、導光部材８と、光取り出し部９と、を備え、光混合部５にて合成された光源１からの光と光源１１からの光とが混在する波長領域において、光学フィルター部４、６は、透過率が略一定となるような透過特性を有している。 （もっと読む）

【課題】迅速な分光測定が可能な分光測定装置を提供する。
【解決手段】分光測定装置１は、固定反射膜を有する固定基板、可動反射膜を有する可動基板、固定反射膜及び可動反射膜の間の反射膜間ギャップのギャップ量を変更する静電アクチュエーターを備えた波長可変干渉フィルター５と、波長可変干渉フィルター５により取り出された光の光強度を検出する検出部１１と、静電アクチュエーターに対して連続的に変化するアナログ電圧を印加する電圧設定部２１及び電圧制御部１５と、静電アクチュエーターに印加された電圧を監視する電圧監視部２２と、電圧監視部２２により監視される電圧が所定の測定対象電圧になった際に検出部１１により検出された光強度を取得する光強度取得部２４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ノイズを含まず分光精度が高い光学フィルターデバイスを提供する。
【解決手段】光の反射特性および透過特性を有する一対の第１反射膜２５が設けられ、第１反射膜２５間のギャップ寸法を変位させることができる第１波長可変干渉フィルター２０と、光の反射特性および透過特性を有する一対の第２反射膜３５が設けられ、第２反射膜３５間のギャップ寸法を変位させることができる第２波長可変干渉フィルター３０と、を備え、第１波長可変干渉フィルター２０と同じ光軸上に、第２波長可変干渉フィルター３０が配置され、第１反射膜２５は誘電体多層膜、第２反射膜３５は金属膜で形成されている。 （もっと読む）

【課題】 信頼性の高い分光センサを得ることができる分光センサの製造方法を提供する。
【解決手段】 分光センサ１の製造方法は、ハンドル基板上に設けられた表面層をエッチングすることによりキャビティ層２１を形成する第１の工程と、第１の工程の後、キャビティ層２１上に第１のミラー層２２を形成する第２の工程と、第２の工程の後、第１のミラー層２２上に光透過基板３を接合する第３の工程と、第３の工程の後、キャビティ層２１からハンドル基板を除去する第４の工程と、第４の工程の後、ハンドル基板が除去されたキャビティ層２１上に第２のミラー層２３を形成する第５の工程と、第５の工程の後、第２のミラー層上に光検出基板４を接合する第６の工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 信頼性の高い分光センサを提供する。
【解決手段】 分光センサ１は、キャビティ層２１並びにキャビティ層２１を介して対向する第１及び第２のミラー層２２，２３を有し、所定の波長範囲の光を入射位置に応じて選択的に透過させる干渉フィルタ部２０と、第１のミラー層２２側に配置され、干渉フィルタ部２０に入射する光を透過させる光透過基板３と、第２のミラー層２３側に配置され、干渉フィルタ部２０を透過した光を検出する光検出基板４と、を備える。キャビティ層２１は、第１及び第２のミラー層２２，２３によって挟まれたフィルタ領域２４と、フィルタ領域２４から所定の距離をとってフィルタ領域２４を包囲する環状の包囲領域２５と、フィルタ領域２４の光検出基板４側の端部２４ｅと包囲領域２５の光検出基板４側の端部２５ｅとを接続する環状の接続領域２６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】反射膜の帯電を防止可能な波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター５は、固定基板５１と、可動基板５２と、固定基板５１に設けられた固定反射膜５４と、可動基板５２に設けられ、固定反射膜５４と反射膜間ギャップＧ１を介して対向する可動反射膜５５と、反射膜間ギャップＧ１を変化させる静電アクチュエーター５６と、可動基板５２にに設けられ、接地された可動電極５６２と、を備え、可動電極５６２は、平面視において、光干渉領域Ａｒ１を覆って可動基板５２に設けられ、可動反射膜５５は、可動電極５６２を介して可動基板５２に設けられ、固定反射膜５４は、可動電極５６２に電気的に接続された。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で所定の波長領域に於けるスペクトル画像を取得可能なスペクトル画像取得装置を提供する。
【解決手段】対物レンズを含む第１光学系４７，４８と、該第１光学系を介する光束の一部を選択的に通過させる光束選択部材５５と、該光束選択部材が物側焦点位置又は略物側焦点位置となる様配置されると共に干渉膜が形成され、前記光束選択部材の位置に応じて該光束選択部材を通過する光束の波長領域を選択する光学部材５８と、該光学部材へ光束を導く第２光学系４９と、前記光学部材により選択される波長領域の光を受光する撮像素子５２とを具備する。 （もっと読む）

【課題】精度の良い分光スペクトルを迅速に測定可能な分光測定装置、及び分光測定装置の制御方法を提供する。
【解決手段】分光測定装置１は、固定反射膜、可動反射膜、及び電圧印加により反射膜間ギャップのギャップ量を変化させる静電アクチュエーターを備えた波長可変干渉フィルター５と、光の光強度を検出するディテクター１１と、測定対象光の分光スペクトルを測定する制御回路部２０と、を備え、制御回路部２０は、ピーク対応ギャップ量を検出するピーク検出部２３と、静電アクチュエーターに印加する電圧を設定するフィルター駆動部２２と、分光スペクトルを測定する分光測定部２４とを備える。フィルター駆動部２２は、ギャップ量を、定間隔ギャップ量及びピーク対応ギャップ量に段階的に変化させ、分光測定部２４は、各定間隔ギャップ量、ピーク対応ギャップ量に対する光強度を取得する。 （もっと読む）

【課題】高速で予め定められた間隔の波長分解能で分光可能な顕微鏡用分光分析装置を提供する。
【解決手段】顕微鏡用分光分析装置において、試料から発する蛍光やラマン散乱光その他の光を平行光束にする第１の光学手段と、予め定められた透過波長帯域の光を透過する第１及び第２の可変バンドパスフィルタ手段と、光透過の光学板からなり、前記第１及び第２の可変バンドパスフィルタ手段によって生じる、蛍光やラマン散乱光その他の光の光軸における２次元平面の位置ずれ光軸調整手段と、透過波長帯域の試料から発する蛍光やラマン散乱光その他の光を撮像する２次元アレイ光検出手段と、前記２次元アレイ光検出手段の撮像のタイミングを制御し、第１及び第２の可変バンドパスフィルタ手段の透過波長帯域を変更するように第１及び第２の可変バンドパスフィルタ手段とを制御するとともに、前記光軸調整手段を制御する制御手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】微小な傾斜構造体を製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上方に第１の層を形成する工程（ａ）と、第１の層の上方に第２の層を形成する工程（ｂ）と、第２の層の上方に第３の層を形成する工程（ｃ）と、第３の層に、基板の面と交差する方向の端面を形成する工程（ｄ）と、第３の層の端面をエッチングし、第３の層の端面のエッチングによって露出した第２の層を順次エッチングするとともに、第２の層のエッチングによって露出した第１の層を順次エッチングする工程（ｅ）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】小型化可能な光学センサー及び電子機器等を提供すること。
【解決手段】光学センサーは、半導体基板１０に位置するフォトダイオード用の不純物領域３１、３２と、フォトダイオードの受光領域に対する入射光の波長を制限するための光バンドパスフィルター６１、６２と、フォトダイオードの受光領域に対する入射光の入射角度を制限するための角度制限フィルター４１、４２と、を含む。光バンドパスフィルター６１、６２は、フォトダイオード用の不純物領域３１、３２と角度制限フィルター４１、４２の間に位置し、角度制限フィルター４１、４２は、半導体プロセスによって形成された遮光物質（光吸収物質または光反射物質）によって形成される。 （もっと読む）

【課題】解析しようとする対象物に準じる多数のサンプルを測定した多数のスペクトルデータを用いる必要がないカラー画像解析装置を提供する。
【解決手段】ＲＧＢ抽出部２３１は、読取装置１０によって読み取られた被写体の画像データからＲＧＢデータを抽出する。パラメータ記憶部２４１は、ＲＧＢデータに基づいてスペクトルデータを生成するための変換行列を記憶している。スペクトル特性算出部２４２は、ＲＧＢデータと変換行列とを用いてスペクトル特性を算出して、スペクトルデータを生成する。パラメータ記憶部２４１が記憶している変換行列は、任意の複数のスペクトルデータから抽出した複数の抽出データ群を用いて生成した複数の変換行列から最も適した変換行列を選択したものである。 （もっと読む）

【課題】低コスト、高速、且つ小型化された分光光度計を提供する。
【解決手段】分光光度計は、円形アレイ状に配列された複数のＬＥＤ９０を含んでおり、各アレイは、パルス幅変調の使用によって確定される較正電力入力を有し、且つ、固有の蛍光燐光体被覆又はレンズの活用によって確定される固有の波長帯域を有している。ＬＥＤの内の少なくとも１つは、燐光体を含んでいない高エネルギーＵＶ ＬＥＤを備えている。分光光度計へと反射される光は、線形可変フィルター１１６と光検出器１１７を活用することによって所定の波長範囲に分割され、光検出器からのアナログ信号は、自動範囲設定利得技法を使用することによってデジタル値に変換される。 （もっと読む）

【課題】微小な傾斜構造体を製造する。
【解決手段】基板の上方に犠牲膜を形成する工程（ａ）と、犠牲膜の上方に第１の膜を形成する工程（ｂ）と、第２の膜であって、基板に接続された第１の部分と、第１の膜に接続された第２の部分と、上記第１の部分及び上記第２の部分の間に位置する第３の部分と、を含む第２の膜を形成する工程（ｃ）と、犠牲膜を除去する工程（ｄ）と、工程（ｄ）の後に第２の膜の上記第３の部分を曲げて、第１の膜を基板に対して傾斜させる工程（ｅ）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 入射光の偏光方位に偏りがなく、かつ、回折層の偏光依存性が高くても、高い回折効率が得られる透過型回折格子及びそれを用いた検出装置を提供すること。
【解決手段】 透過型回折格子１０は、偏光変換層２０と、偏光変換層の一面側に配置される第１回折層３０と、偏光変換層の他面側に配置される第２回折層４０と、を有する。第１回折層３０及び第２回折層４０は共に、第１方向Ａに沿って周期Ｐで配列される屈折率変調構造３２，４２を有し、かつ、ＴＥ偏光成分に対する回折効率がＴＭ偏光成分に対する回折効率よりも高い。 （もっと読む）

【課題】単純な構成で、被測定物からの光を拡散させることなく、被測定物から射出される光の位置および方位のムラを均一化して、被測定物の所定の領域の特性を測定する。
【解決手段】被測定物の所定の領域からの発散光束をコレクタレンズ５２により略平行光束とし、コレクタレンズの出射側の焦点位置近傍に配置された第１のフライアイレンズ５３により空間的に分割し、分割された光束を互いにコンデンサレンズ５４により重畳させて、受光部５６により所望の特性に関する信号を検出する。受光部５６は、特性に関する異なる成分特性を検出する複数の受光素子を含む。 （もっと読む）

【課題】対向する光学膜の貼り付きを防止する。
【解決手段】第１基板２０と、第１基板２０に対向する第２基板３０と、第１基板２０に設けられた第１光学膜４０と、第２基板３０に設けられ、第１光学膜４０と対向する第２光学膜５０と、を含み、第１光学膜４０は、所望波長帯域の光に対する反射特性および透過特性を有し、第１光学膜４０の最表面の誘電体膜４３は第１光学膜４０の周端部４３ａにおいて、第１光学膜４０に光が入射する光入射部４３ｂよりも厚みが厚く形成されている。 （もっと読む）